一种改善湿法刻蚀脏污的装置的制作方法

文档序号:11051034阅读:787来源:国知局
一种改善湿法刻蚀脏污的装置的制造方法

本实用新型涉及太阳能电池制造领域,尤其涉及一种改善湿法刻蚀脏污的装置。



背景技术:

常规的化石燃料日益消耗殆尽,在现有的可持续能源中,太阳能无疑是一种最清洁、最普遍和最有潜力的替代能源。太阳能发电装置又称为太阳能电池或光伏电池,可以将太阳能直接转换成电能,其发电原理是基于半导体PN结的光生伏特效应。太阳能发电装置的核心是电池片,目前绝大多数都采用硅片制成。

现有技术中,晶体硅太阳能电池的制备工艺主要包括:清洗、去损伤层、制绒、扩散制结、刻蚀、沉积减反射膜、印刷、烧结、电池片测试。其中,刻蚀是晶体硅太阳能电池生产过程中的一个重要工序,刻蚀后需要对硅片进行清洁,水洗槽对硅片进行的清洗、烘干槽对其烘干、最后通过出料槽中臭氧对硅片表面进行质改。出料槽中臭氧经常会倒灌至烘干槽,在硅片从水洗槽进入烘干槽时,硅片表面仍会残留少量水珠,水珠与臭氧发生反应,使硅片表面从疏水状态变为亲水状态,后行进至第一个垂直风刀口,被高温风刀吹干,镀膜烧结后就会在硅片表面形成条形脏污,当硅片表面亲水时,则出现更为严重的朦胧脏污。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种改善湿法刻蚀脏污的装置。

为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种改善湿法刻蚀脏污的装置,包括水洗槽、烘干槽和出料槽,硅片通过传送滚轮的传送依次通过水洗槽、烘干槽及出料槽,所述烘干槽中沿硅片的传送方向间隔设置有烘干风刀;

在所述烘干槽中第一道烘干风刀与水洗槽之间设置有隔断罩;

所述隔断罩上对应于硅片开设有避让窗口,隔断罩于硅片四周将水洗槽与烘干槽之间的通道密封。

上述方案中,所述隔断罩为中空结构。

优选地,所述中空结构的中空腔内设置有传送滚轮。

优选地,所述隔断罩具有两个侧壁,两个侧壁上均对应于硅片开设有所述避让窗口。

上述方案中,所述隔断罩上对应于硅片设置有吹风装置。

优选地,所述隔断罩上对应于所述吹风装置的出风口设置有进风口。

上述方案中,所述隔断罩边缘与烘干槽之间设置有密封条。

上述方案中,所述避让窗口的边缘与硅片之间的距离不大于硅片厚度的一半。

上述方案中,所述烘干槽中第一道烘干风刀与水洗槽之间设置有多个隔断罩。

由于上述技术方案运用,本实用新型与现有技术相比具有下列优点:

1.本实用新型通过增加隔断罩来隔断臭氧,使其不与硅片表面水珠接触,从而使得硅片表面水洗后仍处于疏水状态,这样可以有效减少刻蚀脏污,达到提升电池片良率的目标;

2. 本实用新型构思新颖,结构简单,适于推广。

附图说明

图1为本实用新型实施例一整体结构俯视图。

图2为本实用新型实施例一隔断罩截面示意图。

图3为本实用新型实施例一局部剖视图。

上述附图中:1、水洗槽;11、传送滚轮;2、烘干槽;21、烘干风刀;22、隔断罩;221、避让窗口;222、进风口;23、密封条;3、出料槽;4、硅片。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述:

实施例一:

参见图1、图2及图3所示,一种改善湿法刻蚀脏污的装置,包括水洗槽1、烘干槽2和出料槽3,硅片4通过传送滚轮11的传送依次通过水洗槽1、烘干槽2及出料槽3,所述烘干槽2中沿硅片4的传送方向间隔设置有烘干风刀21;

在所述水洗槽1与烘干槽2中第一道烘干风刀21之间设置有隔断罩22;

所述隔断罩22上对应于硅片4开设有避让窗口221,隔断罩22于硅片4四周将水洗槽1与烘干槽2之间的通道密封。

所述隔断罩22为中空结构。

所述中空结构的中空腔内设置有传送滚轮11。

所述隔断罩22具有两个侧壁,两个侧壁上均对应于硅片4开设有所述避让窗口221。

所述隔断罩22上对应于硅片4设置有吹风装置。

所述隔断罩22上对应于所述吹风装置的出风口设置有进风口222。

所述隔断罩22边缘与烘干槽2之间设置有密封条23。

所述避让窗口221的边缘与硅片4之间的距离不大于硅片4厚度的一半。

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