一种高阻隔膜及复合膜的制作方法

文档序号:10201981阅读:856来源:国知局
一种高阻隔膜及复合膜的制作方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型属于柔性薄膜领域,特别设及一种高阻隔膜及复合膜。
【背景技术】
[0002] 柔性薄膜太阳能电池如OPV (化ganic Photovoltaic,有机光伏电池)和CIGS (铜 铜嫁砸)W其独特的柔性、轻薄性能,广泛的应用于太阳能背包、太阳能帐篷、太阳能手电 筒、太阳能汽车、甚至太阳能帆船和飞机上。另外一个重要的应用领域是光伏建筑一体化, 它可W不需要支架,平铺在屋顶,粘贴在窗户、外墙及内墙上。
[0003] 有机电致发光二极管(OLED)在平板显示器中具有发光亮度高、色彩丰富、低压直 流驱动、制备工艺简单等显著的优点,而在不到20年的时间内,OLED已经进入产业化阶段。
[0004] 柔性薄膜太阳能电池和OL邸易受水氧影响,导致稳定性变差,故需要对水氧具 有高阻隔作用的透明柔性膜对其进行封装。现今常用的高阻隔膜多为利用真空锻膜设 备,如蒸锻、CVD (Qiemical Vapor Deposition,化学气相沉积)、PVD (Physical Vapor Deposition,物理气相沉积)、ALD (Atomic Layer Deposition,原子层沉积)等,在柔性聚合 物基材上锻制透明无机物或氮化物。同时为了增加锻层的柔性,可在无机锻层之间加入了 有机层。而现今的高阻隔膜产品锻膜完成后,一般都直接收卷,对阻隔层没有保护,收卷过 程中造成阻隔层脆裂,尤其是瓣射及原子层沉积技术锻制的无机阻隔层;此外,高阻隔膜产 品在随后与其它膜的卷对卷复合加工、搬运装卸过程中,外表面极易损伤,进而造成阻隔层 锻层的脱落及刺穿,造成高阻隔膜整体阻水氧性能的显著降低。 【实用新型内容】 阳0化]本实用新型要解决的技术问题在于,针对现有高阻隔膜在卷对卷加工和搬运装卸 过程中易脆裂和划伤的缺点,提供一种能够提高耐划伤及防刺穿性能的高阻隔膜,保证稳 定的局阻水氧性能。
[0006] 本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案是,提供一种高阻隔膜,所述高 阻隔膜包括:在聚合物基材的单面或双面锻制阻隔层,在阻隔层上还设置有硬化层。
[0007] 该硬化层作为高阻隔膜的外表面,起到防划伤和防刺穿性能,进而避免因阻隔层 的划伤脱落或者刺穿而造成高阻隔膜阻水氧性能的显著降低。
[0008] 优选地,硬化层为光固化树脂,例如聚氨醋丙締酸醋、聚醋丙締酸醋、环氧丙締酸 醋、多元醇丙締酸醋、环氧树脂等;且优选具有多官能度的单体。
[0009] 硬化层的透光率大于95%,铅笔硬度大于2H,防止外部划伤,并且自身拉伸强度较 好,能分摊高阻隔膜卷绕弯折时的内应力。
[0010] 进一步地,硬化层的厚度优选为2~20 ym (微米)。
[0011] 硬化层可采用涂布工艺制备而成,例如可采用刮刀涂布法、漉涂法、刮板涂布法、 喷涂法、凹版涂布法等,但不局限于涂布工艺制成。
[0012] 所述高阻隔膜为透明柔性高阻隔膜,对水氧阻隔性能高,WVTR (Water Vapor Transmission Rate,透水率)小于 10 3g/m2 ? day。
[0013] 进一步地,在高阻隔膜的阻隔层和硬化层之间还设置有柔性有机层。
[0014] 该柔性有机层主要为了缓和阻隔层的应力,有效防止高阻隔膜在卷对卷复合加工 及收卷过程中造成阻隔层的脆裂,尤其是采用瓣射或者原子层沉积工艺制备的无机阻隔 层。
[0015] 优选地,柔性有机层可采用光固化树脂,且优选低官能度的单体。
[0016] 柔性有机层的厚度一般为5~50 y m。
[0017] 柔性有机层可采用但不局限于刮刀涂布法、漉涂法、刮板涂布法、喷涂法、凹版涂 布法等涂布技术制备而成。
[0018] 此外,本实用新型还提供了一种复合膜,将上述的高阻隔膜进一步与其他薄膜材 料如ETFE膜等复合加工成柔性封装材料的前板复合膜,应用于电子显示器件或者太阳能 薄膜电池组件等,能够有效保护核屯、器件被水氧的侵蚀。
[0019] 与现有技术相比,本实用新型通过在阻隔层上涂覆硬化层,提高高阻隔膜的表面 耐划伤及防刺穿性能,从而能够经受机械加工中的各种损伤;此外,还可在阻隔层和硬化层 间加入柔性有机层,确保在后期复合加工,装卸搬运裁切使用过程中,能够经受拉伸、摩擦、 扭结、冲击的影响,保持稳定的高阻水氧性能,同时保持95% W上的高透光度。
【附图说明】
[0020] 图1是本实用新型实施例一的高阻隔膜的结构示意图。
[0021] 图2是本实用新型实施例二的高阻隔膜的结构示意图。
【具体实施方式】
[0022] W下结合附图及具体实施例对本实用新型实施方式做进一步详细阐述。
[0023] 实施例一:结合图1所示,本实施例的高阻隔膜自下而上依次包括:基材1,阻隔层 2和硬化层3。
[0024] 其中,基材1为通用的透明聚合物基材,对基材的材质和厚度没有特别限定,可W 依据使用目的等进行自由选择。具体可例举聚醋膜、尼龙膜、聚丙締薄膜、透明氣树脂、聚酷 胺、氣化聚酷胺、聚酷亚胺、聚酷亚胺酷胺、聚乙酸酷胺、环氧树脂、聚碳酸醋、聚氨醋树脂、 聚乙酸乙基酬醋、脂环式聚讽、聚酸讽、聚丙締酸醋、聚乙酸、巧环变性聚碳酸醋、脂环变性 聚碳酸醋、巧环变性聚醋、环締控共聚物等。优选聚对苯二甲酸乙二醇醋膜(PET)、尼龙膜 (PA)。本实用新型对基材1的厚度没有特别限定,优选10~250 ym。
[00巧]本实用新型中的阻隔层2的成分,可W是无机阻隔层,如金属氧化物、氮氧化物、 碳氧化物等,更具体地可选自含有娃,侣,锡,锋,铁,儀,错,儀,钻,铁,铅,铜,钮,铜等一种 或一种W上金属的氧化物、氮氧化物、碳氧化物、碳氮化物、碳氮氧化物。其中,优选娃,侣, 锡,锋,铁的金属氧化物、氮化物和氮氧化物,更优选娃,侣的金属氧化物、氮化物和氮氧化 物,还可化含有其它辅助成分。但该透明的阻隔层2并不局限于无机阻隔层,也可W是有机 阻隔层。该阻隔层2主要起到阻隔水氧作用,保护内层不受水氧侵蚀。
[00%] 阻隔层2的锻制可采用但不局限于真空锻膜设备,按照所选用的阻隔层组成物种 类进行适当选择。制备方法可W采用等离子体化学气相沉积法、瓣射法、蒸锻发、原子层沉 积法等,也可采用溶胶凝胶法。阻隔层的厚度优选为20~300nm (纳米)。
[0027] 本实用新型中的硬化层3为光固化树脂,例如聚氨醋丙締酸醋、聚醋丙締酸醋、环 氧丙締酸醋、多元醇丙締酸醋、环氧树脂等。且优选具有多官能度的单体,进一步的,优选大 于(或等于)3官能度的甲基丙締酸醋单体,例如=丙締酸=径甲基丙烷醋、=丙締酸季戊四 醇醋、四丙締酸季戊四醇醋、= (3-丙締酷氧基丙基)异氯脈酸醋等,它们可W单独使用,也 可W组合使用。高官能度的丙締酸醋单体固化成膜后,交联密度高,因此,可W有效提高成 膜后的硬度和抗划
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