技术特征：
1.常压低温等离子体处理种子设备，包括低温等离子体处理基台（1）与低温等离子体金属电极，其特征在于，所述低温等离子体处理基台（1）顶部设有凹槽（2），所述凹槽（2）内设有绝缘介质板（15），所述凹槽（2）两侧对称设有凸台（3），所述凸台（3）顶部设有滑轨（4），所述滑轨（4）滑动连接有滑动块（5），所述滑动块（5）顶部连接有四氟支架（6），所述四氟支架（6）下方安装有绝缘体介质管（7），且所述低温等离子体金属电极设于绝缘体介质管（7）中，所述绝缘体介质管（7）与低温等离子体处理基台（1）保持水平，所述四氟支架（6）顶部两侧对称设有小型电机（8），所述小型电机（8）输出端安装有转动杆（9），所述转动杆（9）一端连接有齿轮（10），所述齿轮（10）啮合连接有齿条（11），且所述齿条（11）通过固定架连接低温等离子体处理基台（1）。2.根据权利要求1所述的常压低温等离子体处理种子设备，其特征在于：所述低温等离子体处理基台（1）和大地地线连接，所述的低温等离子体金属电极与高压连接。3.根据权利要求1所述的常压低温等离子体处理种子设备，其特征在于：所述齿轮（10）与齿条（11）连接处外侧设有防护壳（12），且所述防护壳（12）连接低温等离子体处理基台（1）。4.根据权利要求3所述的常压低温等离子体处理种子设备，其特征在于：所述防护壳（12）相对一侧与转动杆（9）对应的位置设有条形通槽（13），且所述转动杆（9）穿过条形通槽（13）。5.根据权利要求1所述的常压低温等离子体处理种子设备，其特征在于：所述低温等离子体处理基台（1）底部四角设有支撑脚（14），且所述支撑脚（14）底部设有防滑垫。