本发明涉及花卉种植技术领域，具体为一种营养可控的花卉无土培育装置。
背景技术：
凡是不用天然土壤,使用或不使用基质,用营养液灌溉植物的根系,或用其他施肥方式来种植作物的方法统称为无土栽培。它是在农业技术革命中产生和发展的全新的农业技术,目前已在世界各国的花卉、蔬菜种植方面广泛应用。无土栽培具有很多优点，如花卉生长健壮、叶色浓绿、花多且大、色泽鲜艳、花期长，节约养分、水分和劳力，清洁、无杂草、病虫害少,可以避免土壤连作障碍，不受土地条件的限制,极大地拓展农业生产空间，便于工厂化生产等，花卉无土栽培除上述优点外,也存在着一些问题,目前常见无土栽培装置需要专门的技术作指导,采够仪器成本高昂，一次性投资较大，同时营养液不能循环利用，浪费严重无法处理，随意处理容易导致土体富营养化。因此，有必要发明一种新的营养可控的花卉无土培育装置，既采购成本低廉，技术操作简单，同时具有较高的营养液利用率，环保卫生。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种营养可控的花卉无土培育装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案一种营养可控的花卉无土培育装置，包括配液池、输液管、电控阀、水箱、营养液箱、输电缆、栽培箱、培养槽、液体浓度计、循环管、臭氧箱、曝气射流器、消毒池和吸液泵，所述配液池上侧安装有输液管，所述输液管上侧设置有电控阀，所述电控阀上侧安装有水箱，且电控阀上侧设置有营养液箱，所述配液池左侧安装有输电缆，且配液池右下侧设置有栽培箱，所述栽培箱上侧设置有培养槽，且栽培箱下侧安装有循环管，所述循环管左侧设置有消毒池，所述消毒池右侧设置有臭氧箱，所述臭氧箱通过曝气射流器与消毒池相连接，所述消毒池上侧安装有吸液泵，所述吸液泵上侧安装有液体浓度计，所述液体浓度计通过输电缆与配液池连接。
优选的，所述配液池右侧设置有液晶显示屏。
优选的，所述水箱和营养液箱处于同一高度面。
优选的，所述培养槽截面设置为圆柱形。
优选的，所述曝气射流器与消毒池表面呈90°。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：该营养可控的花卉无土培育装置，技术原理浅显，操作简单，采购成本低，能够有效减少种植户经济负担，同时该装备配置了高效的营养液循环系统，能够显著提高营养液利用性，实现营养液的循环利用和施肥的电动化管理。
附图说明
图1为本发明结构示意图。
图中：1、配液池，2、输液管，3、电控阀，4、水箱，5、营养液箱，6、输电缆，7、栽培箱，8、培养槽，9、液体浓度计，10、循环管，11、臭氧箱，12、曝气射流器，13、消毒池，14、吸液泵。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1，本发明提供一种技术方案：一种营养可控的花卉无土培育装置，包括配液池1、输液管2、电控阀3、水箱4、营养液箱5、输电缆6、栽培箱7、培养槽8、液体浓度计9、循环管10、臭氧箱11、曝气射流器12、消毒池13和吸液泵14，所述配液池1上侧安装有输液管2，且配液池1右侧设置有液晶显示屏，能够对池内液体数据进行实时监控，所述输液管2上侧设置有电控阀3，所述电控阀3上侧安装有水箱4，且电控阀3上侧设置有营养液箱5，所述水箱4和营养液5处同一高度面，液体压强近似，能够有效控制液体流速，所述配液池1左侧安装有输电缆6，且配液池1右下侧设置有栽培箱7，所述栽培箱7上侧设置有培养槽8，所述培养槽8截面设置为圆柱形，结构优化空间利用率高，所述栽培箱7下侧安装有循环管10，所述循环管10左侧设置有消毒池13，所述消毒池13右侧设置有臭氧箱11，所述臭氧箱11通过曝气射流器12与消毒池13相连接，所述曝气射流器12与消毒池13表面呈90°，曝气射流器12喷出的
细小气泡可高速喷入消毒池与营养废液充分接触，所述消毒池13上侧安装有吸液泵14，所述吸液泵14上侧安装有液体浓度计9，所述液体浓度计9通过输电缆6与配液池1连接。
工作原理：该营养可控的花卉无土培育装置，操作时，由配液池1通过电控阀3控制水箱4和营养液箱5在输液管2中的流量进行配液，配置完成的营养液通过输液管2流入栽培箱7上侧的培养槽8对花卉补给影响，花卉吸收后剩余的营养废液通过循环管10流入消毒池13、臭氧箱11里的臭氧液通过曝气射流器12喷射成细小气泡同样流入消毒池13与营养废液融合消毒，消毒后的营养废液通过吸液泵14流入配液池1，液体浓度计9检测消毒后营养液浓度控制配液池1进行循环配液。
尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，
其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。