一种显示面板及显示装置的制作方法

本实用新型涉及显示装置技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示装置。

背景技术：

在AMOLED(Active-matrix organic light-emitting diode，有源矩阵有机发光二极体)产品生产中，一般我们会将显示面板的焊接区的PLN(planarization，平坦层)和ILD(Inter Layer Dielectric，层间介质层)挖槽，露出位于底部的金属走线，以与IC(Integrated Circuit，集成电路)的金手指Bonding(绑定)，从而保证在IC Bonding工艺后，IC驱动信号能够顺利写入显示面板。然而，在现有的结构中，PLN和ILD挖槽的开口大小一致，断差重叠，这样会导致PLN与底层ILD之间的附着力不足，在后续清洗工艺中，断差处容易发生PLN脱落，这样焊接区的PLN可能会脱落至AA区，导致AA区出现暗点不良现象。

技术实现要素：

本实用新型的实施例提供一种显示面板及显示装置，能够解决现有技术中由于位于非显示区域的层间介质层与平坦层之间的附着力不足而导致的平坦层容易脱落至显示区域，造成显示区域出现暗点不良的问题。

为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：

一方面，本实用新型实施例提供一种显示面板，包括基底；还包括：设置在所述基底的非显示区域上的层间介质层；所述层间介质层具有第一沟槽；设置在所述层间介质层上的平坦层；所述平坦层上对应所述第一沟槽的位置具有第二沟槽；所述第二沟槽的开口尺寸大于所述第一沟槽的开口尺寸。

可选的，所述第二沟槽在所述基底上的正投影覆盖所述第一沟槽在所述基底上的正投影。

可选的，所述平坦层的制作材料为光刻胶。

可选的，当所述平坦层固化后，所述第二沟槽的底部在所述基底上的正投影与所述第一沟槽在所述基底上的正投影重合。

可选的，所述平坦层的厚度为1.5微米～2.5微米。

可选的，所述层间介质层的厚度为2000埃米～5000埃米。

可选的，所述层间介质层的制作材料为氧化硅和/或氮化硅。

另一方面，本实用新型实施例提供一种显示装置，包括上述任意一种所述的显示面板。

本实用新型实施例提供的显示面板及显示装置，所述显示面板包括基底；还包括：设置在基底的非显示区域上的层间介质层；层间介质层具有第一沟槽；设置在层间介质层上的平坦层；平坦层上对应第一沟槽的位置具有第二沟槽；第二沟槽的开口尺寸大于第一沟槽的开口尺寸。相较于现有技术，本实用新型实施例提供的显示面板通过设置平坦层上的第二沟槽的开口尺寸大于层间介质层上的第一沟槽的开口尺寸，使得平坦层断差与层间介质层断差不重叠，这样即使平坦层固化后，在断差处形成多出一截的缓坡状结构，该缓坡状结构仍能够粘着在层间介质层上，这样降低了平坦层脱落的风险，有效改善了由于平坦层脱落至显示区域而导致的显示区域出现暗点不良的问题，提升了产品的良率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为相关技术提供的显示面板结构示意图一；

图2为相关技术提供的显示面板结构示意图二；

图3为相关技术提供的显示装置结构示意图；

图4为本实用新型实施例提供的显示面板结构示意图一；

图5为本实用新型实施例提供的显示面板结构示意图二。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型实施例提供一种显示面板，如图4所示，包括基底11；还包括：设置在基底11的非显示区域上的层间介质层12；层间介质层12具有第一沟槽121；设置在层间介质层12上的平坦层13；平坦层13上对应第一沟槽121的位置具有第二沟槽131；第二沟槽131的开口尺寸d2大于第一沟槽121的开口尺寸d1。

其中，第一沟槽121和第二沟槽131均为无底的沟槽。通过在层间介质层12设置第一沟槽121和在平坦层13上设置第二沟槽131，可以使位于平坦层13和层间介质层12下方的金属走线露出，以便与IC或FPC进行电连接。

在相关技术中，参考图1所示，基底01上形成有层间介质层02和平坦层03，平坦层03一般选用的材质为PR胶(也称光刻胶)，平坦层03挖槽后，在进行固化工艺时，由于PR胶的液体流动性，会在挖槽边缘区域形成缓坡状结构，参见图2所示，由于平坦层03和层间介质层02挖槽开口大小一致，此时，缓坡状结构相对于层间介质层02悬空，这样导致平坦层03和层间介质层02粘着力不足，在后续清洗工艺中，很容易造成位于焊接区(也称PAD区)的平坦层03脱落至显示区域(也称AA区)，进而导致显示区域出现暗点不良现象，可参见图3所示。

在本实用新型实施例中，参考图4所示，由于平坦层13上的第二沟槽131的开口尺寸d2大于层间介质层12上的第一沟槽121的开口尺寸d1，即平坦层13在第二沟槽131处短了一截，这样为用于制作平坦层13的光刻胶在后续固化时形成的缓坡状结构预留了一些空间，使得该缓坡状结构能够与下方的层间介质层12粘着，参见图5所示，降低了平坦层13的脱落风险。

需要说明的是，本实用新型实施例对于层间介质层12上的第一沟槽121的开口尺寸d1和平坦层13上的第二沟槽131的开口尺寸d2的具体数值不做限定，本领域技术人员可以根据实际情况进行设定。

这样一来，相较于现有技术，本实用新型实施例提供的显示面板通过设置平坦层上的第二沟槽的开口尺寸大于层间介质层上的第一沟槽的开口尺寸，使得平坦层断差与层间介质层断差不重叠，这样即使平坦层固化后，在断差处形成多出一截的缓坡状结构，该缓坡状结构仍能够粘着在层间介质层上，这样降低了平坦层脱落的风险，有效改善了由于平坦层脱落至显示区域而导致的显示区域出现暗点不良的问题，提升了产品的良率。

在本实用新型的一些实施例中，参考图4所示，第二沟槽131在基底11上的正投影覆盖第一沟槽121在基底11上的正投影。这样在第二沟槽131的两侧均预留了一定空间，使得平坦层13固化后在第二沟槽131的两侧多出的缓坡状结构均能与其下的层间介质层12粘着，这样降低了平坦层13脱落的风险。

在本实用新型的另一些实施例中，参考图5所示，当平坦层13加热固化后，第二沟槽131的底部在基底11上的正投影与第一沟槽121在基底11上的正投影重合。这样可以使得平坦层13与层间介质层12之间的接触面积最大，粘着力最强，从而进一步防止平坦层13脱落。

本实用新型实施例对于层间介质层12和平坦层13的制作材料、设置厚度等均不做限定，在实际应用中，平坦层13的制作材料通常为光刻胶，平坦层13的厚度为1.5微米～2.5微米，一般为2微米即可；层间介质层12的制作材料通常为氧化硅和/或氮化硅，层间介质层12的厚度为2000埃米～5000埃米，示例的，层间介质层12可以包括氧化硅层和氮化硅层两层结构，氧化硅层的厚度可以设置为3000埃米，氮化硅层的厚度可以设置为2000埃米。

本实用新型另一实施例提供一种显示装置，包括上述任意一种所述的显示面板。所述显示装置可以为OLED显示装置，也可以为LCD显示装置，本实用新型实施例对此不做限定。

由于本实用新型实施例提供的显示面板设置平坦层上的第二沟槽的开口尺寸大于层间介质层上的第一沟槽的开口尺寸，使得平坦层断差与层间介质层断差不重叠，这样即使平坦层固化后，在断差处形成多出一截的缓坡状结构，该缓坡状结构仍能够粘着在层间介质层上，这样降低了平坦层脱落的风险，有效改善了由于平坦层脱落至显示区域而导致的显示区域出现暗点不良的问题，提升了产品的良率。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。