二极管表面清洗装置制造方法

文档序号:1439658阅读:153来源:国知局
二极管表面清洗装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及二极管表面清洗装置,主要为五个装于机体内的长方形清洗槽;五个对应向清洗槽内加水的进水单元;其创新点在于:所述每个清洗槽均对应设空气通气单元。二极管依次从盛有碱水、自来水、自来水、纯水、温水的清洗槽中清洗,保证了清洗的效果,且结构简单实用方便,成本低廉。
【专利说明】二极管表面清洗装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种清洗装置,特别涉及一种二极管表面清洗装置。
【背景技术】
[0002]在二极管生产过程中,有一道工序叫表面处理清洗,即将经过镀液的二极管浸入槽中进行清洗,其清洗质量的好坏直接影响到二极管制成品的质量,目前一般的清洗采用超声波装置,其清洗效果理想,但是对于一些中小型企业或是从经济角度出发考虑,其成本较高且在众多二极管堆叠时清洗效果差。

【发明内容】

[0003]本实用新型要解决的技术问题是提供一种清洗效果好、低成本的二极管表面清洗装置。
[0004]为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案为:二极管表面清洗装置,主要为五个装于机体内的长方形清洗槽;五个对应向清洗槽内加水的进水单元;其创新点在于:所述每个清洗槽均对应设空气通气单元。
[0005]进一步的,所述通气单元为一根导管从清洗槽壁垂直向下并沿底部向两端延伸;所述导管端部密封,管身开小孔。
[0006]本实用新型的优点在于:本实用新型的五个清洗槽依次盛有碱水、自来水、自来水、纯水、温水,第一个槽碱水用于酸碱中和,第二个槽自来水用来去酸去碱,第三个槽自来水用于进一步地去酸去碱,第四个槽纯水用于清洗前三个槽水中含有的杂质,第五个槽温水用于进一步地去除其杂质,多重清洗保证了清洗的效果,且结构简单实用方便,成本低廉
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【专利附图】

【附图说明】
[0007]图1为本实用新型实施例结构示意图。
[0008]图中:1清洗槽、2进水单元、3通气单元。
【具体实施方式】
[0009]如图1所述,本实用新型主要有清洗槽1、进水单元2、通气单元3构成。其中有五个长方形清洗槽I分别安装于机架内,清洗槽I上方依次设置有五个对应向清洗槽I内加水的进水单元2,每一个槽内均设有通气单元3,通气单元3由一根导管从清洗槽壁垂直向下并沿底部向两端延伸,其中导管端部采用密封圈密封,管身开小孔。
[0010]工作原理:当二极管需要清洗时,先将出水阀门打开将五个清洗槽分别盛有碱水、自来水、自来水、纯水、温水,再将通气阀打开让管道通气。先将经过镀液后的二极管放入第一个槽碱水中用于酸碱中和,再放入第二个槽自来水中用来去酸去碱,接着第三个槽自来水中用于进一步地去酸去碱,再放入第四个槽纯水中用于清洗前三个槽水中含有的杂质,最后放入第五个槽温水中用于进一步地去除其杂质,多重清洗保证了清洗的效果。
【权利要求】
1.二极管表面清洗装置,主要为五个装于机体内的长方形清洗槽(I);五个对应向清洗槽内加水的进水单元(2);其特征在于:所述每个清洗槽均对应设空气通气单元(3)。
2.根据权利要求1所述的二极管表面清洗装置,其特征在于:所述通气单元(3)为一根导管从清洗槽壁垂直向下并沿底部向两端延伸;所述导管端部密封,管身开小孔。
【文档编号】B08B3/08GK203508472SQ201320485663
【公开日】2014年4月2日 申请日期:2013年8月9日 优先权日:2013年8月9日
【发明者】刘军 申请人:刘军
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