电浆喷嘴的阵列结构的制作方法

本实用新型是关于一种元件的阵列结构，特别是一种电浆喷嘴的阵列结构。

背景技术：

电浆为一种主要由带电离子及自由电子所组成的物质形态，现已广泛应用于各种领域，例如半导体制程中的干式蚀刻、电路板的清洁及材料表面性质的改变等等。另外，电浆源种类众多，包含微波表面波电浆源、电感式电浆源、电浆火炬及大气电浆源等。举例来说，喷射式的大气电浆常用于元件的清洁以及表面改质。

习知利用电浆进行布料表面改质时，常发生改质效率不佳的情形。有鉴于此，提高电浆处理良率及降低时间成本为当前亟需解决的问题。

技术实现要素：

本实用新型的一实施态样为一种电浆喷嘴的阵列结构，包含多个第一电浆喷嘴及多个第二电浆喷嘴。所述多个第一电浆喷嘴沿第一方向进行配置。所述多个第二电浆喷嘴沿第一方向配置于所述多个第一电浆喷嘴的一侧，其中，所述多个第一电浆喷嘴及所述多个第二电浆喷嘴于垂直第一方向上的投影彼此邻接但不重叠。

根据本实用新型的一些实施方式，所述多个第一电浆喷嘴的任两相邻者之间相隔第一间距。

根据本实用新型的一些实施方式，各个第一间距为25至200mm。

根据本实用新型的一些实施方式，所述多个第一间距皆相同。

根据本实用新型的一些实施方式，所述多个第二电浆喷嘴的任两相邻者之间相隔第二间距。

根据本实用新型的一些实施方式，各个第二间距为25至200mm。

根据本实用新型的一些实施方式，所述多个第二间距皆相同。

根据本实用新型的一些实施方式，所述多个第一电浆喷嘴与所述多个第二电浆喷嘴的数目相同或相差1个。

根据本实用新型的一些实施方式，各个第一电浆喷嘴具有第一宽度，各个第二电浆喷嘴具有第二宽度，且各个第一宽度相同于各个第二宽度。

根据本实用新型的一些实施方式，其中所述多个第一电浆喷嘴及所述多个第二电浆喷嘴位于同一平面上。

本实用新型的一实施态样为一种电浆喷嘴的阵列结构，包含多个第一电浆喷嘴、多个第二电浆喷嘴及多个第三电浆喷嘴。所述多个第一电浆喷嘴，沿第一方向进行配置。所述多个第二电浆喷嘴沿第一方向配置于所述多个第一电浆喷嘴的一侧。所述多个第三电浆喷嘴沿第一方向配置于所述多个第二电浆喷嘴的一侧，其中，所述多个第一电浆喷嘴、所述多个第二电浆喷嘴及所述多个第三电浆喷嘴于垂直第一方向上的投影彼此邻接但不重叠。

本实用新型的一实施态样为一种电浆喷嘴的阵列结构，包含多个第一电浆喷嘴及多个第二电浆喷嘴。所述多个第一电浆喷嘴沿第一方向进行配置。所述多个第二电浆喷嘴沿第一方向配置于所述多个第一电浆喷嘴的一侧，其中，所述多个第一电浆喷嘴及所述多个第二电浆喷嘴于垂直第一方向上的投影彼此邻接且至少部分重叠。

本实用新型的一实施态样为一种电浆喷嘴的阵列结构，包含多个第一电浆喷嘴、多个第二电浆喷嘴及多个第三电浆喷嘴。所述多个第一电浆喷嘴，沿第一方向进行配置。所述多个第二电浆喷嘴沿第一方向配置于所述多个第一电浆喷嘴的一侧。所述多个第三电浆喷嘴沿第一方向配置于所述多个第二电浆喷嘴的一侧，其中，所述多个第一电浆喷嘴、所述多个第二电浆喷嘴及所述多个第三电浆喷嘴于垂直第一方向上的投影彼此邻接且至少部分重叠。

附图说明

当结合附图阅读以下详细描述时将更好地理解本揭露内容的态样。但须注意依照本产业的标准做法，各种特征未按照比例绘制。事实上，各种特征的尺寸为了清楚的讨论而可被任意放大或缩小。

图1绘示本实用新型一实施方式的电浆喷嘴的阵列结构的俯视图；

图2是绘示图1的电浆喷嘴的阵列结构的侧视图；

图3绘示本实用新型一实施方式的电浆喷嘴的阵列结构的俯视图。

具体实施方式

本揭露接下来将会提供许多不同的实施方式或实施例以实施本揭露中不同的特征。各特定实施例中的组成及配置将会在以下作描述以简化本揭露。这些为实施例仅作为示例并非用于限定本揭露。例如，一第一元件形成于一第二元件“上方”或“之上”可包含实施例中的第一元件与第二元件直接接触，亦可包含第一元件与第二元件之间更有其他额外元件使第一元件与第二元件无直接接触。此外，在本揭露各种不同的范例中，将重复地使用元件符号及/或字母。此重复乃为了简化与清晰的目的，而其本身并不决定各种实施例及/或结构配置之间的关系。

此外，像是“之下”、“下面”、“较低”、“上面”、“较高”、以及其他类似的相对空间关系的用语，可用于此处以便描述附图中一元件或特征与另一元件或特征之间的关系。这些相对空间关系的用语乃为了涵盖除了附图所描述的方向以外，装置于使用或操作中的各种不同的方向。上述装置可另有其他导向方式(旋转90度或朝其他方向)，此时的空间相对关系也可依上述方式解读。

图1是根据一些实施方式，绘示一种电浆喷嘴的阵列结构的俯视图。图2是根据图1，绘示一种电浆喷嘴的阵列结构的侧视图。为方便理解本实用新型的实施方式，图1及图2将合并说明。电浆喷嘴的阵列结构包含多个第一电浆喷嘴120a及多个第二电浆喷嘴120b。这些第一电浆喷嘴120a沿第一方向进行配置。这些第二电浆喷嘴120b沿第一方向配置于这些第一电浆喷嘴120a的一侧。这些第一电浆喷嘴120a及这些第二电浆喷嘴120b于垂直第一方向上的投影彼此邻接但不重叠。在一些实施方式中，第一方向实质上平行于Y轴，而投影方向实质上平行于X轴。

在图1中，电浆产生装置115例示性地位于第一电浆喷嘴120a及第二电浆喷嘴120b的上方，故以虚线表示。也就是说，这些第一电浆喷嘴120a及这些第二电浆喷嘴120b为电浆产生装置115的电浆出口端。滚轮105为载具(未绘示)的部分元件。基材110为待处理的材料。举例来说，当基材110负载于载具上时，滚轮105会旋转并带动基材110沿X轴的方向前进。电浆产生装置115可自第一电浆喷嘴120a及第二电浆喷嘴120b向下喷出电浆对基材110进行表面处理。在一些实施方式中，基材110可包含各类薄膜工件或平板工件或各种布料。

第一电浆喷嘴120a及第二电浆喷嘴120b的宽度实质上小于上方的电浆产生装置115。尽管将电浆产生装置115彼此紧密并排，位于下方的电浆喷嘴仍会相隔一段距离。举例来说，第一电浆喷嘴120a各具有第一宽度W1，而两相邻的第一电浆喷嘴120a之间的第一间距S1为约25至约200mm。在一些实施方式中，第一间距S1皆相同。另一方面，第二电浆喷嘴120b各具有第二宽度W2，而两相邻的第二电浆喷嘴120b之间相隔第二间距S2为约25至约200mm。在一些实施方式中，第二间距S2皆相同。

根据前文所述，习知电浆出口端尺寸小于电浆产生装置本体尺寸，使得电浆喷嘴彼此之间会空白一段没有电浆喷嘴的距离。若仅设置一排第一电浆喷嘴120a于基材110上方时，第一电浆喷嘴120a势必会有第一间距S1。也就是说，由于第一间距S1的存在，习知在进行电浆处理制程时，随着滚轮105将基材110沿X轴方向带动，基材110的表面必然会存在至少一条宽度为S1的区域没有被处理到。

然而，根据本实用新型的一些实施方式，另有一排的第二电浆喷嘴120b进一步设置于第一电浆喷嘴120a的一侧。各个第一电浆喷嘴120a与各个第二电浆喷嘴120b交错排列。而且，第二电浆喷嘴120b的第二宽度W2与第一间距S1相同，而第一电浆喷嘴120a的第一宽度W1亦与第二间距S2相同。换言之，第一电浆喷嘴120a及第二电浆喷嘴120b于X轴方向的投影彼此邻接但不重叠。所以在这种情况下，基材110的基材宽度Wt为这些第一宽度W1及这些第二宽度W2的加总。故在进行电浆处理制程时，第二电浆喷嘴120b可弥补第一电浆喷嘴120a的不足，使得基材110的整体表面都能被电浆处理到。在一些实施方式中，第二电浆喷嘴120b的第二宽度W2大于第一间距S1'，使得第一电浆喷嘴120a及第二电浆喷嘴120b于X轴方向的投影彼此邻接且至少部分重叠。故在进行电浆处理制程时，第二电浆喷嘴120b可弥补第一电浆喷嘴120a的不足，使得基材110的整体表面都能被电浆处理到。

第一电浆喷嘴120a及第二电浆喷嘴120b的尺寸大小可视需求调整。举例来说，在某些实施方式中，第一电浆喷嘴120a的尺寸大小(即第一宽度W1)皆不相同，从而使得两相邻的第一电浆喷嘴120a的第一间距S1亦不相同。尽管如此，第二电浆喷嘴120b的尺寸大小(即第二宽度W2)可相应做调整，使得第二电浆喷嘴120b各具有不同的第二宽度W2对应至不同的第一间距S1。也就是说，第二电浆喷嘴120b各具有不同的第二宽度W2以弥补第一间距S1的间隙，使得第一电浆喷嘴120a及第二电浆喷嘴120b于X轴方向的投影仍旧能彼此邻接但不重叠。在一些实施方式中，第二电浆喷嘴120b各具有不同的第二宽度W2，其大于第一间距S1的间隙，使得第一电浆喷嘴120a及第二电浆喷嘴120b于X轴方向的投影彼此邻接且至少部分重叠。

在某些实施方式中，第一电浆喷嘴120a与第二电浆喷嘴120b的数目可以相同或相差1个。当第一电浆喷嘴120a与第二电浆喷嘴120b的数目相同并于XY平面上投影至基材110时，其中一个第一电浆喷嘴120a会与基材110的一边相切(即为此第一电浆喷嘴120a的切线)，而其中一个第二电浆喷嘴120b会与基材110的相对另一边相切(即为此第二电浆喷嘴120b的切线)。

在某些实施方式中，第一电浆喷嘴120a及第二电浆喷嘴120b位于同一平面上。如图2所示，例示性地将第一电浆喷嘴120a及第二电浆喷嘴120b绘示为位于相同的高度。也就是说，第一电浆喷嘴120a的下缘及第二电浆喷嘴120b的下缘位于同一平面上，可视为二维的电浆喷嘴的阵列结构。在一些实施方式中，电浆喷嘴的阵列结构可视需求而调整为三维阵列结构。三维阵列结构泛指第一电浆喷嘴120a及第二电浆喷嘴120b高度不一，使得第一电浆喷嘴120a及第二电浆喷嘴120b不会位于同一平面上。举例来说，在某些情况下，数个第二电浆喷嘴120b被调整至高于第一电浆喷嘴120a，而另有数个第二电浆喷嘴120b被调整至低于第一电浆喷嘴120a，致使第一电浆喷嘴120a及第二电浆喷嘴120b的阵列结构呈现三维的立体排列。

图3是根据一些实施方式，绘示一种电浆喷嘴的阵列结构的俯视图。电浆喷嘴的阵列结构包含多个第一电浆喷嘴120a、多个第二电浆喷嘴120b及多个第三电浆喷嘴120c。这些第一电浆喷嘴120a沿第一方向进行配置。这些第二电浆喷嘴120b沿第一方向配置于这些第一电浆喷嘴120a的一侧。这些第三电浆喷嘴120c沿第一方向配置于这些第二电浆喷嘴120b的一侧。这些第一电浆喷嘴120a、这些第二电浆喷嘴120b于垂直第一方向上的投影彼此邻接但不重叠。在一些实施方式中，第一方向实质上平行于Y轴，而投影方向实质上平行于X轴。另外，图3中的电浆产生装置115、滚轮105及基材110可与前述图1中相同，于此不做多赞述。

第一电浆喷嘴120a、第二电浆喷嘴120b及第三电浆喷嘴120c的宽度实质上小于上方的电浆产生装置115。尽管将电浆产生装置115彼此紧密并排，位于下方的电浆喷嘴仍会相隔一段距离。与图1不同的是，图3中的阵列结构进一步包含了第三电浆喷嘴120c，故在阵列结构上的间距亦有所调整。举例来说，第一电浆喷嘴120a各具有第一宽度W1，而两相邻的第一电浆喷嘴120a之间相隔第一间距S1'为约25至约200mm。在一些实施方式中，第一间距S1'皆相同。另一方面，第二电浆喷嘴120b各具有第二宽度W2，而两相邻的第二电浆喷嘴120b之间相隔第二间距S2'为约25至约200mm。在一些实施方式中，第二间距S2'皆相同。更进一步，第三电浆喷嘴120c各具有第三宽度W3，而两相邻的第三电浆喷嘴120c之间相隔第三间距S3'为约25至约200mm。在一些实施方式中，第三间距S3'皆相同。

如前文所述，习知电浆出口端尺寸小于电浆产生装置本体尺寸，使得电浆喷嘴彼此之间会空白一段没有电浆喷嘴的距离。在图3所例示性的实施方式中，若仅设置一排第一电浆喷嘴120a于基材110上方时，第一电浆喷嘴120a势必会有第一间距S1'。也就是说，由于第一间距S1'的存在，习知在进行电浆处理制程时，随着滚轮105将基材110沿X轴方向带动，基材110的表面必然会存在至少一条宽度为S1'的区域没有被处理到。

另外，在某些实施方式中，两相邻的第一电浆喷嘴120a所存在的间隙(即，第一间距S1')可为至少两个电浆喷嘴的宽度。然而，根据本实用新型的一些实施方式，除了有一排第二电浆喷嘴120b设置于第一电浆喷嘴120a的一侧之外，另有一排第三电浆喷嘴120c设置于第二电浆喷嘴120b的一侧。而且，第三电浆喷嘴120c及第一电浆喷嘴120a以第二电浆喷嘴120b为中轴分别位于不同侧。如图3所示，各个第一电浆喷嘴120a、各个第二电浆喷嘴120b及各个第三电浆喷嘴120c交错排列。这种配置使得第二电浆喷嘴120b的第二宽度W2加上第三电浆喷嘴120c的第三宽度W3会与第一间距S1'相同。换言之，第一电浆喷嘴120a、第二电浆喷嘴120b及第三电浆喷嘴120c于X轴方向的投影彼此邻接但不重叠。所以在这种情况下，基材110的基材宽度Wt为这些第一宽度W1、这些第二宽度W2及这些第三宽度W3的加总。故在进行电浆处理制程时，第二电浆喷嘴120b及第三电浆喷嘴120c可弥补第一电浆喷嘴120a的不足，使得基材110的整体表面都能被电浆处理到。在一些实施方式中，第二电浆喷嘴120b的第二宽度W2加上第三电浆喷嘴120c的第三宽度W3大于第一间距S1'，使得第一电浆喷嘴120a、第二电浆喷嘴120b及第三电浆喷嘴120c于X轴方向的投影彼此邻接且部分重叠。故在进行电浆处理制程时，第二电浆喷嘴120b及第三电浆喷嘴120c可弥补第一电浆喷嘴120a的不足，使得基材110的整体表面都能被电浆处理到。

在某些实施方式中，第一电浆喷嘴120a、第二电浆喷嘴120b及第三电浆喷嘴120c的数目可以相同或各相差1个。当第一电浆喷嘴120a、第二电浆喷嘴120b及第三电浆喷嘴120c的数目相同并于XY平面上投影至基材110时，其中一个第一电浆喷嘴120a会与基材110的一边相切(即为此第一电浆喷嘴120a的切线)，而其中一个第三电浆喷嘴120c会与基材110的相对另一边相切(即为此第三电浆喷嘴120c的切线)。

在某些实施方式中，第一电浆喷嘴120a、第二电浆喷嘴120b及第三电浆喷嘴120c位于同一平面上。举例来说，第一电浆喷嘴120a、第二电浆喷嘴120b及第三电浆喷嘴120c位于相同的高度上。也就是说，第一电浆喷嘴120a的下缘、第二电浆喷嘴120b的下缘及第三电浆喷嘴120c的下缘位于同一平面上，可视为二维的电浆喷嘴的阵列结构。在一些实施方式中，电浆喷嘴的阵列结构可视需求而调整为三维阵列结构。三维阵列结构泛指第一电浆喷嘴120a、第二电浆喷嘴120b及第三电浆喷嘴120c高度不一，使得第一电浆喷嘴120a、第二电浆喷嘴120b及第三电浆喷嘴120c不会位于同一平面上。举例来说，在某些情况下，数个第二电浆喷嘴120b及/或第三电浆喷嘴120c被调整至高于第一电浆喷嘴120a，而另有数个第二电浆喷嘴120b及/或第三电浆喷嘴120c被调整至低于第一电浆喷嘴120a，致使第一电浆喷嘴120a、第二电浆喷嘴120b及第三电浆喷嘴120c的阵列结构呈现三维的立体排列。

在进行电浆处理制程时，第二电浆喷嘴120b及第三电浆喷嘴120c可弥补第一电浆喷嘴120a的不足，使得基材110的整体表面都能被电浆处理到，借此提高电浆处理良率。

前文概述数个实施例的特征以使得熟悉该项技术者可更好地理解本揭示内容的态样。熟悉该项技术者应了解，可容易地将本揭示内容用作设计或修改用于实现相同目的及/或达成本文引入的实施例的相同优点的其他制程及结构的基础。熟悉该项技术者亦应认识到，此类等效物构造不违背本揭示内容的精神及范畴，且可在不违背本揭示内容的精神及范畴的情况下于此作出各种变化、替代以及变更。