1.一种无碳刷旋转等离子体电极结构，包括：
本体，其绕一轴心进行转动，该本体包括多个间隔设置的电极部，各该电极部的周缘设置一第一凸出部；
多个导引部，贯穿于该些电极部；
多个导通件，各该导通件包括第二凸出部，该第一凸出部与相对应的该第二凸出部具有第一间隔。
2.如权利要求1所述的无碳刷旋转等离子体电极结构，还包括：
RF产生器，耦接于相对应的该导通件。
3.如权利要求1所述的无碳刷旋转等离子体电极结构，还包括：
隔离部，位于该些电极部之间。
4.如权利要求1所述的无碳刷旋转等离子体电极结构，其中各该导通件的一端呈鳍片状，各该电极部的周缘呈鳍片状，该第二凸出部位于两相对应的该第一凸出部之间。
5.如权利要求1所述的无碳刷旋转等离子体电极结构，其中各该导通件的一端呈鳍片状，各该电极部的周缘呈鳍片状，该第一凸出部位于两相对应的该第二凸出部之间。
6.如权利要求1所述的无碳刷旋转等离子体电极结构，其中各该导通件位于两相对应的该第一凸出部之间，各该第一凸出部包覆部分该导通件，且该第一凸出部并未接触于该导通件。
7.如权利要求1所述的无碳刷旋转等离子体电极结构，其中各该导通件一端呈ㄇ字形，该导通件所具有的该第二凸出部包覆部分该第一凸出部，且该第二凸出部并未接触于该第一凸出部。
8.如权利要求1所述的无碳刷旋转等离子体电极结构，其中各该导通件一端呈ㄇ字形，该电极部位于两相对应的该第二凸出部之间，各该第二凸出部包覆部分该电极部，且该第二凸出部并未接触于该电极部。
9.如权利要求1所述的无碳刷旋转等离子体电极结构，其中各该导通件至相对应的该电极部具有一第二间隔，该第二间隔大于2mm。
10.如权利要求1所述的无碳刷旋转等离子体电极结构，其中该第一凸出部是经由一环形板套在该电极部所形成。
11.如权利要求1所述的无碳刷旋转等离子体电极结构，其中该第一凸出部是由电极部经加工铣槽而形成。
12.如权利要求1所述的无碳刷旋转等离子体电极结构，其中该第一间隔小于2mm。
13.一种镀膜系统，包括：
无碳刷旋转等离子体电极结构，包括：
本体，其绕一轴心进行转动，该本体包括多个间隔设置的电极部，各该电极部的周缘设置一第一凸出部；
多个导引部，贯穿于该些电极部；以及
多个导通件，各该导通件包括第二凸出部，该第一凸出部与相对应的该第二凸出部具有第一间隔。
14.如权利要求13所述的镀膜系统，还包括：
RF产生器，耦接于相对应的该导通件。
15.如权利要求13所述的镀膜系统，还包括：
隔离部，位于该些电极部之间。
16.如权利要求13所述的镀膜系统，其中各该导通件的一端呈鳍片状，各该电极部的周缘呈鳍片状，该第二凸出部位于两相对应的该第一凸出部之间。
17.如权利要求13所述的镀膜系统，其中各该导通件的一端呈鳍片状，各该电极部的周缘呈鳍片状，该第一凸出部位于两相对应的该第二凸出部之间。
18.如权利要求13所述的镀膜系统，其中各该导通件位于两相对应的该第一凸出部之间，各该第一凸出部包覆部分该导通件，且该第一凸出部并未接触于该导通件。
19.如权利要求13所述的镀膜系统，其中各该导通件一端呈ㄇ字形，该导通件所具有的该第二凸出部包覆部分该第一凸出部，且该第二凸出部并未接触于该第一凸出部。
20.如权利要求13所述的镀膜系统，其中各该导通件一端呈ㄇ字形，该电极部位于两相对应的该第二凸出部之间，各该第二凸出部包覆部分该电极部，且该第二凸出部并未接触于该电极部。
21.如权利要求13所述的镀膜系统，其中各该导通件至相对应的该电极 部具有第二间隔，该第二间隔大于2mm。
22.如权利要求13所述的镀膜系统，其中该第一凸出部是经由一环形板套在该电极部所形成。
23.如权利要求13所述的镀膜系统，其中该第一凸出部是由电极部经加工铣槽而形成。
24.如权利要求13所述的镀膜系统，其中该第一间隔小于2mm。