本实用新型涉及一种甜菜田间试验专用喷药装置。
背景技术:
甜菜作为糖料作物栽培已有约两百年历史。甜菜除用于生产糖外,甜菜及其副产品还有广泛开发利用前景。为了更好的种植甜菜,则需要进行甜菜药剂/肥料的田间试验。
甜菜一般都是按行布置种植;但是目前在甜菜药剂/肥料的田间试验中,用于喷洒药剂/肥料的装置一般只有一个或者两个喷头。在喷洒药剂/肥料的过程中,一般都会人为摆动喷洒药剂/肥料的装置、同时喷洒两行或者四行甜菜,以达到提高喷洒效率的目的。
但是,在进行甜菜药剂/肥料的田间试验时,人为摆动喷洒药剂/肥料的装置会造成喷洒药剂/肥料不均匀(有一部分的甜菜可能没有被喷洒到药剂/肥料),从而会使甜菜药剂/肥料的田间试验的结果存在较大的误差。
技术实现要素:
为解决上述问题,本实用新型的目的在于提供一种甜菜田间试验专用喷药装置,可以均匀地对四行甜菜喷洒药剂/肥料、且喷洒效率较高。
为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:一种甜菜田间试验专用喷药装置,其包括喷雾管、横管以及软管;喷雾管的一端与横管固定连接、且喷雾管与横管相互垂直;喷雾管的另一端与软管固定连接;喷雾管设置有阀门以及阀门开关;横管上等距地设置有四个喷头;相邻的两个 喷头之间的距离为50cm。
进一步地,喷雾管的一端与横管的中心固定连接。可以使喷雾管左侧的喷头的喷洒压力与喷雾管右侧的喷头的喷洒压力相等,从而可以更加均匀地喷洒药剂/肥料。
进一步地,还包括两个斜管,两个斜管关于喷雾管的中心镜像对称,斜管的一端与喷雾管固定连接;斜管的另一端与横管固定连接。可以使远离喷雾管的喷头的喷洒压力,与靠近喷雾管的喷头的喷洒压力相等或者相近,从而可以更加均匀地喷洒药剂/肥料。
进一步地,喷雾管上还套有由橡胶制成的手柄。
进一步地,喷雾管、横管以及斜管均为PVC塑料或PP塑料制成。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:1、可以均匀地对四行甜菜喷洒药剂/肥料,且喷洒效率较高;2、具备较高的强度。
附图说明
图1是本实用新型中的一种甜菜田间试验专用喷药装置的结构示意图。
图2是本实用新型中的一种甜菜田间试验专用喷药装置使用时的示意图。
喷雾管1;手柄11;阀门开关12;横管2;喷头21;斜管3;软管4;甜菜5。
具体实施方式
请参阅图1,本实用新型为一种甜菜田间试验专用喷药装置,其包括喷雾管1、横管2以及软管4。
喷雾管1的一端与横管2固定连接、且喷雾管1与横管2相互垂直;喷雾管1的另一端与软管4固定连接;喷雾管1设置有阀门(附图未画出)以及阀门开关12;阀门开关12用于控制喷雾管1的阀门打开或者关闭。
横管2上等距地设置有四个喷头21;相邻的两个喷头21之间的距离为50cm。
本实用新型中的一种甜菜田间试验专用喷药装置的工作原理为:使用时,将软管4的另一端(即与喷雾管1连接的一端的另一端)与装有药剂/肥料的喷雾器(附图未画出)连接;启动喷雾器,喷雾器将药剂/肥料持续地将输送到喷雾管1内;根据需要通过阀门开关12打开阀门,药剂/肥料依次经过软管4、喷雾管1以及横管2后从喷头21喷出,可以对甜菜5喷洒药剂/肥料。
请参阅图2,甜菜5种植的行距一般为50cm,该距离与相邻的两个喷头21之间的距离相等;并且横管2上等距地设置有四个喷头21;相应地,只需要手持本实用新型中的一种甜菜田间试验专用喷药装置,沿甜菜5种植的行的方向直线前进即可喷洒四行甜菜5,不需人为摆动本实用新型中的一种甜菜田间试验专用喷药装置;同时,药剂/肥料持续地从喷头21喷出,从而可以均匀地对四行甜菜喷洒药剂/肥料,且喷洒效率较高。
喷雾管1的一端可以与横管2的中心固定连接(即横管2关于喷雾管1的中心镜像对称)。可以使喷雾管1左侧的喷头21的喷洒压力与喷雾管1右侧的喷头21的喷洒压力相等,从而可以更加均匀地喷洒药剂/肥料。
本实用新型中的一种甜菜田间试验专用喷药装置还可以包括两个斜管3,两个斜管3关于喷雾管1的中心镜像对称,斜管3的一端与喷雾管1固定连接;斜管3的另一端与横管2固定连接。可以使远离喷雾管1的喷头 21的喷洒压力,与靠近喷雾管1的喷头21的喷洒压力相等或者相近,从而可以更加均匀地喷洒药剂/肥料。另外,喷雾管1、横管2以及斜管3形成稳定的三角结构,可以使本实用新型中的一种甜菜田间试验专用喷药装置具备较高的强度。
喷雾管1上还可以套有由橡胶制成的手柄11。可以起到防滑的作用,同时还能提高握持喷雾管1的舒适度。
喷雾管1、横管2以及斜管3可以均为PVC塑料或PP塑料制成。
综上所述,本实用新型中的一种甜菜田间试验专用喷药装置,可以均匀地对四行甜菜喷洒药剂/肥料,且喷洒效率较高;具备较高的强度。
需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、为特定的方位构造和操作,因而不能理解为对本发明保护内容的限制。
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