一种带纳米级凹槽的光学保护膜的制作方法

本实用新型涉及光学器材技术领域，具体为一种带纳米级凹槽的光学保护膜。

背景技术：

光学元件是光学系统的基本组成单元，大部分光学元件起成像的作用，如透镜、棱镜、反射镜等，另外还有一些在光学系统中起特殊作用(如分光、传像、滤波等)的零件，如分划板、滤光片、光栅用以光学纤维件等。全息透镜、梯度折射率透镜、二元光学元件等，是一二十年来出现的新型光学元件。

目前，市场中的光学元件在生产后通常会在其表面覆盖一层保护膜，用来对光学元件的表面进行保护，但是，现有的保护膜在实际使用中缺乏缓冲的能力，在光学元件受到碰撞后，容易导致光学元件的表面产生痕迹，影响光学元件的透光性能。为此，需要设计一种新的技术方案给予解决。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种带纳米级凹槽的光学保护膜，通过在基质层的表面设有矩形阵列分布纳米级凹槽，提高保护膜与光学元件连接的稳定性，通过在基质层内设有带缓冲腔的缓冲层，提高保护膜对光学元件的保护，避免碰撞而对光学元件造成影响。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种带纳米级凹槽的光学保护膜，包括保护膜主体，所述保护膜主体的表面设有印刷层，所述保护膜主体包括基质层、离型层和耐磨层，所述离型层和耐磨层分别位于基质层的上、下表面，所述离型层与基质层吸附连接，所述耐磨层与基质层固定连接，所述基质层包括静电层、贴合层、缓冲层和防护层，所述静电层、贴合层、缓冲层和防护层从上至下依次贴合固定连接。

作为上述技术方案的改进，所述缓冲层内部设有均匀分布的缓冲隔膜，所述缓冲隔膜彼此之间形成六边形的缓冲腔。

作为上述技术方案的改进，所述缓冲腔内部填充有缓冲气体，所述缓冲气体具体为氦气、氩气和氙气中至少一种。

作为上述技术方案的改进，所述贴合层的表面设有纳米级凹槽，所述纳米级凹槽为半球状且呈矩形阵列状均匀分布。

作为上述技术方案的改进，所述防护层采用高密度聚乙烯材料挤压成型，所述耐磨层的表面镀有颗粒状涂层。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

1、本实用新型通过在基质层的表面设有矩形阵列分布纳米级凹槽，配合静电层对光学元件的表面进行吸附，提高保护膜与光学元件连接的稳定性，通过在基质层内设有带缓冲腔的缓冲层，提高保护膜对光学元件的保护，避免碰撞而对光学元件造成影响。

2、本实用新型通过在保护膜的下表面设有带颗粒状涂层的耐磨层，提高保护膜外表面的摩擦力，避免光学元件包装后彼此堆放而产生滑动，提高光学元件的生产质量。

附图说明

图1为本实用新型所述带纳米级凹槽的光学保护膜整体结构示意图；

图2为本实用新型所述基质层剖视结构示意图；

图3为本实用新型a处放大结构示意图。

图中：保护膜主体-1，印刷层-2，基质层-3，离型层-4，耐磨层-5，静电层-6，贴合层-7，缓冲层-8，防护层-9，缓冲隔膜-10，缓冲腔-11，纳米级凹槽-12。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。

请参阅图1-3本实用新型提供一种技术方案：一种带纳米级凹槽的光学保护膜，包括保护膜主体1，所述保护膜主体1的表面设有印刷层2，方便在保护膜主体1的表面印刷使用步骤和提示语，所述保护膜主体1包括基质层3、离型层4和耐磨层5，所述离型层4和耐磨层5分别位于基质层3的上、下表面，所述离型层4与基质层3吸附连接，所述耐磨层5与基质层3固定连接，所述基质层3包括静电层6、贴合层7、缓冲层8和防护层9，所述静电层6、贴合层7、缓冲层8和防护层9从上至下依次贴合固定连接。

进一步改进地，如图3所示，所述缓冲层8内部设有均匀分布的缓冲隔膜10，所述缓冲隔膜10彼此之间形成六边形的缓冲腔11，通过在缓冲层8的内部设有六边形的缓冲腔11，提高缓冲层8的结构稳定性，避免缓冲层8在受到撞击时而破裂。

进一步改进地，所述缓冲腔11内部填充有缓冲气体，所述缓冲气体具体为氦气、氩气和氙气中至少一种，通过在缓冲腔11内部填充有惰性气体，提高缓冲层8在使用时的安全性，且惰性气体化学性质较为稳定，不易对缓冲隔膜10造成影响。

进一步改进地，如图2所示，所述贴合层7的表面设有纳米级凹槽12，所述纳米级凹槽12为半球状且呈矩形阵列状均匀分布，通过在贴合层7测表面设有矩形阵列分布的纳米级凹槽12，方便提高贴合层7与光学元件表面贴合的紧密性，同时利用纳米级凹槽12配合静电层6对光学元件的表面进行吸附，提高保护膜与光学元件连接的稳定性，不易脱落。

进一步改进地，所述防护层9采用高密度聚乙烯材料挤压成型，所述耐磨层5的表面镀有颗粒状涂层，通过使用高密度聚乙烯材料挤压成型制成防护层9，提高防护层9的耐用度，避免碰撞时造成防护层9表面破裂，通过在耐磨层5的表面镀有颗粒状涂层，提高保护膜外表面的摩擦力，避免光学元件包装后彼此堆放而产生滑动。

本实用新型通过在基质层3的表面设有矩形阵列分布纳米级凹槽12，配合静电层6对光学元件的表面进行吸附，提高保护膜与光学元件连接的稳定性，通过在基质层3内设有带缓冲腔11的缓冲层8，提高保护膜对光学元件的保护，避免碰撞而对光学元件造成影响。

本方案所保护的产品目前已经投入实际生产和应用，尤其是在光学器材上的应用取得了一定的成功，很显然印证了该产品的技术方案是有益的，是符合社会需要的，也适宜批量生产及推广使用。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点，对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。