本实用新型涉及射频离子源技术领域，尤其涉及一种新型射频离子源。
背景技术：
离子源，是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。但现有的射频离子源不能够调节，适用性差，不方便固定。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在不能够调节，适用性差等缺点，而提出的一种新型射频离子源。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
设计一种新型射频离子源，包括射频离子源本体和安装射频离子源本体的底座，所述底座的上侧中部横向开设有凹槽，所述凹槽内安装有直线电机，所述直线电机的上部安装有射频离子源本体，所述底座的上部一侧开设有与凹槽垂直的滑槽，所述底座靠近滑槽的两端均开设有第二螺孔，所述第二螺孔内均设置有调节螺杆，所述调节螺杆的上设置有限位螺母，所述限位螺母与底座连接，所述滑槽的中部固定安装有固定块，所述固定块的两侧均开设有安装孔，所述安装孔内均固定设置有轴承，两个所述调节螺杆远离限位螺母的一端均贯穿第二螺孔与轴承连接，所述滑槽靠近固定块的两侧均设置有调节块，两个调节块上均开设有第一螺孔，两个所述调节螺杆分别插设在两个第一螺孔内，两个所述调节块的上部均设置有固定装置，两个所述固定装置的顶部通过锁紧螺栓连接。
优选的，所述固定装置包括固定板，所述固定板的顶部均设置有连接块，所述连接块上均开设有通孔，两个所述通孔之间通过锁紧螺栓连接。
优选的，两块所述固定板均圆弧型结构。
优选的，所述凹槽的一端设置在滑槽的一侧中部。
本实用新型提出的一种新型射频离子源，有益效果在于：通过在底座的设备开设凹槽，在凹槽内安装直线电机，并将射频离子源本体安装在直线电机上，方便调节射频离子源本体与使用设备之间的距离，保证使用效果，通过在底座的上部一侧开设滑槽，在滑槽内安装两个可调节调节块，在调节块的上部安装固定装置，保证能够固定在不同时的设备上，适用性强，方便使用，本实用新型结构简单，方便使用，便于调节，能够适用不同设备安装使用。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种新型射频离子源的结构示意图；
图2为本实用新型提出的一种新型射频离子源的结构左视图。
图中：底座1、直线电机2、调节螺栓3、凹槽4、射频离子源本体5、调节块6、第一螺孔61、固定装置7、固定板71、连接块72、锁紧螺栓73、通孔74、轴承8、固定块9、滑槽10、限位螺母11、第二螺孔12、调节螺杆13。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1-2，一种新型射频离子源，包括射频离子源本体5和安装射频离子源本体5的底座1，底座1的上侧中部横向开设有凹槽4，凹槽4内安装有直线电机2，直线电机2的上部安装有射频离子源本体5，方便调节，保证使用效果。
底座1的上部一侧开设有与凹槽4垂直的滑槽10，凹槽4的一端设置在滑槽10的一侧中部，方便使用，便于调节射频离子源本体5与使用设备之间的距离。
底座1靠近滑槽10的两端均开设有第二螺孔12，第二螺孔12内均设置有调节螺杆13，调节螺杆13的上设置有限位螺母11，限位螺母11与底座1连接，滑槽10的中部固定安装有固定块9，固定块9的两侧均开设有安装孔，安装孔内均固定设置有轴承8，两个调节螺杆13远离限位螺母11的一端均贯穿第二螺孔12与轴承8连接，滑槽10靠近固定块9的两侧均设置有调节块6，两个调节块6上均开设有第一螺孔61，两个调节螺杆13分别插设在两个第一螺孔61内，两个调节块6的上部均设置有固定装置7，两个固定装置7的顶部通过锁紧螺栓73连接，固定装置7包括固定板71，两块固定板71均圆弧型结构，便于使用，固定板71的顶部均设置有连接块72，连接块72上均开设有通孔74，两个通孔74之间通过锁紧螺栓73连接，方便使用能够固定不同型号的设备，实用性强。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。