向下式基板薄型化装置及采用该装置的薄型化系统的制作方法

专利名称：向下式基板薄型化装置及采用该装置的薄型化系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种如下的向下式玻璃薄型化装置和一种薄型化系统 所述装置使蚀刻液靠重力从玻璃的上部沿着玻璃表面自然地流向下 部，由此实现所期望的玻璃的蚀刻的同时，减少由作为在玻璃蚀刻之 后产生的副产物的玻璃淤渣以及颗粒所引起的划痕不良等，能够对玻 璃厚度进行超薄型化；所述系统具有蚀刻模块和水洗模块以在应用该 装置时能够在一个工序中进行水洗和蚀刻。
背景技术：
最近，随着半导体、显示设备产业的发展，以及根据追求轻薄短小 的产品的消费者的要求，迫切需要发展对以附着玻璃的状态制造的显示 面板(Panel)进行薄型化的技术。即，随着设备的薄型化，要求对使用 于LCD基板等的玻璃厚度进行超薄型化，作为进行这样的薄型化的技 术，采用显示面板(Panel)的蚀刻法。熟知采用化学蚀刻法对面板进行 薄型化的现有技术，有浸泡法(Dip)、喷射法(Spray)等。

发明内容
发明所要解决的问题
然而，就这样的蚀刻方法而言，从外部喷射蚀刻液，或者浸泡在蚀 刻液中，为了进行蚀刻而必然地提供气泡，因此，在蚀刻面上出现微细 的颗粒或者划痕，因此存在难以进行精细的玻璃蚀刻以及采用玻璃蚀刻 的薄型化工序的问题。
另外，存在如下不便之处伴随着蚀刻工序要进行蚀刻液的水洗； 在没获得精细的蚀刻时不得不再次进行蚀刻工序，因此还存在难以进行 大量操作，生产性较低的问题。
本发明是为了解决上述问题而提出的，其目的在于，提供一种如下 的向下式玻璃薄型化装置为了除去由于蚀刻液喷射式或者浸泡及气泡(Bubble)在蚀刻时所产生的玻璃基板的颗粒以及划痕，具有作为供给 从基板上部沿着基板面垂直自由落下的蚀刻液的供给单元的功能性喷嘴 部，由此能够明显地减少颗粒以及划痕的产生，提供高品质的玻璃，并 能够对显示面板(Panel)进行超薄型化。
本发明的另一个目的在于，提供一种能够用一个工序进行蚀刻工序 和蚀刻前后的水洗工序的向下式玻璃薄型化系统，除了对工序进行简化 外，还附加循环式蚀刻液以及水洗用水系统，由此节减制造费用。
解决问题的手段
为了解决上述问题，本发明提供了一种向下式玻璃薄型化装置，特 别是具有固定部，至少将一张基板垂直固定；喷嘴部，设置在所述基 板的垂直上方，使蚀刻液沿着所述基板表面流下。在此，所述喷嘴部在 基板的垂直上部方向设置多个，另外，具有特有的容纳部、蚀刻液通过 狭缝以及导向部，以使从喷嘴部供给的蚀刻液溢出流动的同时沿着基板 表面进行蚀刻，而且为了防止蚀刻液过度流出而具有緩冲隔壁。
发明效果
若根据本发明，则可放弃从外部对玻璃或者液晶面板进行的喷射式 蚀刻工序，提供一种具有使蚀刻液从基板的上部流下，并靠重力沿着基 板表面进行蚀刻的喷嘴部的蚀刻装置，由此，可显著地减少颗粒和划痕 的产生，同时提供高品质的玻璃，并可对显示面板(Panel)进行超薄型 化。
另外，由于提供一种蚀刻模块和水洗模块相结合的蚀刻系统，通过 蚀刻液循环和水洗液循环可减少制造工序费用，而且，在一个工序中可 进行反复操作以获得具有完美品质的薄型化玻璃，因此可提高薄型化工 序的效率。


图l是示出本发明的向下式基板薄型化装置结构的概略图。 图2是示出本发明的喷嘴部结构的主要部分的立体图。 图3是示出本发明的喷嘴部中緩冲隔壁的主要部分的放大图。 图4是示出适用本发明的向下式基板薄型化装置的薄型化系统的一 个实施例的结构图。
7图5是示出适用本发明的向下式基板薄型化装置的薄型化系统的另 一个实施例的结构图。
图6是示出适用本发明的向下式基板薄型化装置的薄型化系统的多 种适用例的图。
具体实施例方式
本发明提供一种向下式玻璃薄型化装置，具有固定部，至少将一 张基板垂直固定；喷嘴部，设置在所述基板的垂直上方，使蚀刻液沿着 所述基板表面流下。本发明可消除在对将要进行蚀刻的基板，即玻璃或 者液晶面板进行蚀刻时产生的颗粒或者淤渣等缺陷，因此能够提供一种 高品质的经过薄型化的基板。
另外，本发明提供一种其特征为，所述喷嘴部在所述基板的垂直上 部侧至少设置一个、以可调节喷嘴流量的方式形成的向下式玻璃薄型化 装置。由此，就多个基板的蚀刻操作而言，可大量生产，达到所期望的 程度。
另外，本发明提供一种其特征为，所述喷嘴部包括容纳部，容纳 从外部注入的蚀刻液；导向部，将溢出所述容纳部的蚀刻液导向至所述 基板的垂直上部方向的向下式玻璃薄型化装置。不采用喷雾或者喷射方 式，使蚀刻液沿着所要进行蚀刻的玻璃表面自由落下的同时自然地进行 蚀刻，由此，能够消除产生颗粒或者划痕等缺陷，能够提供高品质的经 过薄型化的基板。
另外，本发明提供一种其特征为，在所述容纳部的上部面形成有一 定部分开口的蚀刻液通过狭缝，在所述通过狭缝的外侧方向，形成有将 蚀刻液均匀地引向所述导向部的多个导向槽的向下式玻璃薄型化装置。 由此能够向所要进行蚀刻的基板表面自然地引导蚀刻液的流出，因此能 够提高蚀刻的效率。
另外，本发明提供一种其特征为，在所述容纳部的内部形成有用于 防止所供给的蚀刻液的流量在一定部分急速增加的现象，引导蚀刻液均 匀流动的緩沖隔壁的向下式玻璃薄型化装置。由此能够防止蚀刻液的流 量急速增加或者向上部喷出的现象。
另外，本发明提供一种其特征为，所述緩沖隔壁由形成有多个蚀刻 液緩冲通孔的薄板构件构成的向下式玻璃薄型化装置。基本上是，为了引导蚀刻液自然且均匀地流出，在容纳部内设置緩冲隔壁，由于其存在， 能够更有效地防止蚀刻液的流量急速增加或者向上部喷出的现象。
另外，本发明提供一种其特征为，所述导向部采用沿着垂直向下逐 渐倾斜的结构，其末端以与所述基板的上部面的垂直上部方向相对应的 方式排列的向下式玻璃薄型化装置。由此能够使蚀刻液沿着基板的前面 和背面自然流下，而且能够使蚀刻液从基板的垂直上部方向落下。
另外，本发明提供一种其特征为，所述蚀刻液是选自氢氟酸类、混 合酸类以及非氢氟酸类的蚀刻液的任意一种的的向下式玻璃薄型化装 置。
另外，为了体现能够适用上述向下式玻璃薄型化装置来对玻璃进 行蚀刻和水洗的蚀刻系统，本发明提供一种向下式玻璃薄型化系统，
其特征在于包括水洗模块，具有对至少一张基板在垂直竖立的状态 下进行清洗的水洗室；蚀刻模块，具有对通过所述基板水洗模块的基 板进行蚀刻的蚀刻室，所述蚀刻室在所述基板的垂直上部侧至少设置 一个，具有喷嘴部，使蚀刻液从所述基板的垂直上部方向沿着所述 基板的表面自由落下；固定部，将至少一张基板垂直固定，具有移动 单元，使所述固定部移动以实现所述水洗模块和蚀刻模块的内部之间 的往复移动。由此，使得可通过一个工序同时进行基板的蚀刻和水洗 操作，因此能够提高操作工序的效率。
另外，本发明提供一种其特征为，所述喷嘴部包括容纳部，容 纳从外部注入的蚀刻液；导向部，将溢出所述容纳部的蚀刻液导向至所 述基板的垂直上部方向的向下式玻璃薄型化系统。
另外，本发明提供一种其特征为，在上述的向下式玻璃薄型化系 统的所述容纳部的上部面形成有一定部分开口的蚀刻液通过狭缝，在所 述通过狭缝的外侧方向，形成有将蚀刻液均匀地引向所述导向部的多个 导向槽的向下式玻璃薄型化系统。
另外，本发明提供一种其特征为，在所述容纳部的内部形成有用于 防止所供给的蚀刻液的流量急速增加的緩冲隔壁的向下式玻璃薄型化 系统。
另外，本发明提供一种其特征为，所述緩冲隔壁由形成有多个蚀刻 液緩冲通孔的薄板构件构成的向下式玻璃薄型化系统。另外，本发明提供一种其特征为，还具有蚀刻液循环供给单元， 它包括将在所述蚀刻模块使用的蚀刻液供向所述蚀刻室，使使用过的 蚀刻液再次循环的结构的向下式玻璃薄型化系统。由此，可以有效4吏 用蚀刻液，节约薄型化工序的制造费用。
另外，本发明提供一种其特征为，所述蚀刻液循环供给单元包括 具有供给蚀刻液的蚀刻液供给泵的蚀刻液主储存容器的向下式玻璃薄 型化系统。
另外，本发明提供一种其特征为，具有用于回收在所述蚀刻室使 用过的蚀刻液的蚀刻液回收容器的向下式玻璃薄型化系统。由此能够 提高蚀刻液的回收效率。
另外，本发明提供一种其特征为，所述蚀刻液供给单元具有至少 一个过滤部，该过滤部对在所述蚀刻室内使用过的蚀刻液进行过滤的 向下式玻璃薄型化系统。由此，能够消除含在蚀刻液中的淤渣等污物， 提高蚀刻工序的效率。
另外，本发明提供一种其特征为，具有对供向所述蚀刻室的蚀刻 液进行过滤的第 一过滤器，所述蚀刻液回收容器还具有对从所述蚀刻室 回收的蚀刻液进行过滤的第二过滤器的向下式玻璃薄型化系统。由此， 能够消除含在蚀刻液中的淤渣或者腐蚀物、蚀刻残留物，提高蚀刻的 效率。
另外，本发明提供一种其特征为，所述蚀刻液主储存容器还具有 第三过滤器，该第三过滤器过滤从所述蚀刻室回收的蚀刻液的淤渣的 向下式玻璃薄型化系统。由此能够提高蚀刻的效率。
另外，本发明提供一种其特征为，所述水洗模块还具有水洗用水 循环供给单元，该水洗用水循环供给单元采用了将在所述水洗模块中 使用的水洗用水供向所述水洗室，将使用过的水洗用水再次循环的结 构的向下式玻璃薄型化系统。由此，可以从蚀刻工序进4亍到基板的清 洗工序，因此能够提高薄型化工序的效率。
另外，本发明提供一种其特征为，所述水洗用水循环供给单元具 有通过水洗用水供给泵供给水洗用水的水洗用水主储存容器的向下式 玻璃薄型化系统。
另外，本发明可提供一种其特征为，还具有用于回收在所述水洗 室使用过的水洗用水的水洗用水回收容器的向下式玻璃薄型化系统。
10另外，本发明提供一种其特征为，所述水洗用水循环供给单元具 有至少 一个过滤器，该过滤器对清洗了所述基板的水洗用水进行过滤 的向下式玻璃薄型化系统。由此，能够通过水洗用水的过滤获得有效 的水洗效果。
另外，本发明提供一种其特征为，所述水洗用水主储存容器还具
有第四过滤器，该第四过滤器对供向所述水洗室的水洗用水进行过滤； 所述水洗用水回收容器还具有第五过滤器，该第五过滤器对从所述水 洗室回收的水洗用水进行过滤的向下式玻璃薄型化系统。
另外，本发明提供一种其特征为，将所述水洗模块设置至少一个 的向下式玻璃薄型化系统。由此，能够确保连续工序的效率，并能够 提供制造方式上的便利性和在大量生产时工序上的经济性。
另外，本发明提供一种其特征为，将所述蚀刻模块设置至少一个 的向下式玻璃薄型化系统。
另外，本发明提供一种其特征为，基板的出入口形成在同一个位 置的向下式玻璃薄型化系统。
另外，本发明提供一种其特征为，所述基板的出入口形成在不同 的位置的向下式玻璃薄型化系统。
另外，本发明提供一种其特征为，在所述水洗模块和所述蚀刻模 块相连接的结构中，在所述水洗模块形成基板的出入口的向下式玻璃 薄型化系统。
另外，本发明提供一种其特征为，在所述至少一个蚀刻模块的前 侧或者后侧连接有水洗模块时，所述基板的投入口形成在所述前头的 水洗模块，所述基板的排出口形成在蚀刻操作结束之后基板被转移的 水洗模块的向下式玻璃薄型化系统。
另外，本发明提供一种其特征为，还具有淋洗或者干燥模块的向 下式玻璃薄型化系统。由此实现工序的完善。
以下针对本发明的结构和作用，参照附图进行说明。 在图1中，本发明的向下式玻璃薄型化装置的要点在于，在将玻璃 或者液晶面板(以下称作"基板")20垂直竖立的状态下，在使蚀刻液 从基板上部沿着基板表面自由落下的同时进行蚀刻，实现薄型化。另外，具有蚀刻基板的蚀刻室10，在该蚀刻室10的内部设置有用于垂直竖立 基板的固定部30。
该固定部30是以可垂直竖立基板的结构形成的，左右夹住基板的结 构或者夹持(Clamp)结构等，只要是可夹持基板而竖立并固定的结构 物，就可以变形为各种结构。在优选的本实施例中，固定部30是可把基 板从上部向下部插入而固定的夹具。该夹具具有可插入并固定至少一张 基板的结构，其下部以基板固定在蚀刻室内部的状态可被装载或者卸载 的方式与移动单元50相连接。为了在蚀刻室与后述的一个或者多个水洗 室连接的情况下在各个腔室之间能够搬送该基板，移动单元50优选地具 有搬送轨道并可通过同步带移动。但并不仅限定于此，通过个别搬送辊 子、橡胶带等各种方法来实现驱动方式也可。当然，优选地形成可全面 调节蚀刻液的供给、通过移动单元来进行的基板的移动以及蚀刻速度的 控制部(未图示)。
本发明在蚀刻室上部具有用于从基板垂直上部供给蚀刻液的喷嘴部
亂
针对喷嘴部IOO的结构和作用，参照图2进行说明。如图2(a) 所示，喷嘴部100包括容纳部IIO，用于容納从外部蚀刻液供给管P 供给的蚀刻液；导向部120，引导容纳于该容纳部110的蚀刻液在溢 出容纳部之后流向基板的垂直上部方向。
就导向部120而言，如图所示，优选地，从与容纳部连接的部分 一直到基板的部分相对于基板方向倾斜地形成，以使蚀刻液沿着容纳 部的外周面移动的同时自然地到达基板上部。
导向部基本上采用没有间隙S的结构，能够使蚀刻液从基板的正 上方流下来。另外，作为其他实例，导向部120在中心部形成间隙S， 而基板上部的一定部分被夹在该间隙S的结构也可。如此，若基板的 上部被夹在导向部的间隙，能够将蚀刻液均匀地供给到基板两侧表面 上，提高蚀刻的效率。
尤其是，优选地，在所述容纳部的上部面上形成有具有一定部分 开口形状的蚀刻液通过狭缝130，使溢出容纳部的蚀刻液流向外部。
另外，蚀刻液通过狭缝130优选地在容纳部IIO的长尺寸方向上 形成。在该蚀刻液通过狭缝130的外侧方向上，优选地形成多个导向 槽140以将蚀刻液均匀地引向导向部120。该导向槽140可以阴刻的方式形成有引导槽，以使蚀刻液流向与通过狭缝130垂直相交的方向。 由此，蚀刻液自然地沿着容纳部的主体部的屈曲形状引向导向部。
如图2(b)所示，在其他实施例中，将通过狭缝130和蚀刻液导 向槽140形成一体，在与容纳部的长尺寸方向相垂直的方向形成通过 狭缝之后，在通过狭缝130的两端形成导向槽140也可。
为了防止由于从供给蚀刻液的管P流入的蚀刻液的急速增加而使 蚀刻液从通过狭缝急速流出的现象，优选地，在容纳部110的内部设 置緩沖隔壁150。优选地，緩冲隔壁150配置于容纳部内部，具有形 成有蚀刻液緩冲通孔151的薄板形状。由于存在该传冲隔壁150,能 够防止容纳部的蚀刻液急速上升，能够调节蚀刻液的供给速度和流量， 并能够引导蚀刻液均匀流动。
如图2(c) ~ (e)所示，容纳部110可形成为各种形状。即，只 要是可均匀地供给蚀刻液的结构，剖面为椭圆形(c)、剖面为圆形(e) 或者上部具有一定的倾斜的形状(d )等能够使蚀刻液顺畅流动并使容 纳部的外周面呈现为曲面的结构，就均可采用。
另外，如图3所示，优选地，緩冲隔壁150形成为薄板形状，同 时形成有多个蚀刻液緩冲通孔151，由此能够调节蚀刻液的上升速度。 尤其是，緩冲通孔151只要是相当于緩冲隔壁厚度的贯通孔即可，此 外，这些通孔的形状采用如图3 (b)所示的圆筒形也可，优选地采用 如图3(c)所示的倒立圓锥台形来能更有效地控制蚀刻液的上升速度。 緩冲通孔并不限定于此，根据需要可以采用四边形、菱形、椭圆形等 各种剖面形状。
所供给的蚀刻液基本上可使用氩氟酸类、混合酸类或者非氢氟酸 类等各种蚀刻液。尤其是，通常作为玻璃蚀刻液使用的蚀刻液，均可 适用于本装置。即，含有氢氟酸的蚀刻液系列的反应可由下式说明。 基本上是，玻璃与氢氟酸中的氟结合，生成淤渣(SiF4)和水，同时 对玻璃进行薄型化这一原理。
aHF + bSiF4—cSiF4 + dH20
从而，在适用蚀刻液的一例中，作为氲氟酸类的蚀刻液使用HF, 其中，可以混入水、微量的添加剂以及表面活性剂而使用。
作为混合酸类的蚀刻液，基本上可以使用HF,其中，可以混入硝 酸(HN03)、硫酸(H2S04)而使用，也可以添加添加剂。
13作为非氢氟酸类的蚀刻液，基本上使用氟化铵(NH4F ),酸性氟 化氨(NH4F. HF)等氟化铵盐，其中添加硫酸或者表面活性剂而使 用也可。
包括以上结构的蚀刻室构成具有蚀刻液供给储存容器以及多个过 滤器的向下式玻璃薄型化系统，并通过与对蚀刻前后的基板进行水洗 的水洗模块相结合，力求实现工序的自动化和连续工序，能够提高工 序的效率。
如图4所示，可形成为如下结构使蚀刻室100与水洗室200相 结合，将水洗基板的工序和蚀刻工序连接作为一体化工序，具有蚀刻 液循环供给单元或者水洗循环供给单元(以下称作"蚀刻模块"及"水 洗模块")，以通过移动单元在水洗室和蚀刻室之间进行循环。尤其 是，作为投入基板的部分，在水洗室一侧面上形成出入口，通过移动 单元将基板装栽于水洗室200，在基本的水洗操作结束之后，通过移 动单元的驱动，经由在水洗室和蚀刻室的连接部分形成的通路部(未 图示)自动地装载于蚀刻室，在此进行蚀刻操作，之后，结束了蚀刻 操作的基板再次被送到水洗室，在经过水洗操作之后，从水洗室排出。 尤其是，为了操作的完善性，这样的往复移动工序当然可以反复进行。 这样的实施例可以进行多种变形，对此在后面进行说明。
对本发明的结构进行具体说明，本发明可具备具有如下结构的蚀 刻模块具有用于向蚀刻室供给蚀刻液的蚀刻液主储存容器300，通 过蚀刻液供给泵310将蚀刻液供向蚀刻室的上述喷嘴部，在对基板进 行蚀刻之后，再次将蚀刻液回收于蚀刻液主储存容器中。当然可以在 蚀刻液的供给以及回收工序中分别安装过滤器320、 330,进而，在蚀 刻液主储存容器内装载其他过滤器，除去淤渣，或者在外部单独设置 用于循环蚀刻液的循环泵340,并设置过滤器350以过滤淤渣，由此 可净化蚀刻液。由此，可不废弃在蚀刻工序中所使用的蚀刻液而继续 使用，因此能够确保制造工序的经济性，并能够实现精密基板的轻薄 化。
尤其是，可具有水洗室200，其与上述蚀刻室结合，基板通过移 动单元被搬送到其中。在该水洗室中，在将基板导入蚀刻室之前事先 清洗基板，通过连续的工序将基板搬送到蚀刻室中并进行蚀刻，接着， 将经过蚀刻操作的基板再次搬送到水洗室中，在清洗之后排出，因此通过简单的连续工序进行基板的薄型化工序，能够力求实现工序的简 单化。
水洗室200以如下方式构成水洗用水循环供给单元从水洗用水 主储存容器210通过水洗用水供给泵220向水洗室供给水洗用水，在 水洗之后，再次使水洗用水流入水洗用水主储存容器中，并可具有在 各个阶段过滤污物的过滤器230、 240。
参照图5对进一步细分的本发明的向下式玻璃薄型化系统的其他 实施例进行说明。当然，本发明的向下式玻璃薄型化系统基本上，具 有蚀刻室100和水洗室200，加之，具有通过用于供给蚀刻液和水洗 用水的蚀刻液主储存容器300和水洗用水主储存容器210来循环并供 给各种液体的结构。对此，还具有用于除去淤渣或者污物的多个过滤 器，或者还具有用于循环各种液体的泵，可变形为多种实施例。即， 对蚀刻液进行过滤使其可以使用的过滤部件在向下式薄型化系统中可 设置至少一个，为了连续工序的效率性，使用者当然可根据需要进行 调节。
举出其中一例，可具有用于向蚀刻室100供给蚀刻液的蚀刻液 供给泵310;用于对所供给的蚀刻液进行过滤的第一过滤器320;用于 在蚀刻操作之后回收蚀刻液的蚀刻液回收容器370;将蚀刻液从回收 容器移送到蚀刻液主储存容器的蚀刻液回收泵360;以及设置于该回 收路径上，用于对蚀刻液进行过滤的第二过滤器330。当然，可在蚀 刻液主储存容器的外部单独设置用于循环蚀刻液的泵340和第三过滤 器350，以再次过滤淤渣。这些过滤器根据需要可添加或者减少，可 与生产条件相适应地进行调整和变更。
在水洗室中，基本上具有用于供给水洗用水的水洗用水主储存容 器210和水洗用水供给泵220，还可具有用于过滤水洗用水的至少一 个过滤器。例如，过滤器的数量，可根据操作工序的速度和效率由使 用者来调节，作为其中一例，可具有除去水洗用水中污物的第四过滤 器230。在水洗操作结束之后，通过用于回收水洗用水的水洗用水回 收容器260、和用于回收水洗用水的水洗用水回收泵250来向水洗用 水主储存容器210中回收水洗用水。当然，在此情况下也最好具有其 他过滤器例如第五过滤器240,以过滤水洗用水。这些过滤器可根据 需要添加或者减少，可与生产条件相适应地进行调整和变更。
15使用图6针对本发明的向下式玻璃薄型化系统的各种变形例进行 说明。
即，是通过移动单元能够使多个基板进行往复移动的同时，反复 多次进行水洗和蚀刻工序的结构，作为这种结构有仅有水洗模块和 蚀刻模块构成的基本结构(a);设置两个水洗模块，设置蚀刻模块的 结构(b);蚀刻模块置于中间，在该蚀刻模块的前、后设置水洗模块 的结构(c);在中间设置两个蚀刻模块，在其两端设置水洗模块的结 构(d);以及对(d)的结构设置淋洗和干燥工序室的结构(e)等。
尤其是，为了工序的效率性，在上述(a)和(b)结构中，在水 洗模块侧设置基板的出入口，在反复进行蚀刻和水洗工序之后，在同 一方向排出基板。当然也可以在蚀刻模块侧形成排出口，但是当水洗 模块设置于前侧时，为了除去蚀刻后的蚀刻液，最好从前侧排出。
另外，如(c)以及(e)结构所示，在中间设置至少一个蚀刻模 块时，若考虑工序的效率性，则优选地将基板的投入口和排出口分别 形成在不同側。当然，与上述(a) 、 (b)的结构一样，此情况时也 可以将出入口设置在一侧。
在不同的变形例中，可使用移动单元进行往复循环工序，另外， 在蚀刻模块之后结合水洗模块的结构中，采用在蚀刻之后立即排出产 品的结构，优选地采用不进行往复循环而立即排出产品的连续工序结 构。
以上，举出具体的实施例来说明了本发明，但本发明并不仅限定 于这些具体例，在不脱离本发明范畴的范围内，当然可以进行各种变 形。从而，本发明的技术思想并不仅限定于具体实施例，而限定于权
利要求范围和与其等同的范围内。
权利要求
1.一种向下式玻璃薄型化装置，具有固定部，将至少一张基板垂直固定；喷嘴部，设置在所述基板的垂直上方，使蚀刻液沿着所述基板表面流下。
2. 根据权利要求1所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 所述喷嘴部在所述基板的垂直上部侧至少设置一个，以可调节喷嘴流量 的方式形成。
3. 根据权利要求2所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于，所述喷嘴部包括容纳部，容纳从外部注入的蚀刻液；导向部，将溢出所述容纳部的蚀刻液导向至所述基板的垂直上部方向。
4. 根据权利要求3所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 在所述容纳部的上部面形成有一定部分开口的蚀刻液通过狭缝，在所述 通过狭缝的外侧方向，形成有将蚀刻液均匀地引向所述导向部的多个导 向槽。
5. 根据权利要求3或4所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在 于，在所述容纳部的内部形成有用于防止所供给的蚀刻液的流量急速增 加的緩冲隔壁。
6. 根据权利要求5所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 所述緩沖隔壁由形成有多个蚀刻液緩沖通孔的薄板构件构成。
7. 根据权利要求3所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 所述导向部采用沿着垂直向下逐渐倾斜的结构，其末端以与所述基板的 上部面的垂直上部方向相对应的方式排列。
8. 根据权利要求7所述的向下式玻璃薄型化装置，其特征在于， 所述蚀刻液是选自氬氟酸类、混合酸类以^^非氢氟酸类的蚀刻液的任 意一种0
9. 一种向下式玻璃薄型化系统，其特征在于包括 水洗模块，具有对至少一张基板在垂直竖立的状态下进行清洗的水洗室；蚀刻模块，具有对通过所述基板水洗模块的基板进行蚀刻的蚀刻室，所述蚀刻室在所述基板的垂直上部侧至少设置一个，具有喷嘴 部，使蚀刻液从所述基板的垂直上部方向沿着所述基板的表面自由落 下；固定部，将至少一张基板垂直固定，具有移动单元，使所述固定部移动以实现所述水洗模块和蚀刻模 块的内部之间的往复移动。
10. 根据权利要求9所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在于，所述喷嘴部包括容纳部，容纳从外部注入的蚀刻液；导向部，将溢出所述容纳部的蚀刻液导向至所述基板的垂直上部方向。
11. 根据权利要求10所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，在所述容纳部的上部面形成有一定部分开口的蚀刻液通过狭缝，在 所述通过狭缝的外侧方向，形成有将蚀刻液均勻地引向所述导向部的多 个导向槽。
12. 根据权利要求11所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，在所述容纳部的内部形成有用于防止所供给的蚀刻液的流量急速增 加的緩沖隔壁。
13. 根据权利要求12所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，所述緩冲隔壁由形成有多个蚀刻液緩沖通孔的薄板构件构成。
14. 根据权利要求11所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，还具有蚀刻液循环供给单元，它包括将在所述蚀刻模块使用的蚀 刻液供向所述蚀刻室，使使用过的蚀刻液再次循环的结构。
15. 根据权利要求13所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在蚀刻液主储存i器。、、 、 、 、 、
16. 根据权利要求14所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，具有用于回收在所述蚀刻室使用过的蚀刻液的蚀刻液回收容器。
17. 根据权利要求13或14所述的向下式玻璃薄型化系统，其特 征在于，所述蚀刻液供给单元具有至少一个过滤部，该过滤部对在所 述蚀刻室内使用过的蚀刻液进行过滤。
18. 根据权利要求17所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在于，具有对供向所述蚀刻室的蚀刻液进行过滤的第 一过滤器， 所述蚀刻液回收容器还具有对从所述蚀刻室回收的蚀刻液进行过 滤的第二过滤器。
19. 根据权利要求18所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，所述蚀刻液主储存容器还具有第三过滤器，该第三过滤器过滤从 所述蚀刻室回收的蚀刻液的淤渣。
20. 根据权利要求13或18所述的向下式玻璃薄型化系统，其特 征在于，所述水洗模块还具有水洗用水循环供给单元，该水洗用水循 环供给单元采用了将在所述水洗模块中使用的水洗用水供向所述水洗 室，将使用过的水洗用水再次循环的结构。
21. 根据权利要求20所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，所述水洗用水循环供给单元具有通过水洗用水供给泵供给水洗用 水的水洗用水主储存容器。
22. 根据权利要求21所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，还具有用于回收在所述水洗室使用过的水洗用水的水洗用水回收 容器。
23. 根据权利要求22所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，所述水洗用水循环供给单元具有至少一个过滤器，该过滤器对清 洗了所述基板的水洗用水进行过滤。
24. 根据权利要求23所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，所述水洗用水主储存容器还具有第四过滤器，该第四过滤器对供 向所述水洗室的水洗用水进行过滤；所述水洗用水回收容器还具有第 五过滤器，该第五过滤器对从所述水洗室回收的水洗用水进行过滤。
25. 根据权利要求10所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，将所述水洗模块设置至少一个。
26. 根据权利要求25所述的向下式玻璃薄型化系统，其特征在 于，将所述蚀刻模块设置至少一个。
27. 根据权利要求25或26所述的向下式玻璃薄型化系统，其特 征在于，基板的出入口形成在同一个位置。
28. 根据权利要求25或26所述的向下式玻璃薄型化系统，其特 征在于，所述基板的出入口形成在不同的位置。
29. 根据权利要求25或26所述的向下式玻璃薄型化系统，其特 征在于，在所述水洗模块和所述蚀刻模块相连接的结构中，在所述水 洗模块形成基板的出入口 。
30. 根据权利要求25或26所述的向下式玻璃薄型化系统，其特 征在于，在所述至少一个蚀刻模块的前侧或者后侧连接有水洗模块时， 所述基板的投入口形成在所述前头的水洗模块，所述基板的排出口形 成在蚀刻操作结束之后基板被转移的水洗模块。
31. 根据权利要求25或26所述的向下式玻璃薄型化系统，其特 征在于，还具有淋洗或者干燥模块。
全文摘要
本发明提供一种向下式玻璃薄型化装置以及利用该装置的薄型化系统。该向下式玻璃薄型化装置具有固定部，将至少一张基板垂直固定；喷嘴部，设置在所述基板的垂直上方，使蚀刻液沿着所述基板表面流下。在此，所述喷嘴部在所述基板的垂直上部侧设置多个，另外，具有特有的容纳部、蚀刻液通过狭缝以及导向部，以使从喷嘴部供给的蚀刻液溢出流动的同时沿着基板表面进行蚀刻，而且为了防止蚀刻液过度流出而具有缓冲隔壁。
文档编号C03C15/00GK101555101SQ200810178449
公开日2009年10月14日 申请日期2008年11月26日 优先权日2008年4月10日
发明者崔讚圭 申请人:M.M.科技株式会社