50中。同样，将清洁空气供应到框架50的内部使得清洁空气在框架50内向下流动(S卩，从上到下)的风机过滤单元(FFU)(未示出)可设置在框架50中。
[0029]用于处理衬底的预定过程在处理装置2中实施。处理装置2包括衬底传输模块102、负载锁定腔室106和衬底处理模块110。当从上方观察时，衬底传输模块102大致具有多边形形状，并且，该负载锁定腔室106和衬底处理模块110安装在衬底传输模块102的侧面。
[0030]负载锁定腔室106被定位在衬底传输模块102的多个侧面中的与EFEM3相邻的一侧。衬底被临时地保持在负载锁定腔室106内并被装载到处理装置2中以进行处理，在完成该处理之后，衬底被从处理装置2卸载并临时地保持在负载锁定腔室106内。衬底传输模块102和衬底处理模块110的内部被保持处于真空状态，并且负载锁定腔室106被改变以处于真空状态或具有大气压力。负载锁定腔室106防止外部污染物被引入到衬底传输模块102和衬底处理模块110的内部。此外，当传输衬底时，衬底不暴露于空气中，防止了氧化膜在衬底上的生长。
[0031]在负载锁定腔室106和衬底传输模块102之间以及在负载锁定腔室106和EFEM 3之间安装有闸门阀(未示出)。当在EFEM 3和负载锁定腔室106之间传输衬底时，设置在负载锁定腔室106和衬底传输模块102之间的闸门阀被关闭，并且当在负载锁定腔室106和衬底传输模块102之间传输衬底时，设置在负载锁定腔室106和EFEM 3之间的闸门阀被关闭。
[0032]衬底传输模块102包括衬底传输机械手104。衬底传输机械手104在负载锁定腔室106和衬底处理模块110之间传输衬底。当衬底传输模块102传输衬底时，衬底传输模块102被气密地密封，以维持真空。维持真空是为了防止衬底暴露于污染物(如，02、颗粒物等)。
[0033]衬底处理模块110被设置为将薄膜沉积在衬底上。图1示出了三个衬底处理模块110，但本发明不限于此，而是可以提供四个或更多个衬底处理模块110。此外，可在衬底传输模块102的侧面上安装实施不同过程(例如，清洗或蚀刻)的模块。
[0034]图2是示意性地示出了图1所示的衬底处理模块的视图，并且图3是沿图2的线A-A截取的剖视图。如图2所示，衬底处理模块110包括腔室120，该腔室120具有通道130，通道130允许衬底W经由该通道130进入和离开。腔室120提供了处理空间，并且在该处理空间内实施衬底W的处理。分隔件122安装在腔室120内，并且腔室120的处理空间由该分隔件122分隔成第一处理空间120a和第二处理空间120b。
[0035]腔室120可具有形成在其一侧的通道130，并且衬底W经由该通道130进入腔室120。S卩，第一通道131形成在腔室120的对应于第一处理空间120a的一侧，并且第二通道132形成在腔室120的对应于第二处理空间120b的一侧。闸门阀170可安装在第一和第二通道131和132的外侧，并且第一和第二通道131和132可由闸门阀170打开或关闭。如上所讨论的，衬底传输机械手104与衬底W —起经由第一和第二通道131和132移动到腔室120的内部，将衬底W安装在如下所述的升降销161或叉155的上端上，并从腔室120移动通过第一和第二通道131和132。这里，第一和第二通道131和132由闸门阀170被打开。
[0036]如图2和3所示，多个基座140安装在腔室120内。第一和第二基座141和142被顺序地设置成在衬底W被引入的方向上平行。第一基座141设置在与第一通道131对应的位置，并且第二基座142相对于第一基座141向内设置。此外，第三和第四基座143和144被顺序地设置成在衬底W被引入的方向上平行。第三基座143设置在与第二通道132对应的位置，并且第四基座144相对于第三基座143向内设置。
[0037]衬底W通过衬底传输机械手104移动到腔室120的内部，并且当实施该过程时，衬底W放置在第一至第四基座141、142、143和144上。第一至第四基座141、142、143和144由支撑轴146支撑，并且支撑轴146固定到腔室120的下表面。
[0038]如图2所示，第一基座141和第三基座143分别定位在第一通道131和第二通道132的前面(即，衬底W通过通道131和132被引入腔室120的内部的部分)。在每个基座上放置单个衬底W的状态下开始处理，这里，该处理可分别同时在衬底W上实施。因此，可对四个衬底W完成处理，由此可提高生产率。
[0039]同时，如上所述，衬底W可经由衬底传输机械手104传输到腔室120的内部，该衬底传输机械手104将衬底W放置在升降销161或叉155上。
[0040]如图2和6所述，支架150的叉155可经由臂156连接到旋转轴157，并且可基于旋转轴157的中心(或腔室120的预设位置)旋转。在这里，叉155可具有围绕衬底W的边缘的圆弧形状，具体地弧形形状(或扇形)。此外，该扇形可具有180度或更大的中心角(central angle)，以在衬底W被拾起和传输时提供稳定性。旋转轴157穿过通过腔室120的下壁，安装在腔室120的预设中心中，并在该预设中心上旋转。旋转轴157连接到支架驱动模块159，并且通过支架驱动模块159被提升或降低和旋转。支架151和152与旋转轴157 一起被提升和降低以及旋转。支架驱动模块159固定到支撑板158，该支撑板158固定地安装在腔室120的下壁上。
[0041]旋转轴157设置在腔室120的内部空间中。旋转轴157在基于衬底W进入和离开通道130的方向的腔室120的宽度方向上定位在腔室120的端部处，并且在腔室120的纵向方向上设置在腔室120的中心。例如，腔室120的第一处理空间120a具有与在衬底进入第一通道131的方向上的第一处理空间120a的宽度相等的宽度，以及在垂直于进入方向的方向上的第一处理空间120a的长度。这里，第一旋转轴157a设置在第一处理空间120a的长度的中心并设置在第一处理空间120a的宽度的两端处。从第一旋转轴157a到第一基座141的中心的距离与从第一旋转轴157a的中心到第二基座142的中心的距离可以相等。因此，连接到第一旋转轴157a的第一支架151可将衬底W从第一基座141精确地移动到第二基座142。在第一旋转轴157a和第一基座141之间的距离可以小于第一处理空间120a的宽度。到目前为止，已经描述了第一旋转轴157a，这里，安装在第二处理空间120b中的第二旋转轴157b可具有与第一旋转轴157a相同的结构和操作效果。
[0042]第一和第二支架151和152可通过旋转而分别定位在第一和第二通道131和132的前面(“备用位置”)，或可定位在第一和第二通道131和132的后面(“输送位置”)。BP，第一和第二支架151和152可旋转以放置在对应于第一和第三基座141和143的备用位置或对应于第二和第四基座142和144的输送位置。衬底传输机械手104可将衬底W放置在第一和第三基座141和143的升降销161的上端上。此外，衬底传输机械手104还可将衬底W放置在定位在备用位置中的第一和第二支架150上，这里，衬底W被放置在如下描述的支撑销155a的上表面上。在接收衬底W后，支架150可旋转以从备用位置移动到输送位置。
[0043]同时，当支架150移动到输送位置时，放置有衬底W的支架151和152可不定位在第一和第三基座141和143中。这里，分别设置在第一和第三基座141和143下方的升降销161以贯穿的方式穿过通孔145以从衬底传输机械手104接收衬底W。以该方式，多个衬底W可放置在第一至第四基座141、142、143和144上。以下将详细描述升降销161的操作。
[0044]此外，衬底W可放置在第一至第四基座141、142、143和144上，或在支架151和152上升和下降时与第一到第四基座141、142、143和144的支撑表面147分离。以下将详细描述支架151和152的上升或下降。
[0045]如图2和3所示，腔室120具有形成在其底部表面的边缘上的至少一个排气口124，并且所述至少一个排气口 124设置在基座141、142、143和144的外侧。当实施处理时，副产物和未反应气体通过所述至少一个排气口 124