，以偏光膜制造装置I设置在无尘室A内的情况为例进行说明。
[0068]需要说明的是，在无尘室A内可以设置一个偏光膜制造装置I，也可以设置两个或两个以上的偏光膜制造装置I。在本实施方式中，列举在无尘室A中设置一个偏光膜制造装置I的情况进行说明。
[0069]偏光膜制造装置具有上下两层，上层从上游到下游设置有上述染色延伸处理部12、干燥处理部13、第一涂敷部14、贴合部15、第二涂敷部16、检查部17，下层从上游到下游设置有原料膜供给部11、保护膜供给部18、光硬化部19、偏光膜卷取部20。
[0070]上述各处理部分别被墙壁包围而形成各自独立的房间，在隔开上述各处理部的房间的所述墙壁上设置有用于使膜通过的膜通过口。
[0071]在原料膜供给部11中，从原料膜供给辊输出原料膜，利用导辊经由膜通过口向上层的染色延伸处理部供给原料膜。在染色延伸处理部12中，对原料膜进行染色、延伸处理，经由膜通过口向干燥处理部13供给。在干燥处理部13中，对膜进行干燥而制成偏光片，经由膜通过口向第二涂敷部14供给。下层的保护膜供给部18利用导辊经由膜通过口向第一涂敷部14供给保护膜。在第一涂敷部14中，在保护膜的一面涂敷光硬化粘接剂，经由膜通过口向贴合部15供给一面涂敷了光硬化粘接剂的保护膜。在第二涂敷部16中，在偏光片的一面涂敷光硬化粘接剂，经由膜通过口向贴合部15供给一面涂敷了光硬化粘接剂的偏光片。在贴合部15中，将涂敷了光硬化粘接剂的保护膜和偏光片彼此贴合，经由膜通过口向下层的光硬化部19供给。在光硬化部19中，对贴合了保护膜的偏光片进行光硬化处理，经由膜通过口向上层的检查部17供给。在检查部17中，对偏光膜进行检查，将检查后的偏光膜向下层的偏光膜卷取部20供给。将检查后的偏光膜卷绕在偏光膜卷取部20上。
[0072]在偏光膜制造装置I设置上层部作业者用通路C，作业者经由阶梯到达上层部作业者用通路C。
[0073]所述偏光膜制造装置I还具有:光硬化粘接剂供给装置I，其向所述第一涂敷部和所述第二涂敷部供给光硬化粘接剂;光硬化粘接剂存储罐H，其与该光硬化粘接剂供给装置I连接，存储光硬化粘接剂。
[0074]在本实施方式中，在偏光膜制造装置I的墙壁与相邻的另一偏光膜制造装置I的墙壁之间、或者、在其与无尘室的墙壁之间存在通路。
[0075]所述光硬化粘接剂存储罐H设置在上述通路中。需要说明的是，优选将所述光硬化粘接剂存储罐H设置在所述通路中的与所述第一涂敷部和所述第二涂敷部对应的位置。
[0076]在设置有所述光硬化粘接剂存储罐H的上述通路的敞开空间中的至少外部光射入的全部开口部设置有遮光帘，从而防止与层积光学膜的光硬化处理有关的波长的外部光进入光硬化粘接剂存储罐H。需要说明的是，在本实施方式中，所述光硬化粘接剂存储罐H设置在所述通路中的与所述第一涂敷部和所述第二涂敷部对应的位置，所以优选在与从第一涂敷部到第二涂敷部对应的通路设置遮光帘。
[0077]因此，所述光硬化粘接剂存储罐H设置在所述通路的至少由所述遮光帘包围的遮光空间中，以防止与层积光学膜的光硬化处理有关的波长的外部光进入所述光硬化粘接剂存储触。
[0078]具体地说，在与从第一涂敷部到第二涂敷部对应的通路的出入口，横跨所述通路的整个宽度方向地设置遮光帘B1、B2。使遮光帘B1、B2之间夹着与从第一涂敷部到第二涂敷部的对应的遮光空间D。并且，光硬化粘接剂存储罐H设置在遮光帘B1、B2、偏光膜制造装置的墙壁以及无尘室的墙壁所包围的遮光空间D中。
[0079]另外，所述遮光帘贴合有具有能够遮蔽或吸收波长300nm?500nm的光的功能的遮光膜。
[0080]也就是说，光硬化粘接剂的调和场所、光硬化粘接剂的供给部、光硬化粘接剂的涂敷部都夹在遮光帘B1、B2之间。
[0081 ]以下，对遮光帘B1、B2的结构进行说明。
[0082]需要说明的是，遮光帘BI和遮光帘B2的结构相同，因此，以下仅对遮光帘BI的结构进行说明，省略对遮光帘B2的结构的说明。
[0083]遮光帘BI包括框架部F和遮光帘主体部S。框架部F是例如由铝、不锈钢、树脂等构成。遮光帘主体部S是表面贴有遮光膜的遮光帘。
[0084]以下，对框架部F进行简要的说明。
[0085]框架部F具有纵向主框架21、横向主框架22、23以及加强框架24。纵向主框架21有两个，分别固定在通路两侧的墙壁上。横向主框架具有上侧横向主框架22和下侧横向主框架23，上侧横向主框架22固定在顶棚上，其两端分别固定在两个纵向主框架21的靠近顶棚的两端。下侧横向主框架23与上侧横向主框架22平行地设置，并在高度方向间隔一定的距离。另外，下侧横向主框架23的两端分别固定在两个纵向主框架21上。加强框架24与纵向主框架21平行地设置在上侧、下侧横向主框架22、23之间，两端分别固定在上侧、下侧横向主框架22、23上，并且在宽度方向上大致将上侧、下侧横向主框架22、23之间的空间分隔成大致相等的空间P。
[0086]这里，可以设置一个、两个或者两个以上的加强框架24，从而形成两个、甚至两个以上的空间P，但是，也可以不设置加强框架，从而仅由两个纵向主框架和两个横向主框架形成一个空间P。在形成多个空间P的情况下，多个空间P的面积可以大致相等，也可以不等，不做特别的限定。
[0087]由于遮光帘本身比较软，所以通过设置下侧横向主框架23和加强框架，能够更好地保持遮光帘的形态，进一步提高遮光效果。
[0088]本实施方式中，列举设置两个加强框架24而形成三个空间P的情况进行说明。
[0089]遮光帘主体部S包括遮蔽由纵向主框架21、上侧横向主框架22以及加强框架24包围而成的空间P的第一遮光帘主体部S1、以及遮蔽由纵向主框架21、下侧横向主框架23以及地面围成的通路的第二遮光帘主体部S2。
[0090]第一遮光帘主体部SI有三个，分别由一整片遮光帘形成，贴在由纵向主框架21、上侧横向主框架22以及加强框架24包围而成的空间P来进行遮光。
[0091]第二遮光帘主体部S2由多个小尺寸的遮光帘单体M构成。遮光帘单体M的宽度为500mm?600mm，厚度为40μηι?ΙΟΟμπι，高度根据通路的高度而定，只要能够遮住整个通路的高度即可。
[0092]将多个遮光帘单体M的一端固定在下侧横向主框架23上，并且相邻的遮光帘单体M彼此部分重叠。也就是说，在从通路的一侧观察遮光帘单体M时，彼此相邻的遮光帘单体M具有彼此重叠部分。该重叠部分的宽度为200mm?300mm。
[0093]对于遮光帘单体M的数量不做特别的限定，只要由多个遮光帘单体M构成的第二遮光帘主体部S2能够遮住整个通路即可。
[0094]在整个遮光帘主体部S的表面都贴合有遮光膜。在本实施方式中，该遮光膜是加入吸收剂的PET膜的紫外线吸收膜，其能够吸收300nm?500nm波长的紫外线，但是，对于本实用新型而言，该遮光膜只要具有能够遮蔽或吸收波长300nm?500nm的光的功能的膜即可，不做特别的限定。贴合有这样的遮光膜的遮光帘主体部S遮蔽整个通路，防止光线进入。
[0095]在作业者经过通路时，用手掀开需要经过范围大小的第二遮光帘主体部S2即可，不需要打开全部的第二遮光帘主体部S2，从而在出入时不需要将通路开放的很大，能够更好地进行遮光。
[0096]由于第二遮光帘主体部S2由多片遮光帘单体M构成，多片遮光帘单体M彼此部分重叠，并且整个遮光帘主体部S都贴合有遮光膜，所以在作业者能够简单地进出的同时，还能够遮蔽与层积光学膜的光硬化处理有关的波长的外部光。
[0097]【实施方式2】
[0098]图6是第二实施方式的无尘室中的设置有遮光帘的偏光膜制造装置的整体俯视图，图7是第二实施方式的无尘室中的设置有遮光帘的偏光膜制造装置的侧视图。参照图6?图7对本实用新型的第二实施方式进行说明。
[0099]实施方式2的遮光帘的结构与实施方式I的大致相同，在此，省略相同部分的说明。
[0100]实施方式2与实施方式I的不同之处在于，在实施方式I中，遮光帘在与从第一涂敷部到第二涂敷部对应的通路的出入口横跨所述通路的整个宽度方向地设置，光硬化粘接剂存储罐设置在遮光帘夹着的遮光空间中，也就是说，光硬化粘接剂存储罐的设置空间由遮光帘、偏光膜制造装置的墙壁、无尘室的墙壁围成。
[0101]但是，在实施方式2中，在偏光膜制造装置I与相邻的另一偏光膜制造装置或者无尘室的墙壁之间的间距很大时，很难在横跨通路的整个宽度方向设置遮光帘，因此，如图6所示，出入口的遮光帘从层积光学膜制造装置的墙