发光显示器的像素界定层及其制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种发光显示器的像素界定层及其制作方法。
【背景技术】
[0002]OLED (有机发光二极管)的成膜方式主要有蒸镀制程和溶液制程。蒸镀制程在小尺寸应用较为成熟，目前该技术已经应用于量产中。而溶液制程OLED成膜方式主要有喷墨打印、喷嘴涂覆、旋涂、丝网印刷等，其中打印技术由于其材料利用率较高、可以实现大尺寸化，被认为是大尺寸OLED实现量产的重要方式。
[0003]喷墨打印工艺需要预先在基板的电极上制作像素界定层(Bank)，以限定墨滴准确的流入指定的子像素区，其中像素界定层上表面要求表面能较小的疏液型材料，从而保证墨滴不会溢出像素外造成像素间的混色；同时像素界定层的倾斜面上要求表面能大的亲液型材料，保证液体在像素内导电玻璃上铺展而不会有小孔。
[0004]目前的正梯形像素界定层，像素界定层疏水处理后有机层的铺展效果较差，在导电玻璃与像素界定层的边缘会出现未铺展的区域，蒸镀阴极后容易致阴阳极短路，造成漏电。而倒梯形像素界定层会使墨水在像素内的铺展变好，但是会造成阴极不连续发光面积缩小的现象，要避免这种现象，需增加额外的膜厚，或将阴极镀得很厚。在正梯形的基础上制备双层像素界定层可以避免单层像素界定层中的阴阳极短路现象，但同时有可能造成发光面积缩小的现象。
[0005]目前的打印工艺需要预先在基板的电极上制作像素界定层，以限定墨滴准确的流入指定的子像素区，其中，像素界定层上表面要求表面能较小的疏液型材料，保证墨滴不会溢出像素外造成像素间的混色；同时像素界定层的倾斜面上要求表面能大的亲液型材料，保证液体在像素内导电玻璃上铺展。另外发光显示器的发光效率也是目前材料瓶颈问题。
【发明内容】
[0006](一 )要解决的技术问题
[0007]本发明的目的是提供一种保证像素内的墨水不会溢流到像素外部造成相邻子像素间的混色的发光显示器的像素界定层及其制作方法。
[0008]( 二 )技术方案
[0009]为了解决上述技术问题，本发明提供一种发光显示器的像素界定层，所述像素界定层设于基板的导电层上，其包括基膜层，所述基膜层具有多个与各子像素单元发光区域相对应的开口，相邻所述开口之间形成间隔基体；每个所述间隔基体的上表面具有疏水性量子点材料，每个所述开口的侧壁具有亲水性量子材料。
[0010]其中，所述间隔基体的纵截面为正梯形或者倒梯形。
[0011]其中，所述间隔基体的高度为0.1?100 μm。
[0012]其中，所述间隔基体的高度为0.5?5ym。
[0013]其中，每个所述开口的底壁具有亲水性量子点材料。
[0014]本发明提供一种发光显示器的像素界定层的制作方法，包括以下步骤:
[0015]SI，提供一个基板，在基板的导电层上涂覆一层光刻胶，曝光、显影、光刻刻蚀出多个与各子像素单元发光区域相对应的开口，使相邻的开口之间具有间隔基体，形成基膜层；
[0016]S2，在间隔基体的上表面喷涂疏水性量子点材料，在开口的侧壁或在开口的侧壁及底壁喷涂亲水性量子点材料；或者
[0017]在间隔基体的上表面和开口的侧壁喷涂亲水性量子点材料或者在间隔基体的上表面和开口的侧壁及底壁均喷涂亲水性量子点材料，将位于间隔基体的上表面的亲水性量子点材料改变成疏水性量子点材料；或者
[0018]在间隔基体的上表面和开口的侧壁喷涂疏水性量子点材料或者在间隔基体的上表面和开口的侧壁及底壁均喷涂疏水性量子点材料，将位于开口的侧壁或者开口的侧壁及底壁的疏水性量子点材料改变成亲水性量子点材料。
[0019]其中，所述步骤SI中，光刻胶采用负性光刻胶，曝光、显影、光刻刻蚀形成间隔基体，间隔基体的纵截面为倒梯形。
[0020]其中，所述步骤SI中，光刻胶采用正性光刻胶，曝光、显影、光刻刻蚀形成间隔基体，间隔基体的纵截面为正梯形。
[0021]其中，所述步骤S2中，使用置换官能基、超声乳化法或者光照的方式将疏水性量子点材料改变成亲水性量子点材料；或者使用置换官能基的方法将亲水性量子点材料改变成疏水性量子点材料。
[0022]其中，所述步骤SI中，基板采用导电玻璃。
[0023](三)有益效果
[0024]本发明提供的发光显示器的像素界定层及其制作方法，像素界定层包括基膜层，基膜层上的开口的侧壁或者开口的侧壁和底壁涂布有亲水性量子点材料，而间隔基体的上表面涂布有疏水性量子点材料，既能保证子像素内的墨水不会溢流到子像素外部造成相邻子像素间的混色，同时与其他双层像素界定层相比，不会造成像素内部发光面积的减小，且透过选择合适的量子点材料，更可以将光色效率提升，不仅利于制程简易更可大面积制作。量子点的材质可依据实际器件状况而改变。
【附图说明】
[0025]图1为本发明的像素界定层的实施例的俯视图；
[0026]图2为图1中沿A-A方向的剖视图；
[0027]图3为本发明的像素界定层制作方法的实施例的流程图；
[0028]图4为本发明的像素界定层制作方法的实施方式一涂布正性光刻胶的剖视图；
[0029]图5为本发明的像素界定层制作方法的实施方式一制作出的基膜层的剖视图；
[0030]图6为本发明的像素界定层制作方法的实施方式一制作出的像素界定层的剖视图；
[0031]图7为本发明的像素界定层制作方法的实施方式一制作出的像素界定层另一优选方式的剖视图；
[0032]
[0033]
[0034]
[0035]图8为本发明的像素界定层制作方法的实施方式二涂布正性光刻胶的剖视图；
[0036]图9为本发明的像素界定层制作方法的实施方式二制作出的基膜层的剖视图；
[0037]图10为本发明的像素界定层制作方法的实施方式二制作出的像素界定层的剖视图。
[0038]图中，1:基板；2:基膜层；3:开口 ；4:间隔基体；5:疏水性量子点材料；6:亲水性量子点材料。
【具体实施方式】
[0039]下面结合附图和实施例，对本发明的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
[0040]一般来说，像素单元具有红色R、绿色G和蓝色B3个子像素单元或者红色R、绿色G、蓝色B、和白色4个子像素单元。图1示出了一种像素界定层的俯视图，图中示出了一个像素的像素界定层，其具有三个开口，分别用于容纳红色R、绿色G和蓝色B三种黑滴，形成一个具有3个子像素的像素单元。图2为图1中A-A部分的像素界定层的剖视图，如图1和2所示，本发明的发光显示器的像素界定层，像素界定层设于基板I的导电层上，像素界定层包括基膜层2，基膜层2具有多个与各子像素单元发光区域相对应的开口 3，相邻开口3之间形成间隔基体4。每个间隔基体4的上表面具有疏水性量子点材料5，每个开口 3的侧壁具有亲水性量子材料6。间隔基体4的纵截面可以正梯形或者倒梯形。
[0041]进一步的，开口 3的底壁也具有亲水性量子点材料6。需要说明的是，开口 3的底壁为基板I的导电层的表面。
[0042]进一步的，如图1所不，间隔基体4的尚度H为0.1?100 μ m，进一步优选间隔基体4的高度H取0.5?5μπι。如间隔基体的高度H可以取0.1,0.5、5、10、20、50和10ym0
[0043]使用本发明的发光显示器的像素界定层制造发光显示器，既能保证子像素内的墨水不会溢流到子像素外部造成相邻子像素间的混色，又能保证墨水在子像素内的基板上的铺展，避免小孔的出现，制作方式简易，适合大面积制作。同时，量子点的发光光谱具有连续性，高演色性的优点，量子点激发光谱较宽及呈现连续分布，有时不同颜色量子点可以被同一波长的光激发，可以高效地选择期望的光谱，能够辅助增加发光效率。应该说明的是，本实施方式仅以一个像素为例，实际上，本发明适用于在基板上形成一个基膜层，基膜层具有阵列排列的开口，在开口的侧壁涂布亲水性