含有低光学折射率差的窗口层与发射区的多结太阳电池的制作方法

文档序号:11436655阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种含有低光学折射率差的窗口层与发射区的多结太阳电池,其特征在于,该多结太阳电池由若干个宽禁带、中禁带、窄禁带子电池级联组成,每个子电池都具有窗口层、发射区、基区和背场层,所述的发射区采用n型子电池主体材料,窗口层采用n型材料,该窗口层材料禁带宽度大于发射区电池主体材料,该窗口层材料与发射区电池主体材料禁带宽度差不小于0.50eV,500-900nm波长范围内光学折射率差不高于0.25。

2.如权利要求1所述的含有低光学折射率差的窗口层与发射区的多结太阳电池,其特征在于,所述的宽禁带子电池禁带宽度1.90-2.20eV,所述的中禁带子电池禁带宽度1.35-1.75eV,所述的窄禁带子电池禁带宽度0.60-1.20eV。

3.如权利要求1所述的含有低光学折射率差的窗口层与发射区的多结太阳电池,其特征在于,所述的发射区采用Si掺杂的n型的电池主体材料,厚度为40-100nm,掺杂浓度为1×1017~1×1018cm-3

4.如权利要求3所述的含有低光学折射率差的窗口层与发射区的多结太阳电池,其特征在于,所述的电池主体材料采用AlxGa1-xAs材料,其中,x=0.20~0.37。

5.如权利要求1所述的含有低光学折射率差的窗口层与发射区的多结太阳电池,其特征在于,所述的窗口层材料的禁带宽度大于电池主体材料,该窗口层材料的光学折射率与电池主体材料相近。

6.如权利要求5所述的含有低光学折射率差的窗口层与发射区的多结太阳电池,其特征在于,所述的窗口层采用Si掺杂的AlxGa1-xAs,其中,x=0.40~0.70。

7.如权利要求6所述的含有低光学折射率差的窗口层与发射区的多结太阳电池,其特征在于,所述的窗口层厚度为10-50nm,掺杂浓度为1×1018~5×1018cm-3

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