1.一种含量子点的层叠体的制造方法，依次具有如下工序：
将含有量子点、固化性化合物及触变剂，剪切速度为500s-1时的粘度为3～100mPa·s，且剪切速度为1s-1时的粘度为300mPa·s以上的含量子点的组合物涂布于第1基材上而形成涂膜的工序A；
在所述涂膜上层叠第2基材的工序B；及
对被所述第1基材及所述第2基材夹持的所述涂膜施加外部刺激而固化，形成含量子点的层的工序C。
2.根据权利要求1所述的含量子点的层叠体的制造方法，其中，
所述触变剂为纵横比为1.2～300的无机粒子。
3.根据权利要求1或2所述的含量子点的层叠体的制造方法，其中，
所述触变剂为层状化合物。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的含量子点的层叠体的制造方法，其中，
所述触变剂包含选自由氧化聚烯烃及改性脲构成的组中的至少1种。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的含量子点的层叠体的制造方法，其中，
在所述含量子点的组合物中，相对于100质量份的所述固化性化合物，所述触变剂的含量为0.15～20质量份。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的含量子点的层叠体的制造方法，其中，
所述含量子点的组合物不含有具有实质挥发性的有机溶剂。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的含量子点的层叠体的制造方法，其中，
对所述涂膜施加外部刺激的方法为对所述涂膜照射紫外线的方法。
8.根据权利要求1～7中任一项所述的含量子点的层叠体的制造方法，其中，
所述第1基材及所述第2基材中的至少一个为可挠性的膜。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的含量子点的层叠体的制造方法，其中，
所述第1基材及所述第2基材的至少一个为阻隔膜，所述阻隔膜具有可挠性支撑体和具有阻隔性的无机层。
10.根据权利要求9所述的含量子点的层叠体的制造方法，其中，
所述具有阻隔性的无机层为包含选自氮化硅、氧氮化硅、氧化硅、氧化铝中的至少1种化合物的无机层。
11.一种含量子点的层叠体，其通过权利要求1～10中任一项所述的含量子点的层叠体的制造方法而制造。
12.一种背光单元，其至少包含权利要求11所述的含量子点的层叠体、和光源。
13.一种液晶显示装置，其至少包含权利要求12所述的背光单元、和液晶单元。
14.一种含量子点的组合物，其含有量子点、固化性化合物及触变剂，
剪切速度为500s-1时的粘度为3～100mPa·s，剪切速度为1s-1时的粘度为300mPa·s以上。
15.根据权利要求14所述的含量子点的组合物，其中，
所述触变剂为层状化合物。
16.根据权利要求14或15所述的含量子点的组合物，其中，
所述触变剂为纵横比为1.2～300的无机粒子。
17.根据权利要求14所述的含量子点的组合物，其中，
所述触变剂包含选自由氧化聚烯烃及改性脲构成的组中的至少1种。
18.根据权利要求14～17中任一项所述的含量子点的组合物，其中，
相对于100质量份的所述固化性化合物，所述触变剂的含量为0.15～20质量份。
19.根据权利要求14～18中任一项所述的含量子点的组合物，其不含有具有实质挥发性的有机溶剂。