像素储墨槽的制备方法及应用
【技术领域】
[0001]本发明属于印刷显示技术领域，尤其涉及像素储墨槽的制备方法及应用。
【背景技术】
[0002]OLED显示器件由于同时具备自发光，不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板等优点，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。目前，对于OLED显示器件的制备，通常采用真空蒸镀和印刷技术制备，这是当前国际主流的发展技术。小分子的真空蒸镀技术比较成熟，目前已经实现产业化，并有中小尺寸的全彩色显示屏批量推出，应用在MP3、MP4、手机及小尺寸电视机等电子设备领域；另外，三星、LG等显示巨头已推出大尺寸OLED电视产品，更有曲面屏OLED电视产品面世。但是，该技术设备投资和维护费用高昂、材料浪费严重，难以实现大面积，且成本居高不下，面对残酷的市场环境，难以形成克争优势。
[0003]那么，如何解决OLED高成本问题，加速OLED的推广？
[0004]印刷技术被认为是解决OLED高成本和实现大面积的有效途径，具有广阔的发展前景，这种技术可结合液体功能性材料和先进的印刷设备来制作OLED显示屏，可提高材料的利用率和生广效率，降低制造成本，提尚广能。
[0005]目前，通常以溶液印刷法来制作OLED器件，然而溶液印刷法存在墨水在基板上分步不均匀或不规则的问题。为了解决这一问题，业界通常采用涂敷光刻胶形式涂敷超疏液材料，其后再进行曝光、显影和刻蚀等处理，在基板表面上形成像素界定层和Bank形貌。待该形貌固定后，再在该储墨槽内填充各功能层，最后蒸镀电极并进行器件封装。但是，以该法制作出来的储墨槽，其Bank形貌难以控制，容易造成正梯形或倒梯形Bank结构，影响器件的均匀性。同时该工艺涉及涂敷光刻胶、曝光显影和刻蚀等工艺，增加了器件制作工艺和制作难度。
【发明内容】
[0006]本发明的目的在于提供一种像素储墨槽的制备方法，旨在解决现有像素储墨槽制备技术得到的像素Bank形貌难以控制、从而影响器件的均匀性，且现有制备像素储墨槽的方法涉及涂敷光刻胶、曝光显影和刻蚀等步骤、导致像素储墨槽制作难度和生产成本升高的问题。
[0007]本发明的另一目的在于提供一种像素储墨槽的制备方法的应用，包括一种像素储墨槽0LED、一种像素储墨槽OLED的制备方法以及一种太阳能电池外部金属电极的制备方法。
[0008]本发明是这样实现的，一种像素储墨槽的制备方法，包括以下步骤:
[0009]提供一 TFT背板，在所述TFT背板上涂覆疏液层，对所述疏液层依次进行烘烤干燥处理和亲液处理，以形成具有亲液性的疏液层；
[0010]在所述疏液层上沉积像素电极材料，对所述电极材料进行固化处理得到图案化电极，使得所述疏液层围绕所述图案化电极形成具有疏液性的像素储墨槽。
[0011]以及，一种像素储墨槽0LED，包括TFT背板、图案化电极、有机功能层和阴极层，还包括疏液层，所述疏液层层叠设置在所述TFT背板上，所述图案化电极设置在所述疏液层上，所述有机功能层、所述阴极层依次沉积设置在所述图案化电极层表面；其中，所述图案化电极是由如上述像素储墨槽的制备方法形成，且使得所述疏液层围绕所述图案化电极形成如上所述的具有疏液性的像素储墨槽。
[0012]以及，一种像素储墨槽OLED的制备方法，包括以下步骤:
[0013]提供上述像素储墨槽的制备方法形成的图案化电极，使得所述疏液层围绕所述图案化电极形成具有疏液性的像素储墨槽；
[0014]在所述图案化电极表面依次沉积有机功能层，在所述有机功能层上蒸镀阴极层，形成OLED元件。
[0015]以及，一种太阳能电池的制备方法，包括以下步骤:
[0016]在太阳能电池外部基板材料上涂覆疏液层，对所述疏液层依次进行烘烤干燥处理和亲液处理，以形成具有亲液性的疏液层；
[0017]在所述疏液层上沉积电极材料，对所述电极材料进行固化处理得到图案化电极，使得所述疏液层围绕所述图案化电极形成具有疏液性的储墨槽。
[0018]本发明提供的像素储墨槽的制备方法，通过在所述TFT基板上直接涂覆疏液层，并对所述疏液层进行亲液处理制作出临时亲液界面供电极制作。随后在对所述电极进行固化处理获得图案化电极的过程中，所述固化处理使得未被所述图案化电极覆盖的疏液区域亲液效果逐渐消失并恢复疏液状态，所述疏液层围绕所述图案化电极形成具有疏液性的储墨槽；而被所述图案化电极覆盖部分的区域(像素区)与所述图案化电极在烘干过程中相连接，不仅增强了所述图案化电极的附着力，同时给予所述图案化电极明显的亲液性。所述疏液性储墨槽的形成，使得像素区和所述储墨槽之间存在明显的亲疏液性差异，从而在所述图案化电极上制备其他层结构、特别是湿法制备其他层结构如喷墨印刷有机功能层时，层结构材料如墨水能聚集在非疏液区域，避免了层结构材料的横向流动，从而保证了像素区的形貌和均勾度。由此，避免了像素Bank制作工艺中，由于曝光显影和刻蚀对像素Bank形貌和均匀度带来的影响。
[0019]本发明提供的像素储墨槽0LED，具有按上述像素储墨槽的制备方法形成的图案化电极，从而使得所述疏液层所述疏液层围绕所述图案化电极形成具有疏液性的储墨槽，保证了像素区的形貌和均匀度，进而提高器件的性能。
[0020]本发明提供的像素储墨槽OLED的制备方法，通过在图案化电极上直接印刷OLED有机层并完成器件制作，减少了曝光显影刻蚀工艺步骤，并可以在不增加额外生产成本的前提下，简化像素储墨槽形成工艺，从而大幅提高了生产效率、节省了材料、降低成本，有利于印刷显示技术的推广。此外，使用本发明方法印刷电极可以制作OLED、QD量子点显示器件，且器件具有良好均匀性和可加工性，更加适用于大尺寸显示屏幕的印刷和制作。
[0021 ] 本发明提供的太阳能电池的制备方法，可以获得具有疏液性储墨槽和亲液性电极区的太阳能电池外部金属电极。
[0022]图说曰月
[0023]图1是本发明实施例提供包括载体基板和TFT层的TFT背板的示意图；
[0024]图2是本发明实施例提供的在TFT背板上制备疏液层后的结构不意图；
[0025]图3是本发明实施例提供的对疏液层进行亲液处理、喷墨印刷金属电极、固化处理后形成的图案化表面型储墨槽和像素区的示意图；
[0026]图4是本发明实施例提供的像素储墨槽OLED器件的结构示意图；
[0027]图5是本发明实施例提供的含有封装层和封装玻璃的像素储墨槽OLED器件的结构示意图；
[0028]图6是本发明实施例提供的在金属电极上制备有机功能层后的结构示意图。
【具体实施方式】
[0029]为了使本发明要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
[0030]结合图1-3，本发明实施例提供了一种像素储墨槽的制备方法，包括以下步骤:[0031 ] S01.提供一 TFT背板I，在所述TFT背板I上涂覆疏液层2，对所述疏液层2依次进行烘烤干燥处理和亲液处理，以形成具有亲液性的疏液层2 ;
[0032]本发明实施例上述步骤SOI中，所述TFT背板I为刚性TFT背板或柔性TFT背板中的一种，且所述TFT背板I包括载体基板11和TFT层12，如图1所示。当选用刚性TFT背板时，所述刚性TFT背板包括在刚性载体基板上依次形成的TFT阵列；当选用柔性TFT背板时，所述柔性TFT背板包括在刚性载体基板上依次形成的柔性膜、功能水氧阻隔层和TFT阵列。具体的，所述刚性载体基板可选用硅片、金属、玻璃等刚性载板中的一种；所述柔性膜可采用P1、PET或PEN材料的柔性膜。值得注意的是，本发明实施例