专利名称：一种微纳米颗粒的激光清洗装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种用于清洗物件表面沾染的微纳米颗粒的装置，具体地涉及一种微纳米颗粒的激光清洗装置。
背景技术：
微纳米颗粒会造成超大规模集成电路、微型高密度存储设备短路或大大降低性能，使微型机械表面产生划痕甚至裂纹等致命损伤，极大地降低精密光学设备的分辨率，是半导体、微电子、微型机械、精密光学等高新技术中需要迫切解决的问题。一般认为，半导体、微电子等设备表面可允许的最小污染颗粒尺寸是其最小特性尺寸的0.1-0.25倍。随着半导体和微电子设备尺寸的越来越小(特性尺寸已小到100nm)，需要去除的颗粒已达10-25nm。随着颗粒直径的越来越小，去除变得非常困难。例如，直径1μm的Al2O3颗粒在Al2O3基体上的van der Waals力是其重力的107倍，这使得对于重力占主导地位的常规去除方法，如机械清洗刷、化学清洗和超声清洗等，显得力不从心。同时，机械洗刷容易损伤基体表面，而化学清洗、超声清洗等容易腐蚀基体和产生二次污染(化学试剂难以过滤微纳米颗粒)，既浪费资源又不污染环境。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种微纳米颗粒激光清洗装置。由本实用新型的装置可以有效去除微纳米颗粒，效率高、无二次污染，并且可只对污染区域进行清洗，而且不消耗化学药剂，不污染环境。
为实现上述目的，本实用新型提供的装置包括一样品台，台面上放置有铂电阻；一激光控制台，连接一激光发生器，该激光发生器的激光对准样品台；一数字示波器，与样品台上的铂电阻连接，并与一计算机相连接。
图1是本实用新型装置的连接关系示意图。
图2是使用本实用新型装置清洗后的物件表面效果示意图。
具体实施方式
请参阅图1，显示了本实用新型的装置，其中一样品台3，用于放置待清洗的试样，如硅或铝片等，试样与样品台之间安装有一铂电阻，该铂电阻与后述的数字示波器4相连接。
一激光控制台2，连接一激光发生器1，通过激光控制台2控制开关电源来调节激光器1的输出参数与脉冲次数。该激光器1产生的激光对准样品台3上的试样。
一数字示波器4，分别与激光控制台2以及计算机5相连接。
为了说明本实用新型的装置和效果，结合附图举一实施例加以说明，但该实施例不是用于限制本实用新型的。
实施例为了对清洗前后的效果作一比较，先将表面被微/纳米颗粒污染的试件在扫描电镜(SEM)下进行观测拍照，然后将其放置在样品台3上，并在表面覆盖一层薄液膜，试件与样品台3之间还放置有一铂电阻(图未示)。采用的激光发生器1为高强度Nd3+YAG可编程脉冲激光器，其波长为1.06μm，脉冲宽度为1～30μs，光斑直径为1～10mm，一次脉冲的功率密度最高可达1.0×104MW/m2，该激光器产生的激光对准样品台3上的试样。再在激光器控制台2(例如但不限于PC486计算机)上设置好激光器1的输出参数，通过控制台来控制激光器1的输出参数与脉冲次数。在激光器输出激光的同时发出触发信号，触发数字示波器4记录位于试样和样品台之间的铂电阻在脉冲激光照射下试件表面的电阻变化信号，该信号通过计算机5转换为温度信号。
请参阅图2a和图2b，图2a所示是清洗前的试件表面，图2b所示是经过清洗后的试件表面。
本实用新型的装置可广泛用于微/纳米颗粒的去除及其去除过程中的温度测量。
权利要求1.一种微纳米颗粒激光清洗装置，其特征在于，包括一样品台，台面上放置有铂电阻；一激光控制台，连接一激光发生器，该激光发生器的激光对准样品台；一数字示波器，与样品台上的铂电阻连接，并与一计算机相连接。
2.权利要求1的装置，其特征在于，激光器发生是可编程脉冲激光器。
专利摘要一种微纳米颗粒激光清洗装置，包括一样品台，台面上放置有铂电阻；一激光控制台，连接一激光发生器，该激光发生器的激光对准样品台；一数字示波器，与样品台上的铂电阻连接，并与一计算机相连接。由本实用新型的装置可以有效去除微纳米颗粒，效率高、无二次污染，并且可只对污染区域进行清洗，而且不消耗化学药剂，不污染环境。
文档编号B08B7/00GK2783534SQ20042011250
公开日2006年5月24日 申请日期2004年11月5日 优先权日2004年11月5日
发明者淮秀兰, 金仁喜, 董兆一, 王唯威, 刘登瀛 申请人:中国科学院工程热物理研究所