专利名称：配向布的清洁装置的制作方法
技术领域：
本发明有关于一种配向布的清洁装置，特别是指一种利用一洁净布与一配向布互相摩擦，以清除配向布脏污的清洁装置。
背景技术：
在液晶平面显示器的制程中，为使液晶分子能在玻璃基板表面呈现规则性的排列，必须先在玻璃基板表面形成一层配向膜，配向膜的材料通常以聚醯胺类为主；再以面磨(rubbing)处理方式在配向膜表面形成复数条平行的沟槽，使液晶分子能够依照沟槽形成的方向进行同一方向的排列。
如图1所示，其中面磨处理方式是在一配向辊轮11表面设置配向布10，并以配向布10对具有配向膜表面的玻璃基板12进行单一方向的滚动摩擦，使配向膜表面的聚醯胺分子121不再杂散分布，依照固定而均一的方向排列之后，在配向膜表面形成复数条平行的配向槽122。
在面磨处理的过程中，配向布很容易因为沾染落尘微粒或附着配向材料而残留脏污，这些残留的脏污若不去除，将在下次面磨处理的过程中对配向膜造成污染，使得配向膜产生配向不良区域或是造成配向的预倾角度的不一致，进而造成光学特性异常。因此，配向布的定期清洁保养实为面磨处理过程中极重要的一环。
请参阅图2所示，其为习知技术关于配向布清洁的示意图，图中包括一配向辊轮11，设于表面的配向布10留有面磨过程所造成的脏污14，清洁时，以一片空白玻璃基板13代替具有配向膜的玻璃基板12置入作业区中，藉由配向辊轮11的旋转，使配向布10与空白玻璃基板13产生接触摩擦，进而将配向布10表面残留的脏污14转印至空白玻璃基板13表面，以达到清洁配向布10的目的。
综观习知技术，可发现缺点如下1.清洁效果不佳习知技术的配向布在与空白玻璃基板摩擦的过程中，其残留的脏污虽然可以转印至空白玻璃基板表面，但由于配向辊轮持续转动，因此很容易将空白玻璃基板的脏污再度地带上来，造成对配向布的清洁效果不佳。
2.影响产能产出在清洁过程中，以空白玻璃基板置入作业区中与配向布进行摩擦清洁，作业区内无法继续正常生产产品，产能因而降低。
3.清洁成本较高由于空白玻璃基板在经过与配向布互相摩擦之后，其表面已受到污染无法再重复使用，必须丢弃，因此清洁成本较高。
因此，对于从事配向布清洁的相关领域研发人员而言，都致力于解决习知技术的缺点，以期能够获得更佳的清洁技术。
发明内容
本发明的目的在于提供一配向布的清洁装置，用以清除附着于配向布的脏污。
本发明的另一目的在于提供一配向布的清洁装置，其可以在面磨过程中同时进行配向布的清洁，以提高配向作业的效率。
本发明的再一目的在于提供一配向布的清洁装置，其可以降低配向布清洁的成本。
本发明所揭露的配向布的清洁装置，用以清洁配向布表面残留的脏污，此配向布设于一配向辊轮表面，在配向辊轮的外侧更可设有二互相平行的导引杆或与其等效的装置。
在本发明所揭露的配向布的清洁装置的第一实施例中，本清洁装置主要包括一第一圆筒辊轮、一第二圆筒辊轮、一洁净布以及二吸嘴。
第一圆筒辊轮以及第二圆筒辊轮分别与二导引杆形成滑动配合，且上述二圆筒辊轮的轴线与配向辊轮的轴线互相平行。
洁净布二端分别缠绕于圆筒辊轮表面而成圆筒状，其在二圆筒辊轮中间的展开部与配向布表面互相接触。
二吸嘴分别设置于第一圆筒辊轮及第二圆筒辊轮的侧边。
当配向辊轮转动时，洁净布与配向布之间将进行摩擦，刮除残留在配向布表面的脏污，而在洁净布与配向布摩擦的过程中所扬起的脏污，可藉由设置于二圆筒辊轮侧边的吸嘴将其吸取抽离，避免脏污再次附着于配向布表面，造成配向布二次污染。
并在摩擦的同时，洁净布与配向布所接触部位会逐渐沾染配向布的脏污，因此在清洁经过一段时间之后，可转动第一圆筒辊轮，带动清洁布以及第二圆筒辊轮转动，使脏污的洁净布缠绕于第一圆筒辊轮之上，同时将新的洁净布由第二圆筒辊轮中带出至二圆筒辊轮之间，并与配向辊轮外的配向布互相接触，以便继续进行配向布的清洁。
在此，值得特别注意的是，在清洁的过程中，为了确保洁净布的展开部与配向布能保持紧密接触，不致在摩擦时因配向辊轮的转动产生滑动，而降低清洁能力，故须使洁净布的展开部维持在一预定张力。
形成该预定张力的方法，可预先对上述二圆筒辊轮分别施以相反方向的转动力矩后，固定二圆筒辊轮，在洁净布的二端产生拉力，使其展开部可维持一预定张力。
而固定二圆筒辊轮的方式之一，可在第一圆筒辊轮与第二圆筒辊轮上，分别装设一第一制动器及一第二制动器。上述二制动器，可为夹钳、夹杆或夹块或与其等效的装置。其可利用弹簧、液压、空压或电磁感应系统施压夹合，达到制动的目的。
利用第一制动器及第二制动器动作夹合，固定洁净布的二端于二圆筒辊轮上，使洁净布在与配向布相互摩擦的过程中，其展开部可维持张力，使其不致因配向辊轮的转动而产生滑动，而降低了与配向布之间的摩擦清洁效果。
并当洁净布与配向布所接触部位逐渐沾染配向布的脏污时，停止制动系统动作，使第一制动器及第二制动器松开，停止对洁净布的夹固，并在此时转动第一圆筒辊轮，带动清洁布以及第二圆筒辊轮转动，使脏污的洁净布缠绕于第一圆筒辊轮之上，同时将新的洁净布由第二圆筒辊轮中带出至二圆筒辊轮之间，并与配向辊轮外的配向布互相接触，以便继续进行配向布的清洁。
又，随着面板尺寸的增加，配向辊轮及其表面的配向布的宽度通常较洁净布宽，因此，本发明可藉由二圆筒辊轮与导引杆之间的滑动，带动清洁装置来回移动以便对配向布进行全面性的清洁。
本发明所揭露的配向布的清洁装置的第二实施例中，其主要包括一第一制动器、一第二制动器、一洁净布以及二吸嘴。
第一制动器以及第二制动器分别与二导引杆形成滑动配合，且上述二制动器与配向辊轮的轴线互相平行。
洁净布与配向布表面互相接触，其二端并分别利用第一制动器及第二制动器动作加以固定。
二吸嘴分别设置于第一制动器及第二制动器的侧边。
当配向辊轮转动时，洁净布与配向布之间将进行摩擦，并刮除残留在配向布表面的脏污，而在洁净布与配向布摩擦的过程中所扬起的脏污，可藉由设置于二侧边的吸嘴将其吸取抽离，避免脏污再次附着于配向布表面，造成配向布二次污染。
当洁净布逐渐沾染配向布的脏污时，停止制动系统动作，使第一制动器及第二制动器松开，停止对洁净布的夹固，并取下洁净布更换。
本实施例的清洁装置同样可藉由上述二制动器与导引杆之间的滑动配合，带动清洁装置来回移动以便对配向布进行全面性的清洁。
图1为具有配向膜的玻璃基版进行面磨处理的示意图。
图2为习知的配向布清洁技术示意图。
图3A～E为本发明的一实施例的结构示意图。
图4A为本发明的另一实施例的结构示意图。
图4B为图4A所示的实施例的侧视示意图。
图式的图号说明10 ......配向布 22 ......第二圆筒辊轮11 ......配向辊轮 221 ......第二圆筒辊轮轴线111......配向辊轮轴线 23 ......洁净布12 ......具配向膜的玻璃基板 231 ......缠绕部121......聚醯胺分子 232 ......展开部122......配向槽 2321......接触面13 ......空白玻璃基板 24 ......吸嘴14 ......脏污 25 ......第一制动器15A......导引杆 26 ......第二制动器15B......导引杆 Ta ......转动力矩21 ......第一圆筒辊轮 Fa ......拉力211......第一圆筒辊轮轴线 Fb ......拉力Tb ......转动力矩具体实施方式
请参阅图3A，其为本发明的第一实施例的结构示意图。
配向布10设于一配向辊轮11表面，配向辊轮11外侧并设置二互相平行的导引杆15A、15B。
本配向布的清洁装置包括一第一圆筒辊轮21、一第二圆筒辊轮22、一洁净布23以及二吸嘴24。
第一圆筒辊轮21设置于配向辊轮11一侧上方，其轴线211与配向辊轮轴线111平行，其轴心处分别与导引杆15A滑动配合。
第二圆筒辊轮22设置于配向辊轮11一侧下方，其轴线221与配向辊轮轴线111平行，其轴心处分别与导引杆15B滑动配合。
洁净布23二端分别缠绕于二圆筒辊轮外围为圆筒状，为缠绕部231，其位于二圆筒辊轮中间的部位为展开部232，洁净布以展开部232与配向布10表面互相接触。
二吸嘴24分别设置于第一圆筒辊轮21及第二圆筒辊轮22的侧边。
当配向辊轮11转动时，洁净布的展开部232与配向布10互相接触部分将不断进行摩擦，进而将残留于配向布10表面的脏污刮除，当洁净布23与配向布10相互摩擦时，所扬起的脏污14，皆可藉由吸嘴24将其吸取抽离，避免脏污14再次附着于配向布10表面，造成配向布10受到二次污染。
请参阅图3B，在清洁过程中，洁净布23与配向布10的接触面2321会逐渐沾染配向布10表面的脏污14，因此在经过一段时间的清洁后，可转动第一圆筒辊轮21，带动清洁布23以Y方向移动，并使第二圆筒辊轮22随着转动，使得附着脏污14的洁净布23缠绕于第一圆筒辊轮之上，同时将新的洁净布23区域由第二圆筒辊轮22中带出至二圆筒辊轮之间，并与配向辊轮11外的配向布10互相接触，以便继续进行配向布10的清洁。
在本发明中，并可藉由上述二圆筒辊轮21、22与导引杆15A、15B之间的滑动配合，带动本清洁装置来回以X方向移动，清洁配向布不同的位置，以对配向布进行全面清洁。
在此，值得特别注意的是，在清洁的过程中，为了确保洁净布23的展开部232与配向布10能保持紧密接触，不致在摩擦时因配向辊轮11的转动产生滑动，而降低清洁能力，故须使洁净布的展开部232维持在一预定张力。
造成此张力的方法，请参阅图3C，可于每次清洁前，预先对上述二圆筒辊轮分别施以相反方向的转动力矩Ta、Tb，并固定二圆筒辊轮，使洁净布的二端产生拉力Fa、Fb，致使其展开部232维持预定张力。
而固定二圆筒辊轮方式之一，请参阅图3D，更可在第一圆筒辊轮21与第二圆筒辊轮22上，装设一第一制动器25及一第二制动器26。
第一制动器25及第二制动器26动作夹合时，可固定洁净布23二端及二圆筒辊轮，使洁净布23在与配向布10相互摩擦的过程中，其展开部232可维持张力，不致因配向辊轮11的转动而产生滑动，降低了与配向布10之间的摩擦清洁效果。
请参阅图3E所示，当洁净布23与配向布10所接触部位2321逐渐沾染脏污14时，停止制动系统动作，使第一制动器25及第二制动器26松开，停止对洁净布23二端的夹固，并在此时转动第一圆筒辊轮21，带动清洁布23以Y方向移动，并使第二圆筒辊轮22随之转动，使洁净布23的脏污区域缠绕于第一圆筒辊轮21之上，同时将新区域的洁净布23由第二圆筒辊轮22中带出至二圆筒辊轮之间，并与配向布10互相接触，以便继续进行配向布的清洁。
又，在实务上，若考虑洁净布规格大小问题，欲以单片洁净布进行每次清洁，也可以本发明所揭露的第二实施例实施。
请参阅图4A及图4B，为本发明所揭露的配向布的清洁装置的第二实施例结构示意图，其中配向布10设于一配向辊轮11表面，配向辊轮11外侧并设置二互相平行的导引杆15A、15B。
本发明的配向布的清洁装置，包括一第一制动器25、一第二制动器26、一洁净布23以及二吸嘴24。
第一制动器25设置于配向辊轮11一侧上方，第二制动器26设置于配向辊轮11一侧下方，两者皆与配向辊轮轴线111平行，并分别与二导引杆15A、15B形成滑动配合。
洁净布23与配向布10表面互相接触，其二端并分别利用第一制动器25及第二制动器26动作加以固定。
二吸嘴24分别设置于第一制动器25及第二制动器26的侧边。
当配向辊轮11转动时，洁净布23与配向布10之间将进行摩擦，并刮除残留在配向布10表面的脏污，而在洁净布23与配向布10摩擦的过程中所扬起的脏污14，可藉由设置于二侧边的吸嘴24将其吸取抽离，避免脏污14再次附着于配向布表面，造成配向布10二次污染。
当洁净布23逐渐沾染配向布10的脏污时，停止制动系统动作，使第一制动器25及第二制动器2松开，停止对洁净布23的夹固，并更换为新的洁净布23。
本实施例的清洁装置同样可藉由上述二制动器25、26与导引杆15A、15B之间的滑动配合，带动本清洁装置来回以X方向移动，清洁配向布不同的位置，以对配向布10进行全面清洁。
综观以上实施例所述，本发明的配向布的清洁装置确实可达到下列功效，解决习知技术的缺点1.利用洁净布与配向布之间的持续摩擦，可有效将配向布表面的脏污刮落，并利用吸嘴将脏污抽离，防止脏污再度污染配向布，而且可不断更替洁净布与配向布之间的接触部位，提高了清洁的效率。
2.配向辊轮转动进行面磨工程时，可利用配向辊轮的转动同步进行清洁，不需额外花费清洁时间而影响产能产出。
3.洁净布的材料成本远较玻璃为低，以洁净布进行清洁，可有效降低清洁成本。
以上所述仅为本发明的配向布的清洁装置实施例，其并非用以限制本发明的实施范围，任何熟习该项技艺者在不违背本发明的特征及精神所作的修改均应属于本发明的范围。
权利要求
1.一种配向布的清洁装置，该配向布设于一配向辊轮表面，其特征在于，该清洁装置包括一第一圆筒辊轮，与该配向辊轮的轴线平行；一第二圆筒辊轮，与该配向辊轮的轴线平行，并与该第一圆筒辊轮相隔适当距离；以及一洁净布，其二端分别设于上述二圆筒辊轮表面，该洁净布位于上述二圆筒辊轮之间区域，形成一展开部与该配向辊轮的配向布互相接触，其中该展开部维持在一预定张力之下；当该配向辊轮转动时，该洁净布与该配向布互相摩擦，并清除残留在该配向布的脏污。
2.如权利要求1所述的配向布的清洁装置，其特征在于，该清洁装置更包括一第一制动器及一第二制动器，该第一制动器可设置于该第一圆筒辊轮上，该第二制动器可设置于该第二圆筒辊轮上，利用上述二制动器的动作固定该洁净布的二端，使该洁净布在摩擦清洁过程中不致滑动。
3.如权利要求1所述的配向布的清洁装置，其特征在于，该清洁装置更包括二吸嘴，该二吸嘴分别设置于该第一圆筒辊轮及该第二圆筒辊轮的两侧，用以吸取该洁净布与该配向布摩擦所扬起的微粒。
4.如权利要求1所述的配向布的清洁装置，其特征在于，该配向布设置于一配向辊轮表面，该配向辊轮外侧更可设置二平行的导引杆，分别与该第一圆筒辊轮以及该第二圆筒辊轮滑动配合，使该清洁装置可以在上述导引杆上来回移动。
5.一种配向布的清洁装置，该配向布设于一配向辊轮表面，其特征在于，该清洁装置包括一第一制动器，与该配向辊轮的轴线平行；一第二制动器，与该配向辊轮的轴线平行，并与该第一制动器相隔一适当距离；以及一洁净布，其二端分别利用该第一制动器以及第二制动器的动作加以固定，该洁净布并与该配向布接触；其中，该洁净布位于上述二制动器之间区域，维持在一预定张力之下，当该配向辊轮转动时，该洁净布与该配向布互相摩擦，并清除残留在该配向布的脏污。
6.如权利要求5所述的配向布的清洁装置，其特征在于，该清洁装置更包括一第一圆筒辊轮及一第二圆筒辊轮，上述二圆筒辊轮相隔适当距离，其轴线平行于该配向辊轮的轴线，该第一制动器可设置于该第一圆筒辊轮上，该第二制动器可设置于该第二圆筒辊轮上。
7.如权利要求5所述的配向布的清洁装置，其特征在于，该清洁装置更包括二吸嘴，其分别设置于该第一圆筒辊轮及该第二圆筒辊轮的两侧，用以吸取该洁净布与该配向布摩擦所扬起的微粒。
8.如权利要求5所述的配向布的清洁装置，其特征在于，该配向布设置于一配向辊轮表面，该配向辊轮外侧更可设置二平行的导引杆，分别与该第一制动器以及该第二制动器滑动配合，使该清洁装置可以在上述导引杆上来回移动。
全文摘要
一种配向布的清洁装置，用以清除残留于配向布的脏污，其中配向布设于一配向辊轮的表面；本清洁装置包括一第一圆筒辊轮、一第二圆筒辊轮以及一洁净布，第一圆筒辊轮及第二圆筒辊轮之间相隔一适当距离，其轴线皆与配向辊轮轴线平行，洁净布的二端分别设于二圆筒辊轮表面，洁净布位于二圆筒辊轮之间区域，形成一展开部并与配向布互相接触，并且使展开部维持在一预定张力之下。当该配向辊轮转动时，洁净布与配向布互相摩擦，并清除残留在该配向布的脏污。
文档编号B08B11/00GK1583296SQ200410046208
公开日2005年2月23日 申请日期2004年5月31日 优先权日2004年5月31日
发明者何岳暾, 张景雄 申请人:友达光电股份有限公司