一种二极管专用清洗液的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种二极管专用清洗液，其创新点在于：包括以下重量百分比的成分：磷酸溶液8～10%，EDTA5～10%，离子-非离子表面活性剂5～15%，渗透剂10～20%，N-羟乙基丙二胺5～8%，余量为去离子水。本发明提供的二极管专用清洗液，成本低廉，原料来源广泛，通过合适量的配置，使得本产品的清洗能力强，用量少，可有效去除金属离子的污染，不会对二极管元件的完整性造成损害。使用PH为6.8～7.0的磷酸/磷酸盐缓冲液，通过实验证明使用效果最佳，清洗后生物降解性能好，有效防止二极管表面不腐蚀生锈。主要成分采用混合比例为0.5～1∶3～5的阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂的混合物，使得本产品的清洗能力强，用量少，效率高。
【专利说明】一种二极管专用清洗液
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种二极管专用清洗液，属于电子半导体清洗剂领域。
【背景技术】
[0002] 二极管是现代微电子行业发展的基础，早在上世纪二极管制作工艺就已经非常成 熟并大量应用于电子行业的各个领域，随着电子微电子产业的迅速发展，二极管等分立器 件已经成为微电子企业中利润较低，技术含量较低的行业，为了保证一定的利润，在二极管 行业中使用大量对人体有害的物质作为清洗二极管表面的清洗液，如何在保证效果的情况 下研制低成本、无污染的新型清洗液就成了刻不容缓的要求。
[0003] 迄今为止，各种清洗方式中，以化学清洗居多，即使用化学清洗剂以某一设定的清 洗流程，对电子元件，尤其是二极管进行清洗。当前的化学清洗使用的清洗剂包括有机溶 剂清洗剂、半水基清洗剂和水基清洗剂，清洗方式主要有喷淋、浸洗、超声波等，在设定的技 术参数下，对电子元件，尤其是二极管进行清洗。有机溶剂清洗剂，大多采用易挥发的诸如 丙酮、乙醇、石油醚、环己烷、二氯甲烷、三氯乙烯、氟利昂等，该类清洗剂存在严重的大气污 染，对臭氧层极具破坏性，属于0DS类物质，已被国际有关组织限制或禁止使用。
[0004] 现有的水基或半水基电子清洗剂，虽然避免了对大气环境的污染，但就其使用效 果而言，在电子元件，尤其是二极管的清洗中缺乏功能性，即难以保证电子元件，尤其是二 极管的完整，对触脚、触点、封口胶、IT0镀膜、丝印图案等有较大影响，对光电特性、电磁特 性、通透性、器件表面物理特性等亦可能造成影响，造成包括二极管的电子元件合格率低、 良品率低，成本增加，使用寿命降低，难以完全满足清洗要求。
[0005] -般的，二极管制造过程中的清洗，除使用清洗剂的化学清洗外，还包括电脉冲清 洗、光清洗、高压水射流清洗及超声波清洗等清洗方式。在实际应用中，现有的各种清洗方 式总是存在各种难以克服的技术缺陷或者法规上的限制，难以满足现代工业发展的要求。
【发明内容】
[0006] 本发明的目的在于针对现有技术中的不足，提供一种二极管专用清洗液，清洗能 力强，用量少，可有效去除金属离子的污染，不会对二极管元件的完整性造成损害。
[0007] 为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：一种二极管专用清洗液，其创新 点在于：包括以下重量百分比的成分：磷酸溶液8?10%，EDTA5?10%，尚子-非尚子表面 活性剂5?15%，渗透剂10?20%，N-羟乙基丙二胺5?8%，余量为去离子水。
[0008] 进一步的，包括以下重量百分比的成分：磷酸溶液9%，EDTA7%，离子-非离子表面 活性剂10%，渗透剂15%，N-羟乙基丙二胺6%，余量为去离子水。
[0009] 进一步的，所述磷酸溶液为磷酸/磷酸盐缓冲液或磷酸盐或磷酸钾或磷酸三钠。
[0010] 进一步的，所述磷酸/磷酸盐缓冲液的PH为6. 8?7. 0。
[0011] 进一步的，所述离子-非离子表面活性剂是由阳离子表面活性剂和非离子表面活 性剂混合而成，阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂的混合比例为0. 5?1 :3?5。
[0012] 进一步的，所述渗透剂为十二烷基苯磺酸钠与异丙基苯磺酸钠的混合物，其中， 十二烧基苯磺酸钠：异丙基苯磺酸钠=2?3 :1。
[0013] 进一步的，所述去离子水的电导率为s/cm，电阻率为18. 2?20. 5MQ ? cm。
[0014] 本发明的有益效果如下： (1)本发明提供的二极管专用清洗液，成本低廉，原料来源广泛，通过合适量的配置，使 得本产品的清洗能力强，用量少，可有效去除金属离子的污染，不会对二极管元件的完整性 造成损害。
[0015] (2)本发明提供的二极管专用清洗液，以磷酸溶液为磷酸/磷酸盐缓冲液或磷酸 盐或磷酸钾或磷酸三钠、离子-非离子表面活性剂由阳离子表面活性剂和非离子表面活性 剂混合而成，渗透剂为十二烷基苯磺酸钠与异丙基苯磺酸钠的混合物，混合比例为2?3 : 1、去离子水的电导率为s/cm，电阻率为18. 2?20. 5MQ ? cm，生产出的清洗剂更环保， 减少环境污染，不危害操作者健康，并且清洗效率高，清洗时间短，渗透力高，在组分中不含 亚硝酸盐，生物降解性能好，可对二极管表面的金属离子，有机、无机杂质和固体粒子进行 清洗，对清洗后二价管表面还起到防腐防锈作用。
[0016] (3)本发明提供的二极管专用清洗液，使用PH为6. 8?7. 0的磷酸/磷酸盐缓 冲液，通过实验证明使用效果最佳，清洗后生物降解性能好，有效防止二极管表面不腐蚀生 锈。
[0017] (4)本发明提供的二极管专用清洗液，主要成分采用混合比例为0. 5?1 :3?5的 阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂的混合物，使得本产品的清洗能力强，用量少，效率 商。
【具体实施方式】
[0018] 下面结合具体实施例对本发明的技术方案作详细说明。
[0019] 实施例1 一种二极管专用清洗液，其创新点在于：包括以下重量百分比的成分：磷酸溶液8? 10%，EDTA5?10%，离子-非离子表面活性剂5?15%，渗透剂10?20%，N-羟乙基丙二胺 5?8%，余量为去尚子水。
[0020] 其中，磷酸溶液为磷酸/磷酸盐缓冲液，且磷酸/磷酸盐缓冲液的PH为6. 8? 7. 0 ； 离子-非离子表面活性剂是由阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂混合而成，阳离 子表面活性剂和非离子表面活性剂的混合比例为0. 5?1 :3?5 ; 渗透剂为十二烷基苯磺酸钠与异丙基苯磺酸钠的混合物，其中，十二烷基苯磺酸钠：异 丙基苯磺酸钠=2?3 :1 ; 去离子水的电导率为4u s/cm，电阻率为18. 2?20. 5MQ ? cm。
[0021] 将上述成分按照配比量加入到容器中，在37°C下搅拌40min后，静置lh，即可得到 本实施例的二极管专用清洗液。
[0022] 实施例2 在实施例1基础上，包括以下重量百分比的成分：磷酸溶液8?10%，EDTA5?10%，离 子-非离子表面活性剂5?15%，渗透剂10?20%，N-羟乙基丙二胺5?8%，余量为去离 子水。
[0023] 其中，磷酸溶液为磷酸盐；离子-非离子表面活性剂中阳离子表面活性剂和非离 子表面活性剂的混合比例为0. 5?1 :3?5 ;渗透剂中十二烧基苯磺酸钠：异丙基苯磺酸钠 =2 ?3 :1。
[0024] 不仅限于，磷酸溶液还可以为磷酸钾或磷酸三钠。
[0025] 将上述成分按照配比量加入到容器中，在37°C下搅拌40min后，静置lh，即可得到 本实施例的二极管专用清洗液。
[0026] 实施例3 在实施例1或2的基础上，改变成分比例，具体为：磷酸溶液9%，EDTA7%，离子-非离子 表面活性剂10%，渗透剂15%，N-羟乙基丙二胺6%，余量为去离子水。按照实施例1或2的 成分选择以及配比确定后，将上述成分按照配比量加入到容器中，在37°C下搅拌40min后， 静置lh，即可得到本实施例的二极管专用清洗液。
[0027] 将以上实施例进行各项技术指标分析中心检测值与国家行业指标进行对比，对比 表如下表1所示：
【权利要求】
1. 一种二极管专用清洗液，其特征在于：包括以下重量百分比的成分：磷酸溶液8? 10%，EDTA5?10%，离子-非离子表面活性剂5?15%，渗透剂10?20%，N-羟乙基丙二胺 5?8%，余量为去尚子水。
2. 根据权利要求1所述的二极管专用清洗液，其特征在于：包括以下重量百分比的成 分：磷酸溶液9%，EDTA7%，离子-非离子表面活性剂10%，渗透剂15%，N-羟乙基丙二胺6%， 余量为去尚子水。
3. 根据权利要求1所述的二极管专用清洗液，其特征在于：所述磷酸溶液为磷酸/磷 酸盐缓冲液或磷酸盐或磷酸钾或磷酸三钠。
4. 根据权利要求3所述的二极管专用清洗液，其特征在于：所述磷酸/磷酸盐缓冲液 的PH为6. 8?7. 0。
5. 根据权利要求1所述的二极管专用清洗液，其特征在于：所述离子-非离子表面活 性剂是由阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂混合而成，阳离子表面活性剂和非离子表 面活性剂的混合比例为0. 5?1 :3?5。
6. 根据权利要求1所述的二极管专用清洗液，其特征在于：所述渗透剂为十二烷基苯 磺酸钠与异丙基苯磺酸钠的混合物，其中，十二烧基苯磺酸钠：异丙基苯磺酸钠=2?3 :1。
7. 根据权利要求1所述的二极管专用清洗液，其特征在于：所述去离子水的电导率为 s/cm，电阻率为 18. 2 ?20. 5MQ ? cm。
【文档编号】C11D3/60GK104450281SQ201410650972
【公开日】2015年3月25日 申请日期:2014年11月17日 优先权日:2014年11月17日
【发明者】黄丽凤, 王志敏, 张龙 申请人:如皋市大昌电子有限公司