一种锂离子电池的制作设备的制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种锂离子电池的制作设备，包括用于沉积薄膜的真空沉积设备，真空沉积设备沉积的基体包括构成锂离子电池的负极片、正极片或隔离膜。本发明在电池的制作设备中改变了涂布式加载活性材料，而采用真空沉积设备将电池活性材料连续地沉积到正极、负极或隔离膜上，增强了活性材料与正极、负极或隔离膜之间的附着力，有利于减少电池阻力，同时也大大简化了电池的制作流程。
【专利说明】
一种锂离子电池的制作设备
技术领域
[0001]本发明涉及锂离子电池技术领域，尤其涉及锂离子电池的制作设备。
【背景技术】
[0002]与铅酸电池、镍镉电池、镍氢电池等二次电池相比，锂离子电池具有能量密度高、寿命长、无记忆效应等优异特点，被广泛应用于移动电源存储。
[0003]在传统的锂离子电池中，一般采用碳材料作为常用的负极活性物质。在充放电过程中，锂离子会嵌入石墨形成LiC6。该体系的能量密度最高可达360mAh/g，已趋于理论能量密度370mAh/g，难以得到进一步的提升
[0004]为了进一步提高锂离子电池的能量密度，具有高的高容量的硅、锡、锂以及铁的氧化物等新材料被考虑作为碳材料的替代品。然而除了高容量外，这些材料不能像石墨一样磨成粉末形成浆料涂在电极表面，这很大程度上限制了这些新材料的使用。因此急需选择一种合适的方式以更好地利用这些材料。
【发明内容】
[0005]为解决以上问题，本发明提供了一种锂离子电池的制作设备，可以有效解决提高锂离子电池的能量密度。
[0006]本发明所采取的技术方案是:
[0007]—种锂离子电池的制作设备，包括用于沉积薄膜的真空沉积设备。
[0008]优选地，真空沉积设备为用于物理气相沉积或化学气相沉积的设备。
[0009]进一步地，物理气相沉积包括真空蒸镀、磁控溅射、直流溅射、射频溅射、电弧等离子镀、离子镀膜、分子束外延中任一种。
[0010]进一步地，真空沉积设备沉积的基体包括构成锂离子电池的负极片、正极片或隔离膜。
[0011]进一步地，真空沉积设备沉积薄膜的组分包括金属、非金属、非金属化合物或金属化合物中任一种或几种。
[0012]优选地，真空沉积设备可以控制沉积薄膜的宽度为O?2000mm。
[0013]优选地，真空沉积设备可以控制沉积薄膜的厚度为O?200um。
[0014]进一步地，锂离子电池的制作设备还包括加热器、离子轰击仓、控制台、供水单元、操作台和配电箱。
[0015]还包括卷绕机和传动机构，传动机构将沉积前的基体从卷绕机传送到真空沉积设备或将沉积后的基体从真空沉积设备传送到卷绕机。
[0016]还包括溅射机，溅射机所使用的靶材为平面或圆柱形的，所述靶材包括至少I个。
[0017]本发明的有益效果是:在电池的制作设备中改变了涂布式加载活性材料，而采用真空沉积设备将电池活性材料连续地沉积到正极、负极或隔离膜上，增强了活性材料与正极、负极或隔离膜之间的附着力，有利于减少电池阻力，同时也大大简化了电池的制作流程。
【附图说明】
[0018]图1为实施例1的锂离子电池的制作设备的结构示意图
[0019]图2为实施例1的卷绕机的结构示意图
[0020]图3为实施例1的真空沉积室的结构示意图
【具体实施方式】
[0021 ]下面结合附图对本发明作进一步详细的说明。
[0022]实施例1
[0023]如图1所示，一种锂离子电池的制作设备包括物理气相沉积用的真空沉积仓
(102)、加热器(103)、离子轰击仓(104)、操作台(105)、控制台(106)、供水单元(107)、配电箱(108)、烘箱(109)、卷绕机(101)以及贯穿卷绕机、真空沉积仓(101)、加热器(103)、离子轰击仓(104)、操作台的传动机构。配电箱用于为物理气相沉积提供电源;烘箱(109)可便于沉积薄膜后的基体的保存及热处理。
[0024]如图2所示，卷绕机(101)位于卷绕室(201)内，卷绕机上设置有3个卷轴(202)可同时放置正极片、负极片以及隔离膜，便于连续沉积。
[0025]真空沉积室分割成8个小沉积室，便于同时对各小沉积室内的基底沉积薄膜，提高沉积效率。
[0026]如图3所示，每个小沉积室内上方设置有3个靶材位，可放置3种相同或不同的靶材(302)，满足不同基对靶材的要求;同时设置有传送带(301)，便于基体的连续传递。
[0027]卷绕机(101)上未沉积的基体可随传动机构分别进入真空沉积仓(102)、加热器
(103)、离子轰击仓(104)、操作台(105)实现基体上薄膜沉积，并将沉积后的基体在操作台实现重新卷绕。
[0028]以上的实施例只是在于说明而不是限制本发明，故凡依本发明专利申请范围所述的方法所做的等效变化或修饰，均包括于本发明专利申请范围内。
【主权项】
1.一种锂离子电池的制作设备，其特征在于包括用于沉积薄膜的真空沉积设备，所述真空沉积设备沉积的基体包括构成锂离子电池的负极片、正极片或隔离膜。2.根据权利要求1所述的锂离子电池的制作设备，其特征在于所述真空沉积设备为用于物理气相沉积或化学气相沉积的设备。3.根据权利要求2所述的锂离子电池的制作设备，其特征在于所述物理气相沉积包括真空蒸镀、磁控溅射、直流溅射、射频溅射、电弧等离子镀、离子镀膜、分子束外延中任一种。4.根据权利要求1所述的锂离子电池的制作设备，其特征在于所述真空沉积设备沉积薄膜的组分包括金属、非金属、非金属化合物或金属化合物中任一种或几种。5.根据权利要求1所述的锂离子电池的制作设备，其特征在于所述真空沉积设备可以控制沉积薄膜的宽度为O?2000mm。6.根据权利要求1所述的锂离子电池的制作设备，其特征在于所述真空沉积设备可以控制沉积薄膜的厚度为O?200um。7.根据权利要求1所述的锂离子电池的制作设备，其特征在于还包括加热器、离子轰击仓、控制台、供水单元、操作台和配电箱。8.根据权利要求1所述的锂离子电池的制作设备，其特征在于还包括卷绕机和传动机构，所述传动机构将沉积前的基体从卷绕机传送到真空沉积设备或将沉积后的基体从真空沉积设备传送到卷绕机。9.根据权利要求1所述的锂离子电池的制作设备，其特征在于所述真空沉积设备包括溅射机，所述溅射机所使用的靶材为平面或圆柱形的，所述靶材包括至少I个。
【文档编号】C23C16/54GK105977541SQ201610496857
【公开日】2016年9月28日
【申请日】2016年6月28日
【发明人】蒋濛, 谭志
【申请人】盈天科技（深圳）有限公司