多晶硅薄膜、薄膜晶体管的制作方法、设备、显示基板与流程

文档序号:12965537阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供一种多晶硅薄膜、薄膜晶体管的制作方法、设备、显示基板。多晶硅薄膜的制作方法包括:在基板上沉积非晶硅薄膜;对所述非晶硅薄膜进行晶化处理,得到由非晶硅薄膜转换成的多晶硅过渡薄膜;使所述多晶硅过渡薄膜发生塑性形变,使所述多晶硅过渡薄膜存储形变能;对具有形变能的多晶硅过渡薄膜进行激光退火处理,使所述多晶硅过渡薄膜在激光退火过程中,受形变能驱动以发生再结晶转换为多晶硅薄膜。本发明的方案能够消除多晶硅薄膜中晶粒与晶界所存在的缺陷,在应用于薄膜晶体管的有源层时,可降低薄膜晶体管的漏电流,以保证显示画面的稳定驱动。

技术研发人员:李海旭;曹占锋;姚琪;张锋;党宁;高斐
受保护的技术使用者:京东方科技集团股份有限公司
技术研发日:2017.07.21
技术公布日:2017.11.21
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