技术总结
本实用新型涉及一种离子注入设备，离子注入腔室的出气口连接组合泵组成尾气排放系统，出气口与组合泵之间的管道为硬管，该硬管为5mm厚的亚克力材质硬管，进气口边缘处设有挡板，挡板尺寸超过进气口的尺寸，可在待注入基板还未移动至出现中断的位置时，阻挡对已注入部分的再次注入，在待注入基板移动至出现中断的位置时，挡板取消阻挡作用，从而可对未注入部分进行补注入，由于在注入中断后，可仅对未注入部分进行补注入，因此可避免再对已注入部分进行离子注入而导致对TFT基板或半导体器件的电学特性的影响，保证了注入剂量，因而保证了产品良率。
技术研发人员：王开军
受保护的技术使用者：苏州同冠微电子有限公司
技术研发日：2018.07.11
技术公布日：2019.02.22