并且，通过在该窗构件配置部上配设支撑构件13，在光透射窗构件12与被处理物支撑台11之间形成具有一定的厚度的处置室S。即，处理室S由被处理物支撑台11、光透射窗构件12、支撑构件13及光源单元支撑台14划分出来。在该处理室S中，在被处理物载置面11a上，在中央部形成有被处理物W所处的区域(以下还称为“被处理物配置区域”)，以包围该被处理物配置区域的方式，存在不放置被处理物W的环状的区域(被处理物周围区域)。在被处理物配置区域，在其整个区域上，经由光透射窗构件12照射有来自紫外线灯21的真空紫外线。并且，由该被处理物配置区域形成有能够通过真空紫外线及臭氧等对被处理物W的被处理面Wa进行处理的区域(有效处理区域)。
[0032]在该图的例子中，被处理物W具有大致矩形平板状的形状。此外，被处理物载置面11a的被处理物周围区域被支撑构件13遮光，因此不会照射来自紫外线灯21的真空紫外线。另外，本发明的光照射装置还可以是以下结构:在图1及图2的光照射装置中，窗构件夹持部短(具体地说，图1及图2中的左右尺寸短)，在被处理物支撑台的被处理物载置面上，不仅是被处理物配置区域(有效处理区域)，被处理物周围区域也被照射来自紫外线灯的真空紫外线。
[0033]在保持装置中设置有将被处理物支撑台11向上下方向驱动的驱动机构。通过由该驱动机构使被处理物支撑台11上下移动，能够调整被处理物W的被处理面Wa与光透射窗构件12之间形成的间隙(被处理物上间隙)的距离即距离被处理物W与光透射窗构件12的分离距离。即，在光照射装置10中，能够与被处理物W的厚度无关地将被处理物上间隙的距离设为所期望的大小。
[0034]在光照射装置10中，被处理物W在处理室S内的被处理物配置区域中被配置成被处理面Wa与光透射窗构件12对置。并且，被处理物上间隙的距离(被处理物W与光透射窗构件12的分离距离)设为1mm以下，优选为0.1?1.0mm，更优选0.1?0.5mm，特别优选0.3?
0.5mm ο
[0035]通过被处理物上间隙的距离被设为1mm以下，能够稳定地生成臭氧及活性氧，并且能够将到达被处理物W的被处理面Wa的真空紫外线设为足够大小的强度(光量)。
[0036]光源单元20具备在一方(图1及图2中下方)具有开口部的大致长方体的箱型形状的外壳22。在该外壳22内，配设有多个棒状的紫外线灯21。这些多个紫外线灯21以中心轴在同一水平面内彼此平行地延伸的方式以一定的间隔(图1中为等间隔)排列。
[0037]并且，光源单元20配置在光源单元支撑台14的上表面上，由此，外壳22的开口部被光透射窗构件12、光源单元支撑台14、支撑构件13及被处理物支撑台11封闭，在外壳22的内部形成有密闭的灯收容室。此外，成为多个紫外线灯21经由光透射窗构件12与被处理物W的被处理面Wa对置的状态。
[0038]作为紫外线灯21，只要是放射真空紫外线的灯，就可以使用公知的各种灯。具体地说，作为紫外线灯21，能够例示放射波长185nm的真空紫外线的低压水银灯、放射中心波长为172nm的真空紫外线的氙准分子灯、或者在发光管内封入有氙气且在发光管的内表面涂布射出例如波长190nm的真空紫外线的荧光体而成的荧光准分子灯等。
[0039]在该图的例子中，作为紫外线灯21，使用向特定方向(图1及图2中的下方向)照射光的方型的准分子灯。
[0040]并且，在光照射装置10中，设置有向处理室S供给处理气体的气体供给机构。气体供给机构能够向被处理物W的被处理面Wa上具体地说向大致矩形状的被处理物上间隙，沿着被处理物W的被处理面Wa朝向一个方向(图2中的左方向)供给处理气体。即，气体供给机构以使处理气体至少在被处理物W的被处理面Wa上(被处理物上间隙)朝向一个方向大致直线状流通的方式进行气体供给。
[0041 ]该气体供给机构由光源单元支撑台14的彼此对置的边部15A、15C上所形成的气体供给用贯通孔16及气体排出用贯通孔17、以及与气体供给用贯通孔16连接的处理气体供给源(未图示)构成。气体供给用贯通孔16在边部15A的面向处理室S的内表面上的与被处理物上间隙对置的区域具有沿着边部15A延伸的方向(图2中与纸面垂直的方向)配置的横长的气体供给用开口 16a。另一方面，气体排出用贯通孔17在边部15C的面向处理室S的内表面上的与被处理物上间隙对置的区域具有沿着边部15C延伸的方向(图2中与纸面垂直的方向)配置的横长的气体排出用开口 17a。即，气体排出用开口 17a与气体供给用开口 16a对置配置。
[0042]在此，气体供给用开口16a及气体排出用开口 17a分别既可以由1个横长狭缝形成，也可以由多个狭缝形成。
[0043]在该图的例子中，气体供给用开口 16a及气体排出用开口 17a由边部15A、15C的内表面上的与被处理物上间隙对置的区域的全域上延伸的横长狭缝形成。
[0044]此外，在图2中，用箭头表示了向被处理物W的被处理面Wa上(被处理物上间隙)供给的处理气体的供给方向即被处理物W的被处理面Wa上的处理气体的流通方向。
[0045]作为从气体供给机构向处理室S供给的处理气体，使用含预定浓度的氧气的气体。
[0046]作为处理气体的具体例，例如可列举氧气、氧气和臭氧气体的混合气体等。
[0047]处理气体中的氧浓度优选为70体积％以上。
[0048]通过将处理气体中的氧气浓度设为上述的范围，能够增多通过真空紫外线生成的臭氧及活性氧的量，能够切实地进行所期望的处理。
[0049]作为气体供给机构的气体供给条件，根据被处理物W的被处理面Wa的大小等，考虑被处理物W的种类、被处理面Wa所需的处理的种类、处理气体的种类及组成等来适当确定。例如，在被处理面Wa的横向尺寸为510mm以上且纵向尺寸为515mm以上，并且被处理面积为2.6 X 105mm2以上的情况下，气体流量优选为0.01?2LPM，或者气体流速优选为1?50mm/
seco
[0050]此外，在光照射装置10中，在处理室S设置有遮风构件25、25。该遮风构件25、25分别在被处理物支撑台11上的处理气体的供给方向上延伸，配置在不放置被处理物W的区域。即，遮风构件25、25配置在被处理物支撑台11上的被处理物载置面11a的被处理物周围区域、且沿着被处理物W(被处理物配置区域)向处理气体的供给方向延伸的区域。
[0051]该遮风构件25、25具有能够使位于被处理物上间隙的两侧方的间隙的传导性比该被处理物上间隙的传导性小的形状。因此，具有抑制或防止处理气体在被处理物W的被处理面Wa上(被处理物上间隙)向气体供给方向以外的方向流动的遮风功能。
[0052]具体说明遮风构件25、25，则该遮风构件25、25分别具有长方体状的形状。并且，一个遮风构件25在位于被处理物载置面11a上的被处理物W与光源单元支撑台14的边部15B之间的区域被配置成沿着被处理物W。另一方面，另一个遮风构件25在位于被处理物载置面11a上的被处理物W与光源单元支撑台14的边部15D之间的区域被配置成沿着被处理物W。此夕卜，遮风构件25、25的高度(图1中的上下尺寸)被设为被处理物支撑台11与光透射窗构件12的分离距离以下，且比被处理物W的厚度大。即，遮风构件25、25的上端部分(图1中的上端部分)被配置在被处理物上间隙的沿着处理气体的供给方向延伸的缘部的外方侧。并且，遮风构件25、25分别被配置成一侧面与被处理物W的侧面(具体地说与边部15Β、1?对置的侧面)及被处理物上间隙的缘部(具体地说与边部15Β、1?对置的缘部)相接的状态。
[0053]在该图的例子中，遮风构件25、25被设置成能够更换。由于能够更换遮风构件25、25，能够实现根据被处理物W的尺寸(具体地说纵横尺寸及厚度)及光照射条件(具体地说例如被处理物W与紫外线灯21的分离距离)等来使用适当大小的遮风构件25、25、或者遮风构件25、25的配置位置的调整等。因此，光照射装置10能够对被处理物W的尺寸及光照射条件不同的多种被处理物W进行处理。
[0054]如图1及图2所示，从遮风功能的观点考虑，遮风构件25、25优选具有全长与被处理物W的处理气体的供给方向上的尺寸相同、高度与被处理物支撑台11和光透射窗构件12之间的分离距离相同的形状。根据具有这种形状的遮风构件25、25，能够防止供给到被处理面Wa上(被处理物上间隙)的处理气体向位于被处理物W的侧方的间隙流出。
[0055]在该图的例子中，遮风构件25、25具有能够封堵被处理物上间隙与光源单元支撑台14的边部15B、15D之间所形成的大致长方体状的间隙的形状。即，遮风构件25、25具有全长与被处理物W的处理气体的供给方向上的尺寸相同、高度与被处理物支撑台11和光透射窗构件12之间的分离距离相同的长方体状的形状。
[0056]遮风构件25、25由对真空紫外线具有耐性且对臭氧具有耐性的材料形成。
[0057]此外，遮风构