本发明涉及在卷绕成辊筒状时或者从辊筒导出时的操作性优异的长尺寸的阻气性层合体及其制造方法。
背景技术：
近年来，在液晶显示器或电致发光(EL)显示器等显示器中，为了实现薄型化、轻量化、挠性化等，使用在透明塑料薄膜上层合阻气层而形成的所谓的阻气膜代替玻璃板。
在阻气膜中，有人提出在基材上设置平滑化层，以填埋基材表面的凹凸、并提高层间密合性。
例如，专利文献1中记载着一种透明阻气性薄膜，该透明阻气性薄膜是在透明塑料基材上层合至少一层的表面平滑层和至少一层的无机阻挡层而形成的，并规定了表面平滑层等的算术平均粗糙度。
工业上生产阻气膜时，通常采用卷对卷(roll to roll)方式。
例如，专利文献2中记载着一种阻气性薄膜的制造方法，其特征在于：将两面具有平滑层(表面平滑化层)、且规定了两侧的平滑层的表面硬度的树脂膜卷绕成辊筒状，之后边导出该树脂膜边设置阻气层。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2003-154596号公报；
专利文献2：国际公开2010/026852号。
技术实现要素：
发明所要解决的课题
如上所述，已知通过在阻气膜上设置平滑化层，层间密合性会有所提高，其结果，阻气膜的阻气性等会有所提高。
但是，在按照卷对卷方式制造这样的阻气膜时，在卷绕成辊筒状时或者从辊筒导出时，有时会发生粘连(薄膜之间贴合)或夹杂空气(出现褶皱)等问题。
本发明是鉴于上述实际情况而提出的，其目的在于：提供一种在卷绕成辊筒状时或者从辊筒导出时的操作性优异的长尺寸的阻气性层合体及其制造方法。
用于解决课题的手段
本发明人为了解决上述课题进行了深入研究，结果发现了：在基材的一个面侧层合功能层、并在基材的另一个面侧依次层合平滑化层和阻气层而形成的长尺寸的阻气性层合体，其中，功能层的与基材侧相反一侧的面和阻气层的与基材侧相反一侧的面的静摩擦系数处于特定范围内的长尺寸的阻气性层合体在卷绕成辊筒状时或者从辊筒导出时的操作性优异，从而完成了本发明。
因此，根据本发明，提供下述(1)～(7)的阻气性层合体、和(8)～(9)的阻气性层合体的制造方法。
(1) 长尺寸的阻气性层合体，其特征在于：该长尺寸的阻气性层合体是在基材的一个面侧层合功能层、并在基材的另一个面侧依次层合平滑化层和阻气层而形成的，其中，功能层的与基材侧相反一侧的面和阻气层的与基材侧相反一侧的面的静摩擦系数为0.35～0.80。
(2) (1)所述的长尺寸的阻气性层合体，其中，功能层的与基材侧相反一侧的面的算术平均粗糙度(Ra)为5nm以上、粗糙度曲线的最大剖面高度(Rt)为100nm以上，阻气层的与基材侧相反一侧的面的算术平均粗糙度(Ra)为5nm以下、粗糙度曲线的最大剖面高度(Rt)为100nm以下。
(3) (1)所述的长尺寸的阻气性层合体，其中，上述功能层的与基材侧相反一侧的面和平滑化层的与基材侧相反一侧的面的静摩擦系数为0.35～0.80。
(4) (1)所述的长尺寸的阻气性层合体，其中，上述平滑化层的与基材侧相反一侧的面的算术平均粗糙度(Ra)为5nm以下、粗糙度曲线的最大剖面高度(Rt)为100nm以下。
(5) (1)所述的长尺寸的阻气性层合体，其中，上述功能层是由活性能量线固化型树脂组合物的固化物构成的硬镀层。
(6) (1)所述的长尺寸的阻气性层合体，其中，上述平滑化层是由活性能量线固化型树脂组合物的固化物形成的层。
(7) (1)所述的长尺寸的阻气性层合体，其中，上述阻气层是对包含聚硅氮烷系化合物的层进行改质处理而得到的层。
(8) 上述(1)所述的长尺寸的阻气性层合体的制造方法，其特征在于，具备下述步骤：步骤(a-I)，沿一定方向搬运基材用树脂膜，同时在上述树脂膜上形成平滑化层，之后将所得的带有平滑化层的树脂膜卷绕成辊筒状；步骤(a-II)，从通过步骤(a-I)得到的带有平滑化层的树脂膜的辊筒连续导出上述树脂膜、并沿一定方向搬运，同时在带有平滑化层的树脂膜的树脂膜表面形成功能层，之后将所得的带有功能层和平滑化层的树脂膜卷绕成辊筒状；以及步骤(a-III)，从通过步骤(a-II)得到的带有功能层和平滑化层的树脂膜的辊筒连续导出上述树脂膜、并沿一定方向搬运，同时在带有功能层和平滑化层的树脂膜的平滑化层表面形成与功能层的静摩擦系数为0.35～0.80的阻气层，之后将所得的阻气性层合体卷绕成辊筒状。
(9) 上述(1)所述的长尺寸的阻气性层合体的制造方法，其特征在于，具有下述步骤：步骤(b-I)，沿一定方向搬运基材用树脂膜，同时在上述树脂膜上形成功能层，之后将所得的带有功能层的树脂膜卷绕成辊筒状；步骤(b-II)，从通过步骤(b-I)得到的带有功能层的树脂膜的辊筒连续导出上述树脂膜、并沿一定方向搬运，同时在带有功能层的树脂膜的树脂膜表面形成平滑化层，之后将所得的带有功能层和平滑化层的树脂膜卷绕成辊筒状；以及步骤(b-III)，从通过步骤(b-II)得到的辊筒状的带有功能层和平滑化层的树脂膜连续导出上述树脂膜、并沿一定方向搬运，同时在带有功能层和平滑化层的树脂膜的平滑化层表面形成与功能层的静摩擦系数为0.35～0.80的阻气层，之后将所得的阻气性层合体卷绕成辊筒状。
发明效果
根据本发明，提供一种在卷绕成辊筒状时或者从辊筒导出时的操作性优异的长尺寸的阻气性层合体及其制造方法。
具体实施方式
以下，将本发明分为1)长尺寸的阻气性层合体、和2)长尺寸的阻气性层合体的制造方法这两项来进行详细说明。
1) 长尺寸的阻气性层合体
本发明的长尺寸的阻气性层合体，其特征在于：是在基材的一个面侧层合功能层、并在基材的另一个面侧依次层合平滑化层和阻气层而形成的长尺寸的阻气性层合体，其中，功能层的与基材侧相反一侧的面和阻气层的与基材侧相反一侧的面的静摩擦系数为0.35～0.80。
(1) 基材
构成本发明的阻气性层合体的基材只要是可以担载功能层、平滑化层和阻气层、且呈长尺寸的薄片或薄膜状的基材即可，没有特别限定。
在本发明中，“长尺寸”是指其形状为纵向比横向长(优选10倍以上的长度)的带状。另外，在以下的说明中，有时会省略“长尺寸的”。
对基材的长度(纵向长度)没有特别限定，但通常为400～2000m。对基材的宽(横向长度)没有特别限定，但通常为450～1300mm，优选为530～1280mm。对基材的厚度没有特别限定，但通常为1～60μm、优选5～50μm、更优选为10～30μm。
作为基材，可以列举树脂膜。作为树脂膜的树脂成分，可以列举：聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚苯醚、聚醚酮、聚醚醚酮、聚烯烃、聚酯、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚苯硫醚、丙烯酸酯系树脂、环烯烃系聚合物、芳族系聚合物等。
这些树脂成分可以单独使用一种、或者组合两种以上进行使用。
其中，从透明性优异、且具有广泛应用性的角度考虑，更优选聚酯、聚酰胺、聚砜、聚醚砜、聚苯硫醚或环烯烃系聚合物，进一步优选聚酯或环烯烃系聚合物。
作为聚酯，可以列举：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚芳酯等。
作为环烯烃系聚合物，可以列举：降冰片烯系聚合物、单环的环状烯烃系聚合物、环状共轭二烯系聚合物、乙烯基脂环式烃聚合物、以及它们的氢化物。
在不妨碍本发明效果的范围内，树脂膜可以含有各种添加剂。作为添加剂，可以列举：紫外线吸收剂、防静电剂、稳定剂、抗氧化剂、增塑剂、润滑剂、填充剂、着色颜料等。这些添加剂的含量只要根据目的适当确定即可。
树脂膜可以通过调制包含规定成分的树脂组合物、并将其成型为薄膜状而得到。对成型方法没有特别限定，可以采用流延法或熔融挤出法等公知的方法。
(2) 功能层
构成本发明的阻气性层合体的功能层例如可以列举：硬镀层、防眩性硬镀层和防静电层等，分别具有表面保护、防眩和表面保护、防静电和表面保护的功能。另外，功能层还可以是紫外线吸收层、红外线吸收层、底漆层等。
上述硬镀层的硬度优选以铅笔硬度计为H以上。以铅笔硬度计为H以上时，可以具备充分的耐擦伤性。
另外，上述防静电层的表面电阻率优选为1×104～1×1011Ω/□的范围内的值。
另外，通过设置功能层，功能层与平滑化层之间、或者功能层与阻气层之间的摩擦会变得适度，因此所得的阻气性层合体在卷绕成辊筒状时以及从辊筒导出时的操作性优异。
作为硬镀层，例如可以列举：由活性能量线固化型树脂组合物的固化物构成的层。
活性能量线固化型树脂组合物是含有聚合性化合物、且通过照射活性能量线而能够固化的组合物。
作为聚合性化合物，可以列举：聚合性预聚物或聚合性单体。
作为聚合性预聚物，可以列举：通过两末端具有羟基的聚酯寡聚物与(甲基)丙烯酸的反应得到的聚酯丙烯酸酯系预聚物、通过低分子量的双酚型环氧树脂或酚醛型环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应得到的环氧丙烯酸酯系预聚物、通过聚氨酯寡聚物与(甲基)丙烯酸的反应得到的聚氨酯丙烯酸酯系预聚物、通过聚醚多元醇与(甲基)丙烯酸的反应得到的多元醇丙烯酸酯系预聚物等。
作为聚合性单体，可以列举：二(甲基)丙烯酸1,4-丁二醇酯、二(甲基)丙烯酸1,6-己二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羟基新戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸二环戊酯、己内酯改性二(甲基)丙烯酸二环戊烯酯、环氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、烯丙基化环己基二(甲基)丙烯酸酯、异氰尿酸酯二(甲基)丙烯酸酯等二官能(甲基)丙烯酸酯；三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、丙酸改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、环氧丙烷改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯酰氧乙基)异氰尿酸酯等三官能(甲基)丙烯酸酯；丙酸改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等四官能以上的(甲基)丙烯酸酯；乙二醇二乙烯基醚、季戊四醇二乙烯基醚、1,6-己二醇二乙烯基醚、三羟甲基丙烷二乙烯基醚、环氧乙烷改性氢醌二乙烯基醚、环氧乙烷改性双酚A二乙烯基醚、季戊四醇三乙烯基醚、二季戊四醇六乙烯基醚、二-三羟甲基丙烷聚乙烯基醚等乙烯基化合物等，但未必限于这些。
这些聚合性化合物可以单独使用一种、或者组合两种以上进行使用。
这里，(甲基)丙烯酰基所表述的意思包含丙烯酰基和甲基丙烯酰基两者。
另外，在上述活性能量线固化性树脂组合物中可以包含其本身不具有反应固化性这样的高分子树脂成分、例如丙烯酸酯树脂。通过添加高分子树脂成分，可以调节该组合物的粘度。
作为活性能量线，可以列举：紫外线、电子射线、α射线、β射线、γ射线等。其中，从使用比较简便的装置即可产生活性能量线的角度考虑，作为活性能量线，优选紫外线。
当使用紫外线作为活性能量线时，活性能量线固化型树脂组合物(即紫外线固化型树脂组合物)优选含有光聚合引发剂。
光聚合引发剂只要是通过紫外线的照射引发聚合反应的物质即可，没有特别限定。作为光聚合引发剂，可以列举：苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻正丁醚、苯偶姻异丁醚等苯偶姻系聚合引发剂；苯乙酮、4’-二甲基氨基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基-丙烷-1-酮、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基-丙酰基)-苄基]苯基｝-2-甲基-丙烷-1-酮等苯乙酮系聚合引发剂；二苯甲酮、4-苯基二苯甲酮、4,4’-二乙基氨基二苯甲酮、4,4’-二氯二苯甲酮等二苯甲酮系聚合引发剂；2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-氨基蒽醌等蒽醌系聚合引发剂；2-甲基噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮等噻吨酮系聚合引发剂等。
对光聚合引发剂的含量没有特别限定，但相对于上述聚合性化合物通常为0.2～30质量%、优选为0.5～20质量%。
活性能量线固化型树脂组合物优选包含有机微粒、无机微粒等微粒。通过使用含微粒的活性能量线固化型树脂组合物，可以高效率地控制硬镀层的表面粗糙度和防眩性。
作为有机微粒，可以列举：由聚苯乙烯系树脂、苯乙烯-丙烯酸酯系共聚物树脂、丙烯酸酯系树脂、氨基系树脂、二乙烯基苯系树脂、有机硅系树脂、聚氨酯系树脂、蜜胺系树脂、尿素树脂、酚醛系树脂、苯并胍胺系树脂、二甲苯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚乙烯系树脂、聚氯乙烯系树脂等构成的微粒。其中，优选由有机硅树脂构成的有机硅微粒。
作为无机微粒，可以列举：二氧化硅颗粒、金属氧化物颗粒、硅酸烷基酯颗粒等。
作为二氧化硅颗粒，可以列举：胶体二氧化硅、中空二氧化硅等。
作为金属氧化物颗粒，可以列举：氧化钛、氧化锌、氧化锆、氧化钽、氧化铟、氧化铪、氧化锡、氧化铌等的颗粒。
作为硅酸烷基酯颗粒，可以列举：式Ra-O[-{Si(ORb)2｝-O-]nRa(式中，Ra和Rb表示碳原子数为1～10的烷基，n表示1以上的整数。)所示的硅酸烷基酯的颗粒。
其中，从与固化性成分的相容性优异、并且能够高效率地控制光学调整层的折射率的角度考虑，优选二氧化硅颗粒或硅酸烷基酯颗粒。
这些微粒可以单独使用一种、或者组合两种以上进行使用。
对微粒的形状没有特别限定，例如可以使用无定形、圆球形等各种形状的微粒。
微粒的平均粒径通常为0.001～10μm，优选为0.005～5μm。微粒的平均粒径可以通过激光衍射/散射法来测定。
当活性能量线固化型树脂组合物含有微粒时，在上述树脂组合物的固体成分中，微粒的含量优选0.1～170质量%，更优选1～50质量%。
活性能量线固化型树脂组合物优选含有流平剂。通过使用含有流平剂的活性能量线固化型树脂组合物，可以高效率地控制硬镀层的表面粗糙度。
作为流平剂，可以列举：硅氧烷系化合物。其中，优选聚二甲基硅氧烷及其衍生物等具有二烷基硅氧烷骨架的化合物。
当活性能量线固化型树脂组合物含有流平剂时，在上述树脂组合物的固体成分中，流平剂的含量优选0.01～10质量%，更优选0.05～5质量%。
活性能量线固化型树脂组合物可以在不妨碍本发明效果的范围内含有其他成分。
作为其他成分，可以列举：防静电剂、稳定剂、抗氧化剂、增塑剂、润滑剂、着色颜料等。它们的含量只要根据目的适当确定即可。
对硬镀层的形成方法没有特别限定。例如，调制含有活性能量线固化型树脂组合物和根据需要还含有溶剂的涂布液，然后利用公知的方法在基材上涂布该涂布液，再使所得涂膜固化，从而可以形成由活性能量线固化型树脂组合物的固化物构成的硬镀层。另外，根据需要，在使涂膜固化前可以施行干燥处理。
作为用于调制涂布液的溶剂，可以列举：苯、甲苯等芳族烃系溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶剂；丙酮、丁酮、甲基异丁基酮等酮系溶剂；正戊烷、正己烷、正庚烷等脂肪族烃系溶剂；环戊烷、环己烷等脂环式烃系溶剂等。
这些溶剂可以单独使用一种、或者组合两种以上进行使用。
作为涂布方法，可以列举：刮条涂布法、旋涂法、浸涂法、辊涂法、凹版涂布法、刮刀涂布法、气刀涂布法、辊式刮刀涂布法、口模涂布法、丝网印刷法、喷涂法、凹版胶印法等。
将涂膜干燥时，作为其干燥方法，可以采用热风干燥、热辊干燥、红外线照射等以往公知的干燥方法。干燥温度通常在60～130℃的范围。干燥时间通常为数秒～数十分钟。
涂膜的固化可以通过对涂膜照射活性能量线来进行。
作为活性能量线，可以列举：紫外线、电子射线、α射线、β射线、γ射线等。其中，从使用比较简便的装置即可产生活性能量线的角度考虑，作为活性能量线，优选电子射线、紫外线，更优选紫外线。
当使用紫外线作为活性能量线时，作为紫外线源，可以使用超高压水银灯、高压水银灯、低压水银灯、碳弧灯、黑光灯、金属卤化物灯等光源。对紫外线的光量没有特别限定，通常为100mJ/cm2～1,000mJ/cm2。照射时间通常为数秒～数小时，照射温度通常为室温～100℃。
硬镀层的厚度通常为20μm以下，优选0.5～20μm，更优选为1.0～10μm。
对防静电层没有特别限定，优选为由包含烷氧基金属和/或烷氧基金属的部分水解物的缩聚物的防静电层形成用组合物构成的防静电层。通过设置该防静电层，对阻气性层合体赋予防静电性。
烷氧基金属通常用M(OR)n表示，对金属M没有特别限定，可以列举：锂、钠、钾等碱金属；镁、钙、锶、钡等碱土金属；钪、钇等周期表第3族元素；钛、锆、铪等周期表第4族元素；钒、铌、钽等周期表第5族元素；钼、钨等周期表第6族元素；铁等周期表第8族元素；锌等周期表第12族元素；硼、铝、镓、铟等周期表第13族元素；硅、锗、锡、铅等周期表第14族元素；磷、锑、铋等周期表第15族元素；镧等镧系元素等。其中，从防静电性高、与平滑化层的接合性高的角度考虑，最优选硅。即，最优选四烷氧基硅烷。上述烷氧基金属可以单独使用，也可以混合多种烷氧基金属进行使用。
另外，R表示烷基，在本发明中，优选碳原子数为1～10的烷基，进一步优选碳原子数为1～5的烷基。当一个烷氧基金属中存在多个烷基时，这些烷基可以相同也可以不同。n为由金属M的价数决定的整数，但通常为1～5的范围。
这些烷氧基金属可以是事先进行了部分水解的烷氧基金属，也可以将烷氧基金属和进行了部分水解的烷氧基金属混合。
防静电层形成用组合物优选为包含有机微粒、无机微粒等微粒的组合物。通过使用含微粒的防静电层形成用组合物，可以高效率地控制防静电层的表面粗糙度。作为这样的微粒，可以使用与硬镀层的说明中记载的微粒相同的微粒。
对防静电层的形成方法没有特别限定，可采用各种方法，但优选涂布包含烷氧基金属和/或烷氧基金属的部分水解物的涂布液来形成防静电层。
另外，作为涂布液的涂布方法，可以适当采用通常惯用的方法。例如可以列举：凹版涂布法、刮条涂布法、喷涂法、旋涂法等。需要说明的是，在涂布时可以将烷氧基金属和/或烷氧基金属的部分水解物溶解在溶剂中进行涂布，特别是可以适当使用有机系溶剂。对所能使用的有机系溶剂没有特别限定，例如可以使用乙醇、异丙醇等醇溶剂、丁酮等酮溶剂。
上述烷氧基金属和/或烷氧基金属的部分水解物通过水解反应和缩聚反应形成缩聚物、并形成防静电层，可以加入盐酸或硝酸等酸催化剂以促进水解反应。
另外，在通过上述方法涂布烷氧基金属和/或烷氧基金属的部分水解物之后，为了进行干燥或者促进烷氧基金属和/或烷氧基金属的部分水解物的缩聚反应，优选进行加热处理。作为加热条件，在能够达到上述目的的范围内没有特别限定，但通常优选在40～120℃的范围内、加热时间为20秒～5分钟左右的条件下进行。从产率和防止产生热收缩褶皱的角度考虑，进一步优选在加热温度为60～110℃的范围、加热时间为30秒～2分钟左右的条件下进行。
防静电层的厚度通常为20μm以下、优选为0.05～10μm、更优选为0.08～3μm。
功能层表面(功能层的与基材侧相反一侧的面)的算术平均粗糙度(Ra)优选为5nm以上，更优选为5～20nm，进一步优选为5～10nm。
功能层表面的粗糙度曲线的最大剖面高度(Rt)优选为100nm以上，更优选为100～1000nm，进一步优选为100～800nm。
因功能层表面呈这样的粗糙度，故可以高效率地得到具有后述的摩擦特性的阻气性层合体。
功能层表面及其他层的表面的算术平均粗糙度(Ra)或粗糙度曲线的最大剖面高度(Rt)可以通过使用光干涉显微镜对500μm×500μm的区域进行观察而求得。
(3) 平滑化层
构成本发明的阻气性层合体的平滑化层是降低基材表面的凹凸、并提高阻气性层合体的层间密合性的层。
作为平滑化层，例如可以列举：由活性能量线固化型树脂组合物的固化物构成的层。
作为活性能量线固化型树脂组合物，可以列举：与硬镀层形成用活性能量线固化型树脂组合物相同的组合物。
但是，因平滑化层优选平滑性较功能层优异的层，所以优选不含上述微粒等使平滑化层表面变得粗糙的成分的层。
平滑化层可以利用与硬镀层的形成方法相同的方法来形成。
平滑化层的厚度通常为20μm以下，优选为0.1～20μm，更优选为0.5～10μm。
平滑化层表面(平滑化层的与基材侧相反一侧的面)的算术平均粗糙度(Ra)优选为5nm以下，更优选为0.1～5nm，进一步优选为0.1～4nm，特别优选为1～4nm。
平滑化层表面的粗糙度曲线的最大剖面高度(Rt)优选为100nm以下，更优选为1～100nm，进一步优选为20～80nm，特别优选为30～65nm。
因平滑化层表面呈这样的粗糙度，故可以高效率地得到在阻气性层合体的层间密合性提高的同时具有后述的摩擦特性的阻气性层合体。
(4) 阻气层
构成本发明的阻气性层合体的阻气层是具有抑制氧或水蒸气等气体透过的特性(阻气性)的层。
作为阻气层，例如可以列举：对无机蒸镀膜或包含聚合物的层(以下，有时称作“聚合物层”。)施行改质处理而得到的层[这种情况下，阻气层并不是仅指通过离子注入处理等进行了改质的区域，而是指“包括被改质的区域在内的聚合物层”。]等。
作为无机蒸镀膜，可以列举：无机化合物或金属的蒸镀膜。
作为无机化合物的蒸镀膜的原料，可以列举：氧化硅、氧化铝、氧化镁、氧化锌、氧化铟、氧化锡等无机氧化物；氮化硅、氮化铝、氮化钛等无机氮化物；无机碳化物；无机硫化物；氧化氮化硅等无机氧化氮化物；无机氧化碳化物；无机氮化碳化物；无机氧化氮化碳化物等。
作为金属蒸镀膜的原料，可以列举：铝、镁、锌和锡等。
这些原料可以单独使用一种、或者组合两种以上进行使用。
其中，从阻气性的角度考虑，优选以无机氧化物、无机氮化物或金属为原料的无机蒸镀膜，而且，从透明性的角度考虑，优选以无机氧化物或无机氮化物为原料的无机蒸镀膜。
作为无机蒸镀膜的形成方法，可以列举：真空蒸镀法、溅镀法、离子电镀法等PVD(物理蒸镀)法；或者热CVD(化学蒸镀)法、等离子体CVD法、光CVD法等CVD法。
无机蒸镀膜的厚度还根据所使用的无机化合物而不同，但从阻气性和操作性的角度考虑，优选为50～300nm，更优选为50～200nm的范围。
在对聚合物层施行改质处理而得到的阻气层中，作为使用的聚合物，可以列举：含硅聚合物、聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚苯醚、聚醚酮、聚醚醚酮、聚烯烃、聚酯、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚苯硫醚、聚芳酯、丙烯酸酯系树脂、环烯烃系聚合物、芳族系聚合物等。
这些聚合物可以单独使用一种、或者组合两种以上进行使用。
其中，从能够形成具有更优异的阻气性的阻气层的角度考虑，作为聚合物，优选为含硅聚合物。作为含硅聚合物，可以列举：聚硅氮烷系化合物、聚碳硅烷系化合物、聚硅烷系化合物、和聚有机硅氧烷系化合物等。其中，从可以形成即使薄也具有优异的阻气性的阻气层的角度考虑，优选为聚硅氮烷系化合物。通过对包含聚硅氮烷系化合物的层施行改质处理，可以形成具有氧、氮、硅作为主要构成原子的层(氧氮化硅层)。
聚硅氮烷系化合物是分子内具有包含-Si-N-键(硅氮烷键)的重复单元的聚合物。具体而言，优选为具有以式(1)表示的重复单元的化合物。另外，对使用的聚硅氮烷系化合物的数均分子量没有特别限定，但优选为100～50,000。
[化学式1]
上述式(1)中，n表示任意的自然数。
Rx、Ry、Rz分别独立表示氢原子、未取代或具有取代基的烷基、未取代或具有取代基的环烷基、未取代或具有取代基的链烯基、未取代或具有取代基的芳基或烷基甲硅烷基等非水解性基团。
作为上述未取代或具有取代基的烷基的烷基，例如可以列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、正己基、正庚基、正辛基等碳原子数为1～10的烷基。
作为未取代或具有取代基的环烷基的环烷基，可以列举：环丁基、环戊基、环己基、环庚基等碳原子数为3～10的环烷基。
作为未取代或具有取代基的链烯基的链烯基，例如可以列举：乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基等碳原子数为2～10的链烯基。
作为上述烷基、环烷基和链烯基的取代基，可以列举：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等卤原子；羟基；硫醇基；环氧基；缩水甘油氧基；(甲基)丙烯酰氧基；苯基、4-甲基苯基、4-氯苯基等未取代或具有取代基的芳基等。
作为未取代或具有取代基的芳基的芳基，例如可以列举：苯基、1-萘基、2-萘基等碳原子数为6～10的芳基。
作为上述芳基的取代基，可以列举：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等卤原子；甲基、乙基等碳原子数为1～6的烷基；甲氧基、乙氧基等碳原子数为1～6的烷氧基；硝基；氰基；羟基；硫醇基；环氧基；缩水甘油氧基；(甲基)丙烯酰氧基；苯基、4-甲基苯基、4-氯苯基等未取代或具有取代基的芳基等。
作为烷基甲硅烷基，可以列举：三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、三异丙基甲硅烷基、三叔丁基甲硅烷基、甲基二乙基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、二乙基甲硅烷基、甲基甲硅烷基、乙基甲硅烷基等。
其中，作为Rx、Ry、Rz，优选氢原子、碳原子数为1～6的烷基、或苯基，特别优选氢原子。
作为具有上述式(1)所表示的重复单元的聚硅氮烷系化合物，可以是Rx、Ry、Rz均为氢原子的无机聚硅氮烷，也可以是Rx、Ry、Rz中的至少一个不是氢原子的有机聚硅氮烷。
另外，在本发明中，作为聚硅氮烷系化合物，还可以使用聚硅氮烷改性物。作为聚硅氮烷改性物，例如可以列举：日本特开昭62-195024号公报、日本特开平2-84437号公报、日本特开昭63-81122号公报、日本特开平1-138108号公报等、日本特开平2-175726号公报、日本特开平5-238827号公报、日本特开平5-238827号公报、日本特开平6-122852号公报、日本特开平6-306329号公报、日本特开平6-299118号公报、日本特开平9-31333号公报、日本特开平5-345826号公报、日本特开平4-63833号公报等中记载的聚硅氮烷改性物。
其中，作为聚硅氮烷系化合物，从获取容易性、和可以形成具有优异的阻气性的离子注入层的角度考虑，优选Rx、Ry、Rz均为氢原子的全氢聚硅氮烷。
另外，作为聚硅氮烷系化合物，还可以直接使用作为玻璃包覆材料等出售的市售品。
聚硅氮烷系化合物可以单独使用一种、或者组合两种以上进行使用。
聚合物层除了含有上述的聚合物以外，在不妨碍本发明目的的范围内，还可以含有其他成分。作为其他成分，可以列举：固化剂、抗老化剂、光稳定剂、阻燃剂等。
从得到具有更优异的阻气性的阻气层的角度考虑，聚合物层中的聚合物的含量优选为50质量%以上，更优选为70质量%以上。
对聚合物层的厚度没有特别限定，但优选为50～300nm，更优选为50～200nm的范围。
在本发明中，即使聚合物层的厚度为纳米级，也可以得到具有充分的阻气性的阻气性层合体。
对聚合物层的形成方法没有特别限定。例如，调制含有至少一种聚合物、根据需要还含有其他成分和溶剂等的聚合物层形成用溶液，然后，利用公知的方法涂布该聚合物层形成用溶液，再将所得的涂膜干燥，从而可以形成聚合物层。
作为聚合物层形成用溶液中使用的溶剂，可以列举：苯、甲苯等芳族烃系溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶剂；丙酮、丁酮、甲基异丁基酮等酮系溶剂；正戊烷、正己烷、正庚烷等脂肪族烃系溶剂；环戊烷、环己烷等脂环式烃系溶剂等。
这些溶剂可以单独使用一种、或者组合两种以上进行使用。
作为聚合物层形成用溶液的涂布方法，可以列举：刮条涂布法、旋涂法、浸涂法、辊涂法、凹版涂布法、刮刀涂布法、气刀涂布法、辊式刮刀涂布法、口模涂布法、丝网印刷法、喷涂法、凹版胶印法等。
作为所形成的涂膜的干燥方法，可以采用热风干燥、热辊干燥、红外线照射等以往公知的干燥方法。加热温度通常为60～130℃的范围。加热时间通常为数秒～数十分钟。
作为聚合物层的改质处理，可以列举：离子注入处理、等离子体处理、紫外线照射处理、热处理等。
如下所述，离子注入处理是指向聚合物层中注入离子以将聚合物层改质的方法。
等离子体处理是指将聚合物层暴露在等离子体中以将聚合物层改质的方法。例如可以按照日本特开2012-106421号公报中记载的方法进行等离子体处理。
紫外线照射处理是指对聚合物层照射紫外线以将聚合物层改质的方法。例如可以按照日本特开2013-226757号公报中记载的方法进行紫外线改质处理。
其中，从不会损坏聚合物层的表面、可以高效率地改质至其内部、可以形成阻气性更优异的阻气层的角度考虑，优选离子注入处理。
作为注入聚合物层中的离子，可以列举：氩、氦、氖、氪、氙等稀有气体的离子；氟烷、氢、氮、氧、二氧化碳、氯、氟、硫等的离子；甲烷、乙烷等烷烃系气体类的离子；乙烯、丙烯等烯烃系气体类的离子；戊二烯、丁二烯等二烯烃系气体类的离子；乙炔等炔烃系气体类的离子；苯、甲苯等芳族烃系气体类的离子；环丙烷等环烷烃系气体类的离子；环戊烯等环烯烃系气体类的离子；金属离子；有机硅化合物的离子等。
这些离子可以单独使用一种、或者组合两种以上进行使用。
其中，从可以更简便地注入离子、可以得到具有更优异的阻气性的阻气层的角度考虑，优选氩、氦、氖、氪、氙等稀有气体的离子。
离子的注入量可以结合阻气性层合体的使用目的(必要的阻气性、透明性等)等适当确定。
作为注入离子的方法，可以列举：照射经电场加速的离子(离子束)的方法、注入等离子体中的离子的方法等。其中，在本发明中，从简便地得到目标阻挡层的角度考虑，优选后者的注入等离子体离子的方法。
等离子体离子注入例如可如下进行：使在包含稀有气体等生成等离子体的气体的环境下产生等离子体，对聚合物层施加负高电压脉冲，从而将该等离子体中的离子(阳离子)注入聚合物层的表面部。
通过离子注入，注入有离子的区域的厚度可以通过离子的种类或施加电压、处理时间等注入条件来控制，只要根据聚合物层的厚度、层合体的使用目的等来确定即可，但通常为10～300nm。
(4) 长尺寸的阻气性层合体
本发明的长尺寸的阻气性层合体的特征在于：该层合体是在上述基材的一个面侧层合上述功能层、在基材的另一个面侧依次层合上述平滑化层和阻气层而形成的，其中，功能层的与基材侧相反一侧的面和阻气层的与基材侧相反一侧的面的静摩擦系数为0.35～0.80。
功能层的与基材侧相反一侧的面和阻气层的与基材侧相反一侧的面的静摩擦系数为0.35～0.80，优选为0.40～0.75。
因功能层与阻气层之间的静摩擦系数处于上述范围内，故在将本发明的长尺寸的阻气性层合体卷绕成辊筒状时或者从辊筒导出时不易发生粘连或夹杂空气等问题。
本发明的长尺寸的阻气性层合体中，功能层的与基材侧相反一侧的面和平滑化层的与基材侧相反一侧的面的静摩擦系数优选为0.35～0.80，更优选为0.40～0.75。
因功能层与平滑化层之间的静摩擦系数处于上述范围内，故在将作为本发明的长阻气性层合体的制造中间体的、带有功能层和平滑化层的树脂膜卷绕成辊筒状时或者辊筒导出时，不易发生粘连或夹杂空气等问题。
功能层、平滑化层、阻气层的静摩擦系数可以根据JIS K7125来测定。
作为本发明的长尺寸的阻气性层合体，可以列举：具有功能层/基材/平滑化层/阻气层这样的层构成的层合体。
本发明的长尺寸的阻气性层合体可以是具有除功能层、基材、平滑化层、阻气层以外的层的层合体。
作为除基材、平滑化层、阻气层以外的层，可以列举：导电体层、冲击吸收层、粘合剂层、工艺薄片等。需要说明的是，工艺薄片是指在层合体的保存、搬运等时具有保护层合体的作用、而在使用层合体时被剥离的薄片。
本发明的阻气性层合体可以通过后述的方法来制造。
对本发明的阻气性层合体的厚度没有特别限定，但优选为5～100μm，更优选为10～50μm，进一步优选为20～40μm。
本发明的阻气性层合体在温度40℃、相对湿度90%下的水蒸气透过率优选为0.1g/(m2·天)以下，更优选为0.05g/(m2·天)以下，进一步优选为0.03g/(m2·天)以下。对下限值没有特别限定，越小越优选，但通常为0.001g/(m2·天)以上。
水蒸气透过率可以通过实施例中记载的方法来测定。
由于本发明的阻气性层合体具有优异的阻气性，因此适合用作电子器件用构件。
作为电子器件，可以列举：液晶显示器、有机EL显示器、无机EL显示器、电子纸、太阳能电池等。
2) 长尺寸的阻气性层合体的制造方法
本发明的制造方法是指本发明的长尺寸的阻气性层合体的制造方法，有具备下述步骤(a-I)～(a-III)的制造方法(a)、或具备下述步骤(b-I)～(b-III)的制造方法(b)。
[制造方法(a)]
步骤(a-I)，从基材用树脂膜的辊筒起沿一定方向搬运上述树脂膜，同时在上述树脂膜上形成平滑化层，之后将所得的带有平滑化层的树脂膜卷绕成辊筒状；
步骤(a-II)，从通过步骤(a-I)得到的带有平滑化层的树脂膜的辊筒连续导出上述树脂膜并沿一定方向搬运，同时在带有平滑化层的树脂膜的树脂膜表面形成功能层，之后将所得的带有功能层和平滑化层的树脂膜卷绕成辊筒状；
步骤(a-III)，从通过步骤(a-II)得到的带有功能层和平滑化层的树脂膜的辊筒连续导出上述树脂膜并沿一定方向搬运，同时在带有功能层和平滑化层的树脂膜的平滑化层表面形成与功能层的静摩擦系数为0.35～0.80的阻气层，之后将所得的阻气性层合体卷绕成辊筒状。
在步骤(a-I)中，沿一定方向搬运基材用树脂膜，同时在上述树脂膜上形成平滑化层，之后将所得的带有平滑化层的树脂膜卷绕成辊筒状。
作为所使用的基材用树脂膜、以及平滑化层的形成方法，可以列举：与之前所示的基材用树脂膜、以及平滑化层的形成方法相同者。
作为树脂膜的搬运方法、以及在形成平滑化层之后带有平滑化层的树脂膜的卷绕方法，可以采用卷对卷方式的现有的层合膜的制造方法。
在步骤(a-II)中，从通过步骤(a-I)得到的带有平滑化层的树脂膜的辊筒连续导出上述树脂膜并沿一定方向搬运，同时在带有平滑化层的树脂膜的树脂膜表面形成功能层，之后将所得的带有功能层和平滑化层的树脂膜卷绕成辊筒状。
在步骤(a-II)中，平滑化层的与基材侧相反一侧的面和功能层的与基材侧相反一侧的面的静摩擦系数优选为0.35～0.80，更优选为0.40～0.75。由于功能层与平滑化层之间的静摩擦系数处于上述范围内，所以在将作为长尺寸的阻气性层合体的制造中间体的带有功能层和平滑化层的树脂膜卷绕成辊筒状时、以及从辊筒导出时更不易发生粘连或夹杂空气等问题。
作为功能层的形成方法，可以列举：与之前所示的功能层的形成方法相同的方法。
作为从辊筒导出带有平滑化层的树脂膜并进行搬运的方法、以及在形成功能层之后卷绕带有功能层和平滑化层的树脂膜的方法，可以采用卷对卷方式的现有的层合膜的制造方法。
在步骤(a-III)中，从通过步骤(a-II)得到的带有功能层和平滑化层的树脂膜的辊筒连续导出上述树脂膜并沿一定方向搬运，同时在带有功能层和平滑化层的树脂膜的平滑化层表面形成与功能层的静摩擦系数为0.35～0.80的阻气层，之后将所得的阻气性层合体卷绕成辊筒状。
设在平滑化层上的阻气层通常平滑性优异。因此，具有这样的阻气层的阻气性层合体在将其卷绕成辊筒状时、以及从辊筒导出时也容易发生粘连或夹杂空气等问题。
在本发明中，通过控制功能层与阻气层之间的摩擦系数，可以解决这些问题。
作为阻气层的形成方法，可以列举：与之前所示的阻气层的形成方法相同的方法。
作为从辊筒导出带有功能层和平滑化层的树脂膜并进行搬运的方法、以及在形成阻气层后卷绕阻气性层合体的方法，可以采用卷对卷方式的现有的层合膜的制造方法。
[制造方法(b)]
步骤(b-I)，沿一定方向搬运基材用树脂膜，同时在上述树脂膜上形成功能层，之后将所得的带有功能层的树脂膜卷绕成辊筒状；
步骤(b-II)，从通过步骤(b-I)得到的带有功能层的树脂膜的辊筒连续导出上述树脂膜并沿一定方向搬运，同时在带有功能层的树脂膜的树脂膜表面形成平滑化层，之后将所得的带有功能层和平滑化层的树脂膜卷绕成辊筒状；
步骤(b-III)，从通过步骤(b-II)得到的辊筒状的带有功能层和平滑化层的树脂膜连续导出上述树脂膜并沿一定方向搬运，同时在带有功能层和平滑化层的树脂膜的平滑化层表面形成与功能层的静摩擦系数为0.35～0.80的阻气层，之后将所得的阻气性层合体卷绕成辊筒状。
在步骤(b-I)中，沿一定方向搬运基材用树脂膜，同时在上述树脂膜上形成功能层，之后将所得的带有功能层的树脂膜卷绕成辊筒状。
在步骤(b-1)中，除了形成功能层以代替平滑化层以外，与步骤(a-1)相同。
在步骤(b-II)中，从通过步骤(b-I)得到的带有功能层的树脂膜的辊筒连续导出上述树脂膜并沿一定方向搬运，同时在带有功能层的树脂膜的树脂膜表面形成平滑化层，之后将所得的带有功能层和平滑化层的树脂膜卷绕成辊筒状。
在步骤(b-II)中，除了形成平滑化层以代替功能层以外，与步骤(a-II)相同。
在步骤(b-II)中，功能层的与基材侧相反一侧的面和平滑化层的与基材侧相反一侧的面的静摩擦系数优选为0.35～0.80，更优选为0.40～0.75。由于功能层与平滑化层之间的静摩擦系数处于上述范围内，因此在将作为长尺寸的阻气性层合体的制造中间体的带有功能层和平滑化层的树脂膜卷绕成辊筒状时、以及从辊筒导出时更不易发生粘连或夹杂空气等问题。
在步骤(b-III)中，从通过步骤(b-II)得到的辊筒状的带有功能层和平滑化层的树脂膜连续导出上述树脂膜并沿一定方向搬运，同时在带有功能层和平滑化层的树脂膜的平滑化层表面形成与功能层的静摩擦系数为0.35～0.80的阻气层，之后将所得的阻气性层合体卷绕成辊筒状。
步骤(b-III)与步骤(a-III)相同。
根据本发明的方法[制造方法(a)或制造方法(b)]，可以高效率地制造本发明的长尺寸的阻气性层合体。
实施例
以下，列举实施例以更详细地说明本发明。但本发明并不受下述实施例的任何限定。
只要没有特别说明，则各例中的份和%均为质量基准。
(阻气性层合体的各层的厚度测定)
使用触针式段差计(AMBIOS TECNOLOGY公司制造、XP-1)，测定了实施例和比较例中得到的阻气性层合体的各层的厚度。
(各层的平滑性)
关于实施例和比较例中得到的阻气性层合体或其制造中间体的各层的平滑性，使用光干涉显微镜(Veeco公司制造、“NT1100”)在250,000μm2(500μm×500μm)的区域观察各层，求出了算术平均粗糙度(Ra)、粗糙度曲线的最大剖面高度(Rt)。
(静摩擦系数)
关于实施例和比较例中得到的阻气性层合体中的功能层的与基材侧相反一侧的面和平滑化层的与基材侧相反一侧的面的静摩擦系数(表1中记作静摩擦系数1)、以及作为阻气性层合体的制造中间体的带有功能层和平滑化层的树脂膜中的功能层的与基材侧相反一侧的面和平滑化层的与基材侧相反一侧的面的静摩擦系数(表1中记作静摩擦系数2)，分别准备两块阻气性层合体或其制造中间体，将它们重合使规定的层相对(对置)，依照JIS K7125进行了测定。
(卷绕性评价)
将实施例1～3和比较例1中得到的长尺寸的阻气性层合体1～5卷绕成辊筒状，按照下述基准评价了卷绕性。评价结果见表1。
○：粘连和夹杂空气均未发生。
×：至少发生了粘连或夹杂空气中的任一者。
(铅笔硬度)
对于实施例和比较例中得到的阻气性层合体的功能层的表面，使用铅笔划痕涂膜硬度试验机[东洋精机制作所社制造、型号“NP”]，依据JISK5600-5-4，利用铅笔法进行了测定。
(表面电阻率)
使用连接在数字静电计(アドバンテスト公司制造)上的平行电极，测定了实施例和比较例中得到的阻气性层合体的功能层侧的表面电阻率。
(防眩性)
将实施例和比较例中得到的阻气性层合体放在黑色板上，使功能层朝上。
然后，在功能层的上方打开3波长荧光灯，通过功能层使其反射，按照下述基准进行了评价。所得结果见表2。
○：经功能层的反射看到的荧光灯的轮廓模糊不清；
×：经功能层的反射看到的荧光灯的轮廓没有模糊不清。
[制造例1]
将20份的六丙烯酸二季戊四醇酯(新中村化学公司制造、商品名：A-DPH)溶解于100份的甲基异丁基酮中，之后添加3份的光聚合引发剂(BASF公司制造、商品名：Irgacure127)，调制成平滑化层形成用溶液。
[制造例2]
从聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(帝人デュポン公司制造、商品名：PET25テトロンHPE、厚度：25μm、称作“树脂膜(1)”。下同。)的辊筒导出树脂膜(1)，一边搬运树脂膜(1)，一边利用刮条涂布法在树脂膜(1)上涂布制造例1中得到的平滑化层形成用溶液，将所得涂膜在70℃下加热干燥1分钟，之后使用UV光照射灯进行UV光照射(高压水银灯、线速度为20m/分钟、累积光量为100mJ/cm2、最大强度为1.466W、通过次数为2次)、形成了厚度为1μm的平滑化层，将所得的带有平滑化层的树脂膜卷绕成辊筒状。
(制造例3)
在100份的含光聚合引发剂的聚氨酯系硬镀剂(荒川化学工业公司制造、商品名：ビームセット575CB、固体成分为100%)中均匀混合5份的圆球形硅珠微粒(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン公司制造、商品名：トスパール130、平均粒径为3.0μm、固体成分为100%)、61.6份的乙基溶纤剂和61.6份的异丁醇，调制了固体成分为46%的硬镀层形成用溶液(1)。
然后，从通过制造例2得到的带有平滑化层的树脂膜的辊筒导出上述树脂膜，一边搬运上述树脂膜，一边利用刮条涂布法在其树脂膜面上涂布硬镀层形成用溶液(1)，将所得涂膜在70℃下加热干燥1分钟，之后使用UV光照射灯进行UV光照射(高压水银灯、线速度为20m/分钟、累积光量为100mJ/cm2、最大强度为1.466W、通过次数为2次)，形成了厚度为2μm的硬镀层A，将所得的具有硬镀层A/树脂膜/平滑化层的层构成的带有硬镀层A和平滑化层的树脂膜(1)卷绕成辊筒状。
(制造例4)
在100份作为四乙氧基硅烷的水解・脱水缩合化合物的硅酸酯涂布液(コルコート公司制造、产品名：コルコートN103-X、固体成分为2%)中均匀混合0.1份圆球形硅珠微粒(モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン公司制造、商品名：トスパール130、平均粒径为3.0μm、固体成分为100%)，调整成固体成分为2%的防静电层形成用溶液(2)。
然后，从通过制造例2得到的带有平滑化层的树脂膜的辊筒导出上述树脂膜，一边搬运上述树脂膜，一边利用刮条涂布法在其树脂膜面上涂布防静电层形成用溶液(2)，将所得涂膜在70℃下加热干燥1分钟，形成了厚度为100nm的防静电层A，将所得的具有防静电层A/树脂膜/平滑化层的层构成的带有防静电层A和平滑化层的树脂膜(2)卷绕成辊筒状。
(制造例5)
将100份作为多官能(甲基)丙烯酸酯的六丙烯酸二季戊四醇酯(新中村化学工业制造、NK酯A-DPH)、3份作为光聚合引发剂的1-羟基环己基苯基酮(BASF公司制造、イルガキュア184)、5份有机硅树脂微粒(モメンティブ公司制造、トスパール120、体积平均粒径：2μm)和18份二氧化硅纳米颗粒(日产化学公司制造、MIBK-ST、平均粒径：10nm)混合，之后用丙二醇单甲醚稀释，得到了固体含量为30%的防眩性硬镀层形成用溶液(3)。
然后，从通过制造例2得到的带有平滑化层的树脂膜的辊筒导出上述树脂膜，一边搬运上述树脂膜，一边利用刮条涂布法在其树脂膜面上涂布防眩性硬镀层形成用溶液(3)，将所得涂膜在70℃下加热干燥1分钟，之后使用UV光照射系统进行UV光照射(高压水银灯、线速度为20m/分钟、累积光量为100mJ/cm2、最大强度为1.466W、通过次数为2次)，形成了厚度为2μm的防眩性硬镀层A，将所得的具有防眩性硬镀层A/树脂膜/平滑化层的层构成的带有防眩层和平滑化层的树脂膜(3)卷绕成辊筒状。
(制造例6)
在制造例3中，除了直接使用平滑化层形成用溶液作为硬镀层形成用溶液以代替硬镀层形成用溶液(1)以外，进行与制造例3相同的操作，将具有硬镀层B/树脂膜/平滑化层的层构成的带有硬镀层B和平滑化层的树脂膜(4)卷绕成了辊筒状。
(制造例7)
在制造例4中，除了未添加圆球形有机硅珠粒微粒以外，进行与实施例4相同的操作，制作防静电层B，将具有防静电层B/树脂膜/平滑化层的层构成的带有防静电层B和平滑化层的树脂膜(5)卷绕成了辊筒状。
[实施例1]
从通过制造例3得到的带有硬镀层A和平滑化层的树脂膜(1)的辊筒导出上述树脂膜(1)，一边搬运上述树脂膜(1)，一边利用刮条涂布法在其平滑化层表面涂布全氢聚硅氮烷(AZエレクトロニックマテリアルズ公司制造、商品名：AZNL110A-20)，将所得涂膜在120℃下加热2分钟，形成了厚度为150nm的全氢聚硅氮烷层。之后，作为改质处理，使用等离子体离子注入装置向全氢聚硅氮烷层的表面进行氩(Ar)的等离子体离子注入，形成阻气层，得到了具有硬镀层A/基材(树脂膜)/平滑化层/阻气层的层构成的长尺寸的阻气性层合体1。
长尺寸的阻气性层合体1的各层的表面粗糙度、静摩擦系数、以及卷绕性、铅笔硬度、表面电阻率和防眩性的评价结果见表1。
用于形成阻气层的等离子体离子注入装置和等离子体离子注入条件如下。
(等离子体离子注入装置)
RF电源：型号“RF”56000、日本电子公司制造；
高电压脉冲电源：“PV-3-HSHV-0835”、栗田制作所社制造；
(等离子体离子注入条件)
・生成等离子体的气体：Ar；
・气体流量：100sccm；
・负载比(Duty比)：0.5%；
・重复频率：1000Hz；
・施加电压：-10kV；
・RF电源：频率为13.56MHz、施加功率为1000W；
・室内压：0.2Pa；
・脉冲宽：5μsec；
・处理时间(离子注入时间)：5分钟；
・搬运速度：0.2m/分钟。
[实施例2]
在实施例1中，除了使用制造例4中得到的带有防静电层A和平滑化层的树脂膜(2)代替带有硬镀层A和平滑化层的树脂膜(1)以外，进行与实施例1相同的操作，得到了长尺寸的阻气性层合体2。
长尺寸的阻气性层合体2的各层的表面粗糙度、静摩擦系数见表1。
[实施例3]
在实施例1中，除了使用制造例5中得到的带有防眩层和平滑化层的树脂膜(3)代替带有硬镀层A和平滑化层的树脂膜(1)以外，进行与实施例1相同的操作，得到了长尺寸的阻气性层合体3。
长尺寸的阻气性层合体3的各层的表面粗糙度、静摩擦系数见表1。
[比较例1]
在实施例1中，除了使用制造例6中得到的带有硬镀层B和平滑化层的树脂膜(4)代替带有硬镀层A和平滑化层的树脂膜(1)以外，进行与实施例1相同的操作，得到了长尺寸的阻气性层合体4。
长尺寸的阻气性层合体4的各层的表面粗糙度、静摩擦系数见表1。
[比较例2]
在实施例1中，除了使用制造例7中得到的带有防静电层B和平滑化层的树脂膜(5)代替带有硬镀层A和平滑化层的树脂膜(1)以外，进行与实施例1相同的操作，得到了长尺寸的阻气性层合体5。
长尺寸的阻气性层合体5的各层的表面粗糙度、静摩擦系数见表1。
[表1]
由表1可知以下的结果。
实施例1～3的阻气性层合体在卷绕时没有发生粘连或夹杂空气，卷绕性优异。
另一方面，比较例1和2的阻气性层合体在卷绕时会发生粘连或夹杂空气，因此卷绕性差。