引线框架用复合材料的制作方法

文档序号:6792654阅读:236来源:国知局
专利名称:引线框架用复合材料的制作方法
技术领域
本发明属LC(集成电路)引线框架用复合材料领域。
引线框架材料是现代电子工业不可缺少的材料。引线框架材料的发展大致经历了从Fe-Ni-Co可代合金到FeNi42合金再到铜合金的三个阶段。集成电路的发展对引线框架材料的性能提出了更高的要求,即在具有高的强度的同时又具有高导电导热性。80年代初,美国德克萨斯仪器分司开发了铜包不锈钢引线框架材料,它是在铁素体430不锈钢芯层的两面复以高纯铜.其厚度比是10%铜80%430不锈钢/l0%铜,其导热率达到98.7w/mk,其导电率达到37.41%1ACS,其抗拉强度达到621MPa,约为铜合金CDA194的1.4倍。但是,由于430不锈钢的导热性较差,使得这种复合材料的导热率仅只有铜合金CDA194的2/5,而且,由于这种材料冲制引线框架后余下的边角料难以回收利用,致使制取单片引线框架的成本远高于铜合金。见(Copper-cladstainless stell outperforms other lead-Frame materials.International semiconductor,1982,3)本发明的目的是提供一种经爆炸焊接+热轧+冷轧工艺制得导热率高,价格低的复合引线框架材料的材料种类及配比。
本发明所采用技术方案是选用T3工业纯铜板(铜含量99.7%)、国产Q195铜板(含C 0.06~0.12%、Mn0.25~0.5%、Si≤0.03%、S≤0.05%、P≤0.045%、Fe余量)。各层和的厚度比是Cu 10~15%∶Q195 70~80%∶Cu 10~15%,经铜板、钢板的表面处理→爆炸焊接→热轧→冷轧工艺制得,复合材料成品厚度为0.2~0.4mm。
本发明所得到的Cu/Q195/Cu复合材料的机械物理性能同美国Cu/SS430/Cu相当,但其导热率约为Cu/SS430/Cu复合材料的2倍,使复合材料的导热性能相应得到改善、提高,且Cu/Q195/Cu复合材料的成本仅为Cu/SS430/Cu的一半。
实施例选用厚度比为Cu∶Q195∶Cu=12.5%∶75%∶12.5%的纯铜板和Q195钢,铜板和钢板分别经表面处理后,采用爆炸焊接+热轧+冷轧工艺,使其成为在Q195钢层的两面各包复一薄层纯铜的成品厚度为0.2mm的复合材料,复合材料性能对比如下
Cu/Q195/Cu复合材料主要用于制做集成电路引线框架。
权利要求
1.一种铜钢铜复合材料,其特征是芯层为Q195钢板,在Q195钢层的两面各复一纯铜层。
2.根据权利要求1所述的铜钢铜复合材料,其特征是三层的厚度比是Cu∶Q195∶Cu=10~15%∶70~80%∶10~15%。
全文摘要
本发明涉及一种集成电路引线框架用复合材料,其特征是选用纯铜Q195材料,厚度比是Cu∶Q195∶Cu=10~15%∶70~80%∶10~15%,经爆炸焊接、热轧、冷轧工艺,制得在Q195钢层的两面各包覆上一薄层纯铜,成品厚度为0.2~0.4mm,此Cu/Q195/Cu复合材料同美国的Cu/SS430/Cu复合材料相比,机械物理性能与之相当,其导热率约高出2倍,而成本则降低一半,这种复合材料主要用做冲制集成电路引线框架。
文档编号H01L23/495GK1114468SQ9411103
公开日1996年1月3日 申请日期1994年6月14日 优先权日1994年6月14日
发明者张沪, 张福勤, 屈菊兰, 文洁 申请人:冶金工业部长沙矿冶研究院
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