一种电容清洗的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种电容清洗机，其包括沿电容传送方向依次设置的清洗剂槽和清水槽，其中：清洗剂槽包括有供电容通过的第一内槽，第一内槽设于第一外槽之内，第一内槽的高度高于第一外槽，第一外槽连通有清洗剂储液槽，清洗剂储液槽连通有清洗剂泵，清洗剂泵与第一内槽相连通，清洗剂槽的底部设有第一振动装置；清水槽包括有供电容通过的第二内槽，第二内槽设于第二外槽之内，第二内槽的高度高于第二外槽，第二外槽连通有清水储液槽，清水储液槽连通有清水泵，清水泵与第二内槽相连通，清水槽的底部设有第二振动装置。上述电容清洗机具有更好的清洗效果。
【专利说明】一种电容清洗机
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及电子元件清洗设备，尤其涉及一种电容清洗机。
【背景技术】
[0002]电容自面市以来，在笔记本电脑、摄像机、数码相机、便携式DVD、消费电子产品等众多领域显示出巨大的应用价值和市场潜力，也是如今最火爆的领域之一，电容在出厂前的工序中，清洗是必不可少的一个关键环节。现有的清洗方式，是将电容从输送线上取下，再将大量的电容置于清洗筐中，之后将清洗筐放置于清洗剂、清水内，通过流动的清洗剂、清水对电容进行冲洗，但是，由于大量的电容堆积在一起，因而难以保证电容被清洗干净，导致清洗效果不好。
实用新型内容
[0003]本实用新型要解决的技术问题在于，提供一种清洗效果更好的电容清洗机。
[0004]为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案。
[0005]一种电容清洗机，其包括沿电容传送方向依次设置的清洗剂槽和清水槽，其中:所述清洗剂槽包括有供电容通过的第一内槽，所述第一内槽设于第一外槽之内，所述第一内槽的高度高于第一外槽，所述第一外槽连通有清洗剂储液槽，所述清洗剂储液槽连通有清洗剂泵，所述清洗剂泵与第一内槽相连通，所述清洗剂槽的底部设有第一振动装置；所述清水槽包括有供电容通过的第二内槽，所述第二内槽设于第二外槽之内，所述第二内槽的高度高于第二外槽，所述第二外槽连通有清水储液槽，所述清水储液槽连通有清水泵，所述清水泵与第二内槽相连通，所述清水槽的底部设有第二振动装置。
[0006]优选地，沿电容传送方向且在清水槽之后设有干燥槽，所述干燥槽内通过风机而注入流动空气。
[0007]优选地，所述清洗剂储液槽、清洗剂泵、清水储液槽和清水泵均设于一柜体内。
[0008]优选地，第一振动装置和第二振动装置均是电动振动器、气动振动器、超声波振动器和电磁振动器中的任意一种。
[0009]本实用新型公开的电容清洗机中,输送线带动电容依次经过第一内槽和第二内槽而进行清洗剂清洗和清水清洗，其相比现有技术将大量电容置于清洗筐再进行清洗的方式而言，避免了大量电容的堆积，具有更好的清洗效果，此外，利用流动且振动的清洗剂、清水来清洗电容，使得电容的清洗效果得以进一步提高。
【专利附图】
【附图说明】
[0010]图1为清洗剂槽、清水槽和干燥槽的侧视图。
[0011]图2为清洗剂槽的侧向剖视图。
[0012]图3为清水槽的侧向剖视图。
[0013]图4为柜体的内部结构示意图。
【具体实施方式】
[0014]下面结合附图和实施例对本实用新型作更加详细的描述。
[0015]本实用新型公开了一种电容清洗机，结合图1至图4所示，其包括沿电容传送方向依次设置的清洗剂槽I和清水槽2，其中:
[0016]所述清洗剂槽I包括有供电容通过的第一内槽10，所述第一内槽10设于第一外槽11之内，所述第一内槽10的高度高于第一外槽11，所述第一外槽11连通有清洗剂储液槽13，所述清洗剂储液槽13连通有清洗剂泵14，所述清洗剂泵14与第一内槽10相连通，所述清洗剂槽I的底部设有第一振动装置12 ；
[0017]所述清水槽2包括有供电容通过的第二内槽20，所述第二内槽20设于第二外槽21之内，所述第二内槽20的高度高于第二外槽21，所述第二外槽21连通有清水储液槽23，所述清水储液槽23连通有清水泵24，所述清水泵24与第二内槽20相连通，所述清水槽2的底部设有第二振动装置22。
[0018]上述清洗剂槽I中，第一内槽10的高度高于第一外槽11，因而第一内槽10溢出的清洗剂流入第一外槽11，同时，第一内槽10、第一外槽11、清洗剂储液槽13和清洗剂泵14构成水流回路，使得清洗剂得以流动，再结合清洗剂槽I底部的第一振动装置12驱动其内的清洗剂振动，用流动且振动的清洗剂对传送至清洗剂槽I内的电容进行清洗。尤其是第一内槽10的高度高于第一外槽11，使得第一内槽10内的清洗剂保持在满溢状态，以避免第一内槽10内缺少清洗剂而导致电容得不到清洗。
[0019]上述清水槽2中，第二内槽20的高度高于第二外槽21，因而第二内槽20溢出的清水流入第二外槽21，同时，第二内槽20、第二外槽21、清水储液槽23和清水泵24构成水流回路，使得清水得以流动，再结合清水槽2底部的第二振动装置22驱动其内的清水振动，用流动且振动的清水对传送至清水槽2内的电容进行清洗。尤其是第二内槽20的高度高于第二外槽21，使得第二内槽20内的清水保持在满溢状态，以避免第二内槽20内缺少清水而导致电容得不到清洗。
[0020]该电容清洗机中，输送线带动电容依次经过第一内槽10和第二内槽20而进行清洗剂清洗和清水清洗，其相比现有技术将大量电容置于清洗筐再进行清洗的方式而言，避免了大量电容的堆积，具有更好的清洗效果，此外，利用流动且振动的清洗剂、清水来清洗电容，使得电容的清洗效果得以进一步提高。
[0021 ] 电容经过清水清洗之后,为了将电容表面的水分吹干,本实施例中，沿电容传送方向且在清水槽2之后设有干燥槽3，所述干燥槽3内通过风机而注入流动空气。
[0022]作为一种优选方式，所述清洗剂储液槽13、清洗剂泵14、清水储液槽23和清水泵24均设于一柜体4内，从而将四者集中在柜体4中。
[0023]在实际应用中，第一振动装置12和第二振动装置22均是电动振动器、气动振动器、超声波振动器和电磁振动器中的任意一种，但是这仅是本实用新型的较佳实施例，在本实用新型的其他实施例中，第一振动装置12和第二振动装置22还可以是其他振动部件。
[0024]以上所述只是本实用新型较佳的实施例，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的技术范围内所做的修改、等同替换或者改进等，均应包含在本实用新型所保护的范围内。
【权利要求】
1.一种电容清洗机，其特征在于，包括沿电容传送方向依次设置的清洗剂槽和清水槽，其中: 所述清洗剂槽包括有供电容通过的第一内槽，所述第一内槽设于第一外槽之内，所述第一内槽的高度高于第一外槽，所述第一外槽连通有清洗剂储液槽，所述清洗剂储液槽连通有清洗剂泵，所述清洗剂泵与第一内槽相连通，所述清洗剂槽的底部设有第一振动装置； 所述清水槽包括有供电容通过的第二内槽，所述第二内槽设于第二外槽之内，所述第二内槽的高度高于第二外槽，所述第二外槽连通有清水储液槽，所述清水储液槽连通有清水泵，所述清水泵与第二内槽相连通，所述清水槽的底部设有第二振动装置。
2.如权利要求1所述的电容清洗机，其特征在于，沿电容传送方向且在清水槽之后设有干燥槽，所述干燥槽内通过风机而注入流动空气。
3.如权利要求1所述的电容清洗机，其特征在于，所述清洗剂储液槽、清洗剂泵、清水储液槽和清水泵均设于一柜体内。
4.如权利要求1所述的电容清洗机，其特征在于，第一振动装置和第二振动装置均是电动振动器、气动振动器、超声波振动器和电磁振动器中的任意一种。
【文档编号】B08B3/10GK203991444SQ201420460590
【公开日】2014年12月10日 申请日期:2014年8月14日 优先权日:2014年8月14日
【发明者】杨伟明 申请人:深圳市长先科力机电设备有限公司