量测方法与流程

技术总结
提供一种用于半导体样品的布植剂量分布的量测方法。量测方法包含在半导体样品的三维结构中产生光调变效应且量测三维结构的反射信息。获得半导体样品的三维结构的几何形状信息。将三维结构的几何形状信息转换成估计反射数据。比较反射信息与估计反射数据以判定半导体样品的三维结构的布植剂量分布。

技术研发人员：洪英傑;林逸宏;周有伟
受保护的技术使用者：台湾积体电路制造股份有限公司
文档号码：201610928280
技术研发日：2016.10.31
技术公布日：2017.05.17