1.一种用于衬底处理系统的衬底支撑件，所述衬底处理系统被设置成在衬底上执行沉积工艺，所述衬底支撑件包含：
基座，其具有被设置成支撑衬底的上表面；以及
n个加热层，其中所述n个加热层在所述基座内在所述上表面下方竖直堆叠，且其中所述n个加热层中的每一者包含各自的电阻加热元件，
其中在所述n个加热层中的至少一者中的所述电阻加热元件的瓦特密度在所述衬底支撑件的至少一径向区中相对于所述衬底支撑件的其他径向区而变化。
2.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述电阻加热元件中的每一者包含电阻线圈。
3.根据权利要求2所述的衬底支撑件，其中所述电阻线圈中的至少一者具有与所述电阻线圈中的其他不同的间距。
4.根据权利要求2所述的衬底支撑件，其中所述电阻线圈中的每一者具有相同的间距。
5.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中在所述n个加热层中的至少两者中的所述电阻加热元件在竖直方向上对准。
6.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述瓦特密度在所述衬底支撑件的外部区中变化。
7.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述瓦特密度在所述衬底支撑件的内部区中变化。
8.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述电阻加热元件中的每一者被设置成接收提供至所有的所述n个加热层的整体功率总和的1/n。
9.根据权利要求1所述的衬底支撑件，其中所述各自的电阻加热元件中的每一者的直径是所述衬底支撑件的所述上表面的直径的90-99％。
10.一种包含根据权利要求1所述的衬底支撑件的系统，其还包含控制器，所述控制器被设置成基于在所述n个加热层中的相应的加热层之间的所期望的功率比来控制提供到所述n个加热层的功率。
11.一种系统，其包含：
衬底支撑件，其被设置成在沉积工艺期间支撑衬底，所述衬底支撑件包含
基座，其具有被设置成支撑衬底的上表面；以及
n个加热层，其中所述n个加热层在所述基座内在所述上表面下方竖直堆叠，且其中所述n个加热层中的每一者包含各自的电阻加热元件；以及
控制器，所述控制器被设置成基于在所述n个加热层中的相应的加热层之间的所期望的功率比来控制提供到所述n个加热层的功率。
12.根据权利要求11所述的系统，其中所述电阻加热元件中的每一者包含电阻线圈。
13.根据权利要求12所述的系统，其中所述电阻线圈中的至少一者具有与所述电阻线圈中的其他不同的间距。
14.根据权利要求12所述的系统，其中所述电阻线圈中的每一者具有相同间距。
15.根据权利要求11所述的系统，其中在所述n个加热层中的至少两者中的所述电阻加热元件在竖直方向上对准。
16.根据权利要求11所述的系统，其中在所述n个加热层中的至少一者中的所述电阻加热元件的瓦特密度在所述衬底支撑件的至少一径向区中相对于所述衬底支撑件的其他径向区而变化。
17.根据权利要求16所述的系统，其中所述瓦特密度在所述衬底支撑件的外部区中变化。
18.根据权利要求16所述的系统，其中所述瓦特密度在所述衬底支撑件的内部区中变化。
19.根据权利要求11所述的系统，其中所述电阻加热元件中的每一者被设置成接收提供至所有的所述n个加热层的整体功率总和的1/n。
20.根据权利要求11所述的系统，其中所述各自的电阻加热元件中的每一者的直径是所述衬底支撑件的所述上表面的直径的90-99％。