特别是用于在生产材料板过程中胶合颗粒的装置的、具有双倍清洁装置的下降料道结构的制作方法_5

文档序号:8490985阅读:来源:国知局
清洁所述下降料道(21 ;31 ;41 ;51 ;61)的至少一个内壁(21a…21d)的至少一个第一清洁装置,其特征在于,所述下降料道结构(10 ;20 ;30 ;40 ;50 ;60)还具有用于清洁所述至少一个第一清洁装置的至少一个第二清洁装置。
2.如权利要求1所述的下降料道结构(20;30),其特征在于,所述第一清洁装置构造成至少一个可移动的支承元件(23x ;31x),所述支承元件设置成能相对于、特别是与所述下降料道(21 ;31)的所属的第一内壁(21x ;31x)平行地移动,其中至少一个第一擦拭元件(22x ;32x)设置或构造在所述可移动的支承元件(23x ;31x)处,以使得在所述可移动的支承元件(23x ;31x)移动时擦拭所属的内壁(21x ;31x)。
3.如权利要求2所述的下降料道结构(20;30),其特征在于,所述可移动的支承元件(23x ;31x)设置成穿过构造在两个相邻的内壁(21x)之间或内壁(21x)的两个端部之间的间隙。
4.如权利要求2到3中任一项所述的下降料道结构(20;30),其特征在于,所述可移动的支承元件(23x ;31x)构造成壁,所述壁的高度等于所属的内壁(21x ;31x)的待擦拭高度。
5.如权利要求2到4中任一项所述的下降料道结构(20),其特征在于,所述可移动的支承元件(23x ;31x)构造成是弹性的。
6.如权利要求2到5中任一项所述的下降料道结构(20),其特征在于,所述第二清洁装置具有至少一个第二擦拭元件(24x)。
7.如权利要求6所述的下降料道结构(20),其特征在于,所述第二擦拭元件(24x)设置在壁或支承元件(23x)处。
8.如权利要求2到4中任一项所述的下降料道结构(30),其特征在于,所述可移动的支承元件构造成所述下降料道(31)的形成所述下降料道(31)的内壁(31x)的壁元件。
9.如权利要求8所述的下降料道结构(30),其特征在于,所述下降料道(31)具有多个壁元件,所述壁元件分别构造成拱形,其中每个壁元件与另一壁元件在其外侧部分交叠。
10.如权利要求1所述的下降料道结构(40),其特征在于,所述第一清洁装置具有至少一个第一刮刀(42),所述第一刮刀分配给至少一个内壁(41a),而所述第二清洁装置具有至少一个第二刮刀(44)以及驱动装置(43),所述驱动装置用以使所述第二刮刀(44)从静止位置沿与所述第一刮刀(42)大致平行的轴线运动,以擦拭所述第一刮刀(42)。
11.如权利要求1所述的下降料道结构(50),其特征在于,所述第一清洁装置具有至少一个第一刮刀(52)以及驱动装置(53),该驱动装置用以使所述第一刮刀(52)从静止位置沿与至少一个内壁(51a)大致平行的轴线运动,以擦拭所述内壁(51a);并且所述第二清洁装置具有至少一个第二刮刀(54)以及驱动装置(55),该驱动装置用以使所述第二刮刀(44)从静止位置运动经过定位在所述静止位置的第一刮刀(52),以擦拭所述第一刮刀(52)。
12.如权利要求1所述的下降料道结构(60),其特征在于,所述第一清洁装置具有至少一个柔性的擦拭元件(62)、特别是环形的擦拭元件(62),用以清洁至少一个内壁(61x)。
13.如权利要求12所述的下降料道结构(60),其特征在于,所述下降料道结构(60)还具有第一引导装置和第二引导装置,其中所述第一引导装置和所述第二引导装置设置成保持和引导至少一个擦拭元件(62),以使得允许在所述擦拭元件(62)和所述下降料道(61)的所述至少一个内壁(61x)之间沿切向相对于所述至少一个内壁(61x)作相对运动, 其中还设有驱动装置,所述驱动装置设置成作用于所述下降料道(61)、所述第一引导装置、所述第二引导装置和/或所述至少一个擦拭元件¢2),以产生相对运动。
14.如权利要求13所述的下降料道结构(60),其特征在于,所述第一引导装置和/或所述第二引导装置具有:多个引导机构(68)、特别是引导滚轮或者引导齿轮,以及环形引导元件(69)、特别是环形引导绳索、环形引导带,环形引导线材或者环形引导链条,所述引导元件围绕所述引导机构(68),其中至少一个柔性的擦拭元件¢2)直接地或通过保持装置和/或转向装置(63,72)固定到环形引导元件(69)处。
15.如权利要求12到14中任一项所述的下降料道结构(60),其特征在于,环形擦拭元件(62)借助转向装置(63,67)设置成包围所述下降料道(61)的具有至少一个内壁(61x)的壁元件。
16.如权利要求5到7中任一项所述的下降料道结构(60),其特征在于,所述环形擦拭元件¢2)设置成在所述下降料道¢1)内的所述内壁^lx)的区域内延伸。
17.如权利要求12到16中任一项所述的下降料道结构(60),其特征在于,还设有驱动装置,所述驱动装置设置成使至少一个柔性的擦拭元件¢2)沿擦拭元件¢2)的纵向延伸方向进行往复运动。
18.如权利要求12到17中任一项所述的下降料道结构(60),其特征在于,设有两个卷绕装置(73),其中所述柔性的擦拭元件¢2)与所述卷绕装置(73)相连,以能够由所述卷绕装置(73)卷起和退绕。
19.如权利要求12到17中任一项所述的下降料道结构(60),其特征在于,还设有驱动装置,所述驱动装置设置成使所述环形擦拭元件¢2)进行循环运动。
20.如权利要求12到19中任一项所述的下降料道结构(60),其特征在于,所述至少一个环形擦拭元件(62)沿大致水平方向与所述下降料道(61)的所述至少一个内壁(61x)相邻地延伸。
21.如权利要求12到19中任一项所述的下降料道结构(60),其特征在于,所述至少一个环形擦拭元件(62)沿大致垂直方向与所述下降料道(61)的所述至少一个内壁(61x)相邻地延伸和/或以所述下降料道(21 ;31 ;41 ;51 ;61)的形状沿垂直方向相应地延伸。
22.如前述权利要求中任一项所述的下降料道结构(60),其特征在于,设有另外的张紧装置出4,65),所述张紧装置设置成作用于所述第一引导装置和/或所述第二引导装置和/或至少一个擦拭元件(62),因而保持所述至少一个擦拭元件(62)处于应力下。
23.如权利要求12到22中任一项所述的下降料道结构(60),其特征在于,引导所述擦拭元件¢2)延伸经过所述第二清洁装置或者穿过所述清洁装置。
24.如权利要求23所述的下降料道结构(60),其特征在于,所述第二清洁装置实施成流体浴、毛刷、擦拭条或者擦拭缸。
25.如权利要求23所述的下降料道结构(60),其特征在于,所述第二清洁装置构造成设置在或者能引入到所述至少一个擦拭元件(62)的移动路径(74)内的障碍物(75)。
26.如权利要求25所述的下降料道结构(60),其特征在于,可引入的障碍物设置在所述下降料道(61)的具有至少一个内壁(61x)的壁内,其中所述可引入的障碍物(75)能在第一位置和第二位置之间调节,在所述第一位置,所述障碍物(75)沿所述下降料道(61)内部的方向从所述内壁(61x)突出,在所述第二位置,所述障碍物沿所述下降料道(61)内部的方向不突出超过所述内壁(61x)。
27.如权利要求2到26中任一项所述的下降料道结构(10;20 ;30 ;40 ;50 ;60),其特征在于,所述第一擦拭元件(22x ;32x)和/或所述第二擦拭元件(24x ;32x)和/或所述刮刀(42,44)构造成刮铲、抹刀或者棒、特别是圆棒。
28.如权利要求2到26中任一项所述的下降料道结构(10;20 ;30 ;40 ;50 ;60),其特征在于,所述第一擦拭元件(22x ;32x)和/或所述第二擦拭元件(24x ;32x)和/或所述柔性的擦拭元件(62)构造成绳索、特别是钢丝绳、构造成线材、带材或链条。
29.如前述权利要求中任一项所述的下降料道结构(10;20 ;30 ;40 ;50 ;60),其特征在于,所述下降料道(21 ;31 ;41 ;51 ;61)在入口和出口的区域内具有不同形状的横截面。
30.如权利要求1所述的下降料道结构(10;20 ;30 ;40 ;50 ;60),其特征在于,所述第一清洁装置具有至少一个刮刀,所述刮刀设计成相对于至少一个内壁运动,而所述第二清洁装置具有柔性的擦拭元件,所述柔性的擦拭元件在所述刮刀的移动路径中经由所述至少一个内壁张紧。
【专利摘要】本发明涉及一种下降料道结构(20),该下降料道结构特别是用于胶合颗粒(1)的装置,所述颗粒至少部分地由适于生产材料板的纤维和/或碎屑构成,其中,该下降料道结构(20)具有下降料道(21),下降料道具有用于馈送颗粒(1)的入口和用于输出颗粒(1)的出口,并具有用于清洁下降料道(21)的至少一个内壁(21)的至少一个第一清洁装置。本发明的目的在于提供一种可有效地防止固体粘性材料形成于下降料道内的下降料道结构。本发明此外意在用于非常不同类型的下降料道并且可修改为集成到现有设备中。本发明的关键在于下降料道结构(20)还具有用于清洁至少一个第一清洁装置的至少一个第二清洁装置。
【IPC分类】B27N1-02, B08B9-08, B65D88-68
【公开号】CN104812542
【申请号】CN201380060981
【发明人】D·克罗尔, 哈斯 G·冯, R·施威, J·斯科里贝, M·格哈特
【申请人】迪芬巴赫机械工程有限公司
【公开日】2015年7月29日
【申请日】2013年11月22日
【公告号】DE102012111307A1, EP2922671A1, WO2014079984A1
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