专利名称：一种超声波清洗笔的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种超声波清洗装置，尤其是一种超声波清洗笔。
背景技术：
超声波清洗技术是一项先进的清洗技术，它的原理是由超声波信号发生器发出高频振荡信号，通过换能器转化成每秒几万次的高频机械振荡，在清洗介质中形成超声波，以正压和负压高频交替变化的方式在清洗介质中疏密相间地向前辐射传播，使液体流动而产生数以万计的微小气泡。这些气泡在超声波纵向传播的负压区形成，生长，而在正压区迅速闭合，产生空化效应。空化效应是当大能量的超声波作用于清洗介质，使清洗介质振动处于稀疏状态，并将其撕裂成许多小空穴，这些小空穴的存在时间非常短，会在瞬时闭合，闭合就产生了高达几千大气压的瞬时压力。处于超声场中的清洗介质微小气泡首先经历气泡的振荡及生长过程，即稳态空化；然后是气泡的压缩和崩溃过程，即瞬态空化。在空化效应的过程中，气泡闭合可形成超过1000个气压的瞬间高压，连续不断地产生瞬间高压就像一连串小“爆炸”不断地冲击物体表面，使物体的表面及缝隙中的污垢迅速剥落，并将细菌，病毒杀死从而达到物件表面净化的目的。
在现有市场上，生产超声波清洗器厂家非常多，但普遍的超声波清洗器单单只能发射超声波。用户在使用这些超声波清洗器清洗物体时，还需要另外准备清洗介质，并将这些清洗介质喷洒在物体表面，这给用户的清洗工作带来了极大的的麻烦，增加了用户的劳动量和劳动时间。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种既能喷洒清洗介质，又能生成超声波的一种超声波清洗笔，该超声波清洗笔通过超声波加速清洗介质对污垢的溶解，用化学力和物理力相结合对物体进行清洗，提高了清洗速度和清洗效果，以克服现有技术存在的不足。
本实用新型解决技术问题是通过以下技术方案来实现的一种超声波清洗笔，包括壳体，位于壳体内的超声波发生装置和设在壳体上的控制超声波发生装置的开关以及位于壳体前端的超声波发射头，其特征在于在壳体内的腹腔位置设有存储清洗介质的空囊，空囊囊体的前端设有露出壳体的喷头，空囊囊体上设有露出壳体的控制清洗介质喷出的开关。
为了便于用户握持超声波清洗笔和对其操作，所述喷头接近超声波发射头并位于超声波发射头的后方，控制清洗介质喷出的开关位于空囊囊体的下方并露出壳体。
本实用新型采用以上技术方案，在超声波清洗笔上同时设有超声波发生装置和存储清洗介质的空囊，实现了在一支超声波清洗笔既能喷洒清洗介质又能发射超声波这两项功能，通过超声波作用于清洗介质，加速清洗介质的对污垢的溶解，用化学力和物理力相结合对物体进行清洗，提高了清洗速度和清洗效果，极大的方便用户操作和使用，并无须额外准备清洗介质，减少了用户的劳动量和劳动时间。
以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型一种超声波清洗笔进行详细的说明
图1为本实用新型的外部结构示意图；图2为本实用新型的内部结构示意图。
具体实施方式
如
图1和图2所示的一种超声波清洗笔，包括壳体1，壳体1内的超声波发生装置2，为超声波发生装置2供电的电源线3，设在壳体1上的控制超声波发生装置2的开关4，超声波发射头5位于壳体1的前端并方向朝下。在壳体1内的腹腔位置设有存储清洗介质的空囊6。空囊6囊体7的前端设有喷头8，该喷头8露出壳体1接近超声波发射头5并位于超声波发射头5的后方。空囊6囊体7下部设有控制清洗介质喷出的开关9，该控制清洗介质喷出的开关9露出壳体1位于壳体1的下方。
权利要求1.一种超声波清洗笔，包括壳体，位于壳体内的超声波发生装置和设在壳体上的控制超声波发生装置的开关以及位于壳体前端的超声波发射头，其特征在于在壳体内的腹腔位置设有存储清洗介质的空囊，空囊囊体的前端设有露出壳体的喷头，空囊囊体上设有露出壳体的控制清洗介质喷出的开关。
2.根据权利要求1所述的一种超声波清洗笔，其特征在于所述喷头接近超声波发射头并位于超声波发射头的后方，控制清洗介质喷出的开关位于空囊囊体的下方并露出壳体。
专利摘要本实用新型公开了一种超声波清洗笔，包括壳体，位于壳体内的超声波发生装置和设在壳体上的控制超声波发生装置的开关以及位于壳体前端的超声波发射头，其特征在于在壳体内的腹腔位置设有存储清洗介质的空囊，空囊囊体的前端设有露出壳体的喷头，空囊囊体上设有露出壳体的控制清洗介质喷出的开关。本实用新型实现了在一支超声波清洗笔既能喷洒清洗介质又能发射超声波两项功能，通过超声波作用于清洗介质，加速清洗介质的对污垢的溶解，用化学力和物理力相结合对物体进行清洗，提高了清洗速度和清洗效果，极大地方便用户操作和使用，并无须额外准备清洗介质，减少了用户的劳动量和劳动时间。
文档编号B08B3/12GK2817994SQ20052004439
公开日2006年9月20日 申请日期2005年8月19日 优先权日2005年8月19日
发明者吴益鸣 申请人:上海东展科技有限公司