刻蚀装置及其使用方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示器件的制造领域，具体涉及一种刻蚀装置和一种该刻蚀装置的使用方法。
【背景技术】
[0002]阵列基板制造过程，主要分为清洗、成膜、曝光显影、刻蚀、剥离五大工艺。其中刻蚀工艺分为干法刻蚀和湿法刻蚀，湿法刻蚀被广泛用于金属薄膜及氧化物薄膜的刻蚀。湿法刻蚀工艺主要是指采用化学药液对刻蚀物进行去除的一种技术。对待刻蚀的基板进行湿法刻蚀时，通过化学药液与刻蚀物发生化学反应，把未被光刻胶覆盖的薄膜进行去除，从而实现电极图案化。
[0003]湿法刻蚀设备通常是利用酸性刻蚀液体通过喷嘴把刻蚀液喷淋到待刻蚀基板表面，与基板表面的膜层发生化学反应，从而达到刻蚀的目的。然而，实际生产过程当中，喷淋和挥发出的刻蚀液液滴会附着在刻蚀设备的盖板上，附着在刻蚀设备盖板上的刻蚀液液滴逐渐累积，形成越来越大的刻蚀液液滴，最终滴落在待刻蚀基板上，导致刻蚀不均，严重影响产品的良率。
【发明内容】
[0004]本发明的目的在于提供一种刻蚀装置和一种该刻蚀装置的使用方法，以防止刻蚀过程中刻蚀液滴滴落在基板上。
[0005]为了实现上述目的，本发明提供一种刻蚀装置，包括刻蚀腔室，其中，所述刻蚀装置还包括设置在所述刻蚀腔室内的液滴去除组件，所述液滴去除组件用于去除附着在所述刻蚀腔室顶壁上的液滴。
[0006]优选地，所述刻蚀腔室的顶部形成有维护入口，所述刻蚀装置包括盖板，所述盖板覆盖在所述维护入口上，以形成为所述刻蚀腔室的顶壁的至少一部分，所述液滴去除组件设置在所述盖板的朝向所述刻蚀腔室的表面上。
[0007]优选地，所述液滴去除组件包括刷片，所述刷片能够在刻蚀开始前或刻蚀结束后沿所述盖板的朝向所述刻蚀腔室的表面与所述盖板发生相对移动，以使得所述盖板的朝向所述刻蚀腔室的表面上的液滴被刷落至所述刻蚀腔室内。
[0008]优选地，所述液滴去除组件还包括至少一个传动机构，所述传动机构设置在所述盖板的朝向刻蚀腔室的表面上，所述传动机构包括主动轮、从动轮、套在所述主动轮和所述从动轮上的皮带，所述液滴去除组件还包括用于驱动所述主动轮转动的电机，所述刷片设置在所述皮带上，所述刷片的长度方向与所述皮带的延伸方向相交叉。
[0009]优选地，所述传动机构还包括安装件，所述安装件可拆卸地设置在所述皮带上，所述刷片固定在所述安装件上。
[0010]优选地，所述液滴去除组件包括两个间隔设置的所述传动机构，所述刷片的两端分别设置在两个传动机构的安装件上。
[0011]优选地，所述刻蚀装置还包括基板检测器件和控制器，所述基板检测器件用于检测基板位置，当所述基板检测器件检测到所述基板位于所述刻蚀腔室外部时，该基板检测器件能够向所述控制器发送开始信号，所述控制器根据所述开始信号控制所述电机开始运行。
[0012]优选地，所述传动机构能够带动所述刷片在第一预定位置和第二预定位置之间移动，所述液滴去除组件还包括用于检测所述刷片的位置的刷片检测器件，当所述刷片检测器件检测到所述刷片移动至所述第一预定位置或第二预定位置时，能够向所述控制器发送停止信号，所述控制器根据该停止信号控制所述电机停止运行。
[0013]优选地，所述位置检测器件包括设置在所述第一预定位置的第一传感器和设置在所述第二预定位置的第二传感器，当所述第一传感器检测到所述刷片到达所述第一预定位置时，所述第一传感器能够向所述控制器发送停止信号，当所述第二传感器检测到所述刷片到达所述第二预定位置时，所述第二传感器能够向所述控制器发送停止信号。
[0014]优选地，所述刻蚀装置还包括传输组件，用于将所述基板输入至所述刻蚀腔室中的预定区域，所述第一预定位置和所述第二预定位置所限定的区域的正投影至少覆盖所述预定区域的正投影。
[0015]相应地，本发明还提供一种刻蚀装置的使用方法，所述刻蚀装置为本发明提供的上述刻蚀装置，所述使用方法包括:
[0016]利用所述液滴去除组件去除附着在所述刻蚀腔室顶壁上的液滴。
[0017]优选地，所述刻蚀腔室的顶部形成有维护入口，所述刻蚀装置包括盖板，所述盖板覆盖在所述维护入口上，以形成为所述刻蚀腔室的顶壁的至少一部分，所述液滴去除组件设置在所述盖板的朝向所述刻蚀腔室的表面上，利用所述液滴去除组件去除附着在所述刻蚀腔室顶壁上的液滴的步骤包括:
[0018]利用液滴去除组件去除所述盖板的朝向所述刻蚀腔室的表面上的液滴。
[0019]优选地，所述液滴去除组件包括刷片，利用液滴去除组件去除所述盖板的朝向所述刻蚀腔室的表面上的液滴的步骤包括:
[0020]在刻蚀开始前或刻蚀结束后，控制所述刷片沿所述盖板的朝向所述刻蚀腔室的表面与所述盖板发生相对移动，以使得所述盖板上的液滴被刷落至所述刻蚀腔室内。
[0021]优选地，所述液滴去除组件还包括至少一个传动机构，所述传动机构设置在所述盖板的朝向刻蚀腔室的表面上，所述传动机构包括主动轮、从动轮、套在所述主动轮和所述从动轮上的皮带，所述液滴去除组件还包括用于驱动所述主动轮转动的电机，所述刷片设置在所述皮带上，所述刷片的长度方向与所述皮带的延伸方向相交叉，
[0022]控制所述刷片沿所述盖板的朝向所述刻蚀腔室的表面与所述盖板发生相对移动的步骤包括:
[0023]控制所述电机运行，以带动刷片沿所述盖板的朝向所述刻蚀腔室的表面移动。
[0024]优选地，所述刻蚀装置还包括基板检测器件和控制器，控制所述电机运行的步骤包括:
[0025]利用所述基板检测器件检测基板的位置，当所述基板检测检测器件检测到基板位于所述刻蚀腔室外部时，向所述控制器发送开始信号；
[0026]利用所述控制器根据所述开始信号控制所述电机开始运行。
[0027]优选地，所述液滴去除组件还包括用于检测所述刷片的位置的刷片检测器件，所述使用方法还包括:
[0028]利用所述刷片检测器件检测所述刷片的位置，当所述刷片检测器件检测到所述刷片移动至所述第一预定位置或第二预定位置时，向所述控制器发送停止信号；
[0029]利用所述控制器根据所述控制信号控制所述电机停止运行。
[0030]在本发明中，所述刻蚀腔内设置有液滴去除组件，可以将附着在刻蚀腔室顶壁上的液滴去除，从而减少了液滴滴落在基板表面的情况发生，进而改善了刻蚀效果，保证了产品的质量。
【附图说明】
[0031]附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的【具体实施方式】一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中:
[0032]图1是本发明的实施例中刻蚀装置的结构示意图；
[0033]图2是本发明的实施例中液滴去除组件的结构示意图；
[0034]图3是本发明的实施例中传动机构的结构示意图。
[0035]其中，附图标记为:1、喷淋单元；11、喷淋管；12、喷嘴；2、亥Ij蚀腔室；3、基板；4、传输组件；5、供液管路；6、回收管路；7、供液泵；8、储液罐；9、盖板；10、液滴去除组件；101、刷片;102、电机；103、传动轴；105、传动机构;105a、主动轮;105b、从动轮;105c、皮带；105d、安装件；106、第一传感器；107、第二传感器。
【具体实施方式】
[0036]以下结合附图对本发明的【具体实施方式】进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的【具体实施方式】仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
[0037]作为本发明的一个方面，提供一种刻蚀装置，包括刻蚀腔室，所述刻蚀装置还包括设置在所述刻蚀腔室内的液滴去除组件，所述液滴去除组件用于去除附着在所述刻蚀腔室顶壁上的液滴。
[0038]本发明的刻蚀装置尤其适用于湿法刻蚀中，湿法刻蚀过程中，刻蚀液喷淋或挥发后会在刻蚀腔室的顶壁附着一层液滴，当液滴聚集变大到一定程度后，会从顶壁上滴落。
[0039]在本发明中，所述刻蚀腔内设置有液滴去除组件10，可以将附着在刻蚀腔室顶壁上的液滴去除，从而减少了液滴滴落在基板表面的情况发生，减少了滴落的液滴对刻蚀效果的影响，进而保证了产品的质量。
[0040]为了便于对刻蚀腔室的清理和维