以能够由卷绕装置卷起和退绕。
[0045]还可设有另一驱动装置，该另一驱动装置设置成使环形擦拭元件作循环运动。
[0046]通过擦拭元件的特别是连续、间歇和/或可与往复运动组合的循环运动，改善了将擦拭元件作用于内壁或者附着到内壁上的沉积物的擦拭效果。
[0047]至少一个环形擦拭元件可沿大致水平方向与下降料道的至少一个内壁相邻地延伸。
[0048]至少一个环形擦拭元件还可沿大致垂直方向与下降料道的至少一个内壁相邻地延伸和/或以下降料道的形式沿垂直方向相应地延伸。
[0049]还可设有另外的张紧装置，这些张紧装置设置成作用于第一引导装置和/或第二引导装置和/或至少一个擦拭元件，从而保持至少一个擦拭元件处于应力下。
[0050]擦拭元件可被引导经过第二清洁装置，或者穿过第二清洁装置。
[0051]第二清洁装置也可实施成流体浴、毛刷、擦拭条或者擦拭缸。
[0052]较佳地，第二清洁装置也可构造成设置在或者可引入至少一个擦拭元件的移动路径内的障碍物。
[0053]可引入的障碍物可以特别是设置在下降料道的具有至少一个内壁的壁内，其中，可引入的障碍物可在第一位置和第二位置之间调节，在第一位置中，障碍物沿下降料道内部的方向从内壁突出，在第二位置中，该障碍物沿下降料道内部的方向不突出超过内壁。
[0054]第一擦拭元件和/或第二擦拭元件和/或刮刀可构造成刮铲、抹刀或者棒、特别是圆棒。
[0055]第一擦拭元件和/或第二擦拭元件和/或柔性的擦拭元件也可构造成绳索、特别是钢丝绳、线材、带材或链条。
[0056]由于棒、特别是圆棒、绳索、线材或带材具有相对较小的表面，所以在其上形成较大的牢固的附着物的可能性减小。
[0057]较佳地，下降料道的横截面被构造成沿颗粒的下落方向从上到下逐渐缩小。
[0058]下降料道可构造成圆柱形、圆锥形、立方体形、规则或不规则多边形或者楔形。
[0059]下降料道在入口和出口的区域内具有不同形状的横截面。
[0060]不同形状的横截面可从如下形状中选择:圆形、椭圆形、方形、矩形、规则或不规则多边形的形状以及由组合的弧段构成的形状。
[0061]下降料道可构造成多部分，具有多个壁，这些壁分别形成下降料道的内壁。
[0062]下降料道可具有大致凹形。
[0063]下降料道的至少一个内壁、较佳为下降料道的所有内壁可在两分钟内被擦拭至少一次、特别是一分钟内被擦拭一次。
[0064]较佳地，此外可设有调温装置，用以将至少一个内壁调节到低于使粘结剂硬化的阈值、较佳为低于70°C的温度。
[0065]在较佳的其它设计中，第一清洁装置具有至少一个刮刀，该刮刀设计成相对于至少一个内壁运动，而第二清洁装置具有柔性的擦拭元件，该擦拭元件在刮刀的移动路径中经至少一个内壁张紧。
[0066]作为另一解决方案的是一种用于胶合颗粒的装置，这些颗粒至少部分地由适于生产材料板的纤维和/或碎肩构成，其中，该装置具有下降料道结构。
[0067]此外，该装置还可具有用于馈送颗粒的馈送装置和用于输出粘结剂的多个喷嘴，其中，这些喷嘴设置在下降料道内的区域中和/或下降料道的入口上方。
[0068]此外，该装置具有位于下降料道结构之后的混合装置。
[0069]接下来，将根据附图来示出本发明的实施例:
[0070]图1示意地示出用于胶合颗粒的装置；
[0071]图2A以示意俯视图示出根据本发明的第一实施方式的下降料道结构；
[0072]图2B是图2A的下降料道结构的示意侧向剖视图；
[0073]图2C是图2A的下降料道结构的变型的示意侧向剖视图；
[0074]图2D是图2A的下降料道结构的又一变型的示意俯视图；
[0075]图3A示出根据本发明的第二实施方式的下降料道结构的示意俯视图；
[0076]图3B示出处于壁已被调节的状态下的图3A的下降料道结构；
[0077]图3C示出根据本发明的第二实施方式的下降料道结构的示意俯视图；
[0078]图3D是图3A的下降料道结构的示意俯视图；
[0079]图4以示意侧向剖视图示出根据发明的第三实施方式的下降料道结构；
[0080]图5以示意侧向剖视图示出根据本发明的第四实施方式的下降料道结构；
[0081]图6A以示意侧向剖视图示出根据本发明的第五实施方式的下降料道结构；
[0082]图6B是图6A的下降料道结构的示意俯视图；
[0083]图6C和6D示意地示出图6A和6B的下降料道结构的第一变型；
[0084]图6E示意地示出图6A和6B的下降料道结构的另一变型；
[0085]图6F示出第二清洁单元的示例性设计；
[0086]图6G和6H示意地示出图6A和6B的下降料道结构的又一变型；以及
[0087]图6G和6H示意地示出图6A和6B的下降料道结构的再一变型。
[0088]由于大量的实施例，接下来引入附图标记21 X，23 X，24X，31 X，32 X，33 X，34X作为多部件的参照，用a到d来代替表示X。
[0089]在图1中以示意图示出开头有定量装置2并且结尾有混合装置7的、用于胶合颗粒的装置的总体图。在定量装置和混合装置之间设置有下降料道3以及接下来将进一步描述的下降料道结构10。在此，通常借助出料装置将作为颗粒流I的颗粒从颗粒料仓加入到定量装置2内，在那里称重，并经由用于定量的常见的带调节装置(未示出)进入下降料道4。在下降料道内，颗粒流或颗粒I分散和/或分布到分散装置3上，并在此分散和/或分布成颗粒帘5。分散装置3可具有特别是耙和/或挡板、辐条辊(该辐条辊由至少两个盘构成，这些盘与(带有或不带有贯穿的轴的)转动轴线径向间隔开地具有与转动轴线平行设置的杆、管或类似物)和/或较佳地构造成钉状辊的分散辊。
[0090]随后，经分散的颗粒帘5借助合适的喷嘴6用粘合剂喷涂并胶合。
[0091]在此后的过程中，颗粒帘5下落通过下降料道结构10，随后到达位于下降料道结构10之后的混合装置7，在该混合装置内，混合工具8借助旋转驱动的轴9使已胶合的颗粒再次机械混匀，并最终作为经混匀的颗粒流(出料箭头)输出。
[0092]随后，已胶合的颗粒流临时储存在定量料仓内或者直接引入用于形成散布料垫的散布装置内，该散布料垫在后续过程中在压力机中可压制成材料板和/或可硬化。
[0093]原则上，下降料道结构10具有足够的下落高度，由此，胶合剂可足够牢固地与颗粒连结，并且应当较佳地构造成沿下落方向为下降料道4的至少一半长。
[0094]如图所示，下降料道4和下降料道结构10可作为分开的装置来设置。或者，下降料道4也可以与下降料道结构10的下降料道构造成一个单元。
[0095]参照图2A到6J，现描述作为下降料道结构10应用于图1的装置中的下降料道结构的不同实施方式。
[0096]在图2a到2c中示出下降料道结构20的第一实施方式。
[0097]图2A到2C是具有下降料道21的下降料道结构20。下降料道21具有矩形横截面，其中，四个壁或壁元件分别定义下降料道21的内壁21a，…，21d。在每两个内壁21a，…，21d或者具有相关的内壁的壁或壁元件之间分别构造有间隙，穿过这些间隙设置有至少一个支承元件23a,…,23d。
[0098]支承元件23a，…，23d分别属于内壁21a，…，21d，并且沿与它们的表面大致平行的方向可移动地设置。在各个支承元件23a，…，23d的端部区域处设置有擦拭元件22a，…
，22do
[0099]支承元件23a，…，23d和擦拭元件22a，…，22d是用于清洁下降料道的对应的内壁21a…21d的清洁装置，其中，通过如下方式来清洁内壁21a，…，21d:使对应的支承元件沿与相关的内壁21a，…，21d平行的方向移位，以使得擦拭元件22a，…，22d擦过内壁21a，…，21d并且以此方式来清洁内壁，以及清洁已沉积于这些内壁上的可能粘结剂或颗粒。
[0100]擦拭元件22a,…，22d可构造成刮伊抹刀、棒、特别是圆棒、绳索、线材、带材、链条、毛刷或者其它合适的形式。
[0101]支承元件23a,…，23d可例如构造成纵长板，如图2b中所示，其中，例如两块板23a彼此叠置地平行延伸，并且擦拭元件22a设置在两块板23a处。
[0102]如图2C中所示，支承元件23a，…，23d同样可以分别构造成高度上基本延伸通过各个对应的内壁21a,…，21d的待擦拭区域的壁。
[0103]支承元件23a，…，23d的其它构造方式同样也是可以的。尽管图2A到2C示出了沿颗粒的下落方向以直线延伸的具有矩形横截面的下降料道21，但这并不是限制性的。因此，例如呈倒棱锥形式的下降料道21可被构造成沿颗粒I的下落方向从上到下逐渐缩小。
[0104]其它的横截面，例如呈规则或不规则多边形的横截面也是可以的。内壁21a，…，21d可沿水平方向以直线延伸，或者可构造成具有朝向下降料道内部的凸起的凹形或者是具有朝向下降料道外部的凹陷的凸形；在这些情况下，支承元件同样可构造有对应的曲率，因而，它们在移动时遵循对应所属的内壁的凸起，并且以此方式确保擦拭元件21a，…，21d可通过擦过对应的内壁来清洁它们。
[0105]支承元件23a，…，23d在移动时经过对应所属的第二清洁装置24a，…，24d，这些第二清洁装置清洁支承元件23a，…，23d。
[0106]第二清洁装置24a，…，24d能以例如与图2a中所示不同的方式设置。第二清洁