高透过型光学阻隔薄膜的制作方法

文档序号:10801941阅读:415来源:国知局
高透过型光学阻隔薄膜的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种高透过型光学阻隔薄膜,包括PET光学薄膜,其特征在于还包括均匀附着于所述PET光学薄膜两面的SiO涂层 。 本实用新型在PET光学薄膜的表面附着了SiO涂层,该SiO涂层兼具原先高阻隔膜(阻水阻氧)和防反射(AR)涂层的功能,使得本实用新型产品既具备高的阻隔性能,又有着良好的防反射性能。本实用新型薄膜整体的阻隔性能达到10-1-10-3g/ ㎡/day,同时进一步降低了反射率,而大大增加了透光率,全光线透光率能达到94%以上。
【专利说明】
高透过型光学阻隔薄膜
技术领域
[0001]本实用新型属于光学元件结构改进技术领域,具体涉及一种高透过型光学阻隔薄膜。
【背景技术】
[0002]液晶面板本身并不发光,而是利用背光发出的光才能够显示画面,主流移动电子设备上使用的LCD都是以设备背面的一组发光二极管作为白光光源。液晶控制光的通过,滤色片为其增加了色彩。白光光源价格昂贵,所以显示屏一般都使用蓝光发光二极管,覆盖上荧光粉把发出的光转化为白光。由于受到荧光材质的限制,红光呈现能力偏弱,加上所搭配的彩色滤光片的混色效果差,最终呈现的色域饱和度不佳,导致液晶面板在色域呈现能力上不足,多仅能达到72%NTSC左右。为了不使量子点层劣化,需要采用阻水阻氧的高阻隔膜进行包夹式封装。作为高阻隔膜,面向液晶显示的薄膜必须具备全光线透过率90%以上,Haze和b*要在I以下,然而对于高阻隔膜,达到理想的光学效果非常困难。因此目前缺乏一种兼具高阻隔性能和防反射(AR)性能的光学阻隔薄膜。

【发明内容】

[0003]本实用新型要解决的问题是:提供一种兼具高阻隔性和良好防反射效能的高透过型光学阻隔薄膜,其能够降低反射率,增加透光率。结构简单,涂层薄,柔韧性好。
[0004]为解决上述问题,本实用新型提供的技术方案是:一种高透过型光学阻隔薄膜,包括PET光学薄膜,其特征在于还包括均匀附着于所述PET光学薄膜两面的S1涂层。
[0005]进一步的,本实用新型中所述S1涂层的厚度为80-95nm。
[0006]本实用新型的优点是:
[0007]本实用新型在PET光学薄膜的表面附着了S1涂层,该S1涂层兼具原先高阻隔膜(阻水阻氧)和防反射(AR)涂层的功能,使得本实用新型产品既具备高的阻隔性能,又有着良好的防反射性能。具体的性能提升如下:
[0008]1.因在PET光学薄膜的两面均附着了S1涂层,本实用新型薄膜整体的阻隔性能达至IjlCrl-1CHg/rrf/day。
[0009]2.因在PET光学薄膜的两面均附着了S1涂层,本实用新型相比同类产品,其进一步降低了反射率,而大大增加了透光率,全光线透光率能达到94%以上。
[0010]本实用新型实际上充分利用和发挥了S1涂层的性能和功能,将原先的阻隔和防反射(AR)双层结构简而为一,且加上S1涂层薄,柔韧性好,故使得本实用新型整体厚度较薄,且结构简单,制造方便。
【附图说明】
[0011]下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步描述
[0012]图1为本实用新型高透过型光学阻隔薄膜的截面示意图(图中绘有光线反射示意)。
[0013]其中:l、S1涂层;2、PET光学薄膜
【具体实施方式】
[0014]实施例:参照图1所示,本实用新型提供的这种高透过型光学阻隔薄膜,其由PET光学薄膜2和均匀附着于所述PET光学薄膜两面的S1涂层I共同构成。
[0015]本实施中所述S1涂层I的具体厚度选择为85-90nm。
[0016]本实例在PET光学薄膜2的表面附着了S1涂层I,该S1涂层I兼具原先高阻隔膜(阻水阻氧)和防反射(AR)涂层的功能,使得本实用新型产品既具备高的阻隔性能,又有着良好的防反射性能。具体的性能提升如下:
[0017]1.因在PET光学薄膜2的两面均附着了 S1涂层I,本实用新型薄膜整体的阻隔性能达至丨JlCr1-1CHg/m2/day。
[0018]2.因在PET光学薄膜2的两面均附着了S1涂层I,本实用新型相比同类产品,其进一步降低了反射率,而大大增加了透光率,全光线透光率能达到94%以上。
[0019]本实用新型实际上充分利用和发挥了S1涂层I的性能和功能,将原先的阻隔和防反射(AR)双层结构简而为一,且加上S1涂层I薄,柔韧性好,故使得本实用新型整体厚度较薄,且结构简单,制造方便。
[0020]上述实例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人是能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所做的等效变换或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种高透过型光学阻隔薄膜,包括PET光学薄膜(2),其特征在于还包括均匀附着于所述PET光学薄膜(2)两面的S1涂层(I)。2.根据权利要求1所述的高透过型光学阻隔薄膜,其特征在于,所述S1涂层(I)的厚度为80_95nm。
【文档编号】G02F1/1335GK205484877SQ201520999093
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2015年12月4日
【发明人】于佩强, 王志坚, 曹应刚, 刘勇菁, 陈超, 吕敬波
【申请人】江苏日久光电股份有限公司
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