本实用新型属于植物水培技术领域，具体涉及一种大豆缺素试验的水培装置。
背景技术：
水培是无土栽培的一种形式，目前水培装置的常见模式包括：毛管水培装置、滴灌式水培装置、营养液膜式水培装置、潮汐式水培装置、水气培以及气雾培装置。而水培设施必须具备四项基本条件，一是能装住营养液，二是能锚定植株并使根系浸润到营养液中，三是使根系和营养液处于黑暗之中，四是使根系获得足够的氧气。许多科研工作者在培养植物材料时，经常采用水培方式，并且常取植物幼苗作为试验材料。而且，水培是目前研究缺素试验最常用的方法，因为它可以精确的控制营养液的各种化学成分和浓度。但是在水培试验过程中，平行试验的不一致性、观测和取样时对根系的伤害等问题也是水培装置难以避免的。因而，制作一种能够便于观测研究、保证试验条件一致性的水培装置具有重要意思。
技术实现要素：
为了解决现有技术存在的问题，本实用新型提供了一种大豆缺素试验的水培装置。
为了实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种大豆缺素试验的水培装置，包括水培箱和集液箱，所述水培箱为透明材质，所述水培箱和所述集液箱通过进液管连通；
所述水培箱外部包裹有可拆卸遮光材料，所述水培箱内壁靠近顶部设置有多个定植底板，每个所述定植底板上设有定植孔和进气孔，所述水培箱内部纵向设置有多个隔板，多个所述隔板将所述水培箱分隔成多个独立的分隔槽，每 个所述隔板靠近底部设有通孔，每个所述分隔槽侧壁设有排液孔。
优选地，所述水培箱内壁靠近顶部内周设有一圈卡槽，所述定植底板卡在所述卡槽内。
优选地，所述定植底板由两个分体板拼接而成。
优选地，所述水培箱内壁设有pH计和温度计。
优选地，所述水培箱一侧外壁设有用于测量水位高度的刻度线。
优选地，每个定植底板上设有两个进气孔。
优选地，所述隔板的数量为三个。
优选地，所述排液孔处设置有排水单向阀。
本实用新型提供的大豆缺素试验的水培装置结构简单，包括水培箱和集液箱，水培箱为透明材质，以观察或测量植株的根系发育情况，避免了在观察或测量植株时移动定植底板带来的不便，水培箱外部包裹有可拆卸遮光材料，有效减少了透光率，避免培养液富营养化，水培箱内壁靠近顶部设置有多个定植底板，每个定植底板上设有定植孔和进气孔，以插入通气泵软管进行供氧。水培箱内部纵向设置有多个隔板，多个隔板将水培箱分隔成多个独立的分隔槽，每个隔板靠近底部设有通孔，每个分隔槽侧壁设有排液孔，分隔槽及其通孔和排液孔的设置方便同时培养不同的植物，便于观测研究、保证试验条件一致性，可以随时观察或测量植株的根系发育情况，避免了在观察或测量植株时移动定植底板带来的不便。
附图说明
图1为本实用新型实施例1的大豆缺素试验的水培装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图，对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
实施例1
本实用新型提供了一种大豆缺素试验的水培装置，具体如图1所示，包括水培箱1和集液箱5，水培箱1为透明材质，以观察或测量植株的根系发育情况，避免了在观察或测量植株时移动定植底板带来的不便，水培箱1和集液箱5通过进液管6连通。
水培箱1外部包裹有可拆卸遮光材料13，有效减少了透光率，避免培养液富营养化，水培箱1内壁靠近顶部设置有多个定植底板2，每个定植底板2上设有定植孔3和进气孔4，以插入通气泵软管进行供氧。水培箱1内部纵向设置有多个隔板7，多个隔板7将水培箱1分隔成多个独立的分隔槽，每个隔板7靠近底部设有通孔8，每个分隔槽侧壁设有排液孔9，排液口9处设置有排水单向阀。本实施例的水培装置中的定植孔3、进气孔4和排液孔9在不需要时均可用孔塞将其堵塞形成封闭结构。
进一步地，水培箱1内壁靠近顶部内周设有一圈卡槽，定植底板2卡在所述卡槽内，定植底板2由两个分体板拼接而成。
为了方便方便检测水培箱1内的pH值和温度及测量水培箱1内水位的高度，本实施例在水培箱1内壁设有pH计10和温度计12，水培箱1一侧外壁设有用于测量水位高度的刻度线11。
本实施例中，每个定植底板2上设有两个进气孔4，隔板7的数量为三个。
利用本实施例的水培装置进行植物水培的步骤如下：
I)选用大小均匀、健康饱满的大豆种子，播种于装有蛭石基质的培养钵中，置于25℃培养箱中催芽。
2)整套水培装置放置在温室内，根据试验所需的分隔槽数量安装隔板7和定植底板2，开启电动气泵进行通气。
3)将已经配置好的营养液通过集液箱5注入到水培箱1内，连续通气，
4)种子萌芽后，选择已长出2片真叶、长势一致的大豆幼苗，用海绵条包裹幼苗的下胚轴部分，移植到定植底板2的定植孔3上。
5)每三天更换一次营养液，通过排液孔9排放营养液，通过pH计10和温 度计12可检测水培箱1内的pH值和温度，通过水培箱1外壁上的刻度线11可测量水培箱1内水位的高度。
以上所述实施例仅为本实用新型较佳的具体实施方式，本实用新型的保护范围不限于此，任何熟悉本领域的技术人员在本实用新型披露的技术范围内，可显而易见地得到的技术方案的简单变化或等效替换，均属于本实用新型的保护范围。