一种新型超强超薄玻璃基片的成形系统及生产工艺的制作方法
【专利摘要】一种新型超强超薄玻璃基片的生产工艺，包括如下步骤：1)称取如下重量份数的原料：砂岩6.1～6.2份、硅砂1.0～1.06份、白云石0.8～0.82份、石灰石0.39～0.44份、纯碱1.35～1.59份、芒硝0.12～0.13份；2)将上述原料输送到熔窑内，在熔窑内将其熔化成优质玻璃液；3)将优质玻璃液流入锡槽内进行摊平、展薄、抛光成形；4)进入退火窑进行退火；5)把玻璃板切成厚度为0.4～1.2mm的玻璃片；6)用抛光装置把玻璃片进行抛光，抛光成厚度为0.3～1.1mm的玻璃片。本发明的方法能工业化制备出在TN-LCD、STN-LCD使用的0.55～1.1mm浮法超薄玻璃；制得的玻璃平整度好，透光率高，适用于液晶显示器、玻璃基板、手机触摸屏。
【专利说明】一种新型超强超薄玻璃基片的成形系统及生产工艺
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种玻璃的成形系统及生产工艺，尤其是涉及一种新型超强超薄玻璃基片的成形系统及生产工艺。
【背景技术】
[0002]一般把0.1~1.1mm厚度的玻璃称为超薄玻璃，按生产工艺方法分类，有浮法超薄玻璃、格法(平拉)超薄玻璃、下拉法超薄玻璃。按照化学成分的不同，超薄玻璃可分为含碱超薄玻璃和无碱超薄玻璃。含碱超薄玻璃指的是化学组成中含有碱金属氧化物的超薄玻璃，即钠钙硅玻璃或铝硅酸盐玻璃。无碱超薄玻璃通常是指硬质硼酸盐玻璃，其玻璃成分中含有B203，具有透光率高、光电性能好等特点。目前国内仪器仪表、钟表行业仍使用格法超薄玻璃，电子信息行业的中低档液晶显示器(TN-1XD、STN-1XD)普遍使用0.55~1.1mm浮法超薄玻璃，彩色液晶显示器(TFT-LCD)则必须使用硼硅酸盐超薄玻璃。液晶显示器所需超薄玻璃，需要在玻璃表面镀一层二氧化硅及氧化铟锡，称为ITO导电膜玻璃，是作为液晶显示器的透明电极材料。
[0003]国内外市场分析
[0004]目前国内能生产超薄玻璃的厂家有:洛玻集团龙门超薄浮法线、深圳南玻集团超薄浮法线、中国耀华超薄浮法线、浙玻集团超薄浮法线等。洛玻集团龙门超薄浮法线已生产出0.7mm超薄玻璃，这是我国第一条拥有自主知识产权的超薄浮法玻璃生产线，其产品实物质量达到国际同等产品质量标准，标志着我国超薄玻璃工艺技术达到了世界先进水平。
[0005]近年来，平板显示器技术飞速发展，对超薄玻璃需求量与日俱增，据有关资料分析，目前国内对0.7mm~1.1mm超薄玻璃年需求量约为5000万平方米，并以每年15%的速度递增。
[0006]国外生产超薄玻璃的公司有:美国康宁公司、英国皮尔金顿公司、日本旭硝子公司、日本电气硝子、板硝子公司等。长期以来，浮法超薄技术都被国外公司所控制，由于存在巨大市场需求，技术实行封锁，只卖产品不卖技术。随着世界平板显示技术的飞速发展，世界市场对超薄玻璃的需求巨大，据有关资料报道，目前国际市场对超薄玻璃的需求量以每年20%的速度递增。因此发明一种工业化生产在TN-1XD、STN-1XD使用的0.55~1.1mm浮法超薄玻璃是本发明的目的所在。
【发明内容】
[0007]本发明要解决的第一个技术问题是提供一种新型超强超薄玻璃的成形系统。
[0008]本发明要解决的第二个技术问题是提供一种新型超强超薄玻璃的生产工艺；通过该方法可以工业化制备出在TN-1XD、STN-1XD使用的0.55~1.1mm浮法超薄玻璃；制得的玻璃平整度好，透光率高，适用于液晶显示器、玻璃基板、手机触摸屏等。
[0009]为解决上述第一个技术问题，本发明一种新型超强超薄玻璃的成形系统，包括依次连接的熔窑、锡槽、退火窑、切裁机、切片机和抛光机。[0010]其中，所述熔窑用于混合料在其内熔化成优质均匀的玻璃液；所述锡槽用于玻璃液在其内成形玻璃板；所述退火窑用于玻璃板在其内退火消除应カ；所述切裁机用于将玻璃板切裁成各种规格的玻璃片；所述切片机用于将玻璃片再切片成0.4~1.2mm超薄玻璃片，所述抛光机用于将超薄玻璃片再抛光成0.3~1.1mm玻璃片。
[0011]为解决上述第二个技术问题，本发明采用如下的技术方案:
[0012]ー种新型超强超薄玻璃基片的制备方法，包括如下步骤:
[0013]I)原料的准备:
[0014]称取如下重量份数的原料:砂岩6.1~6.2份、娃砂1.0~1.06份、白云石0.8~0.82份、石灰石0.39~0.44份、纯碱1.35~1.59份、芒硝0.12~0.13份
[0015]2)熔融:将上述原料输送到熔窑内，在熔窑内将其熔化成优质玻璃液；
[0016]3)成形:将优质玻璃液流入锡槽内进行摊平、展薄、抛光成形；
[0017]4)退火:成型的玻璃板进入退火窑进行退火，消除由于温度差引起的暂时应力，制得玻璃板；
[0018]5)切片:用切片机把玻璃板切成厚度为0.4~1.2mm的玻璃片；
[0019]6)抛光:用抛光装置把玻璃片进行抛光，抛光成厚度为0.3~1.1mm的玻璃基片；
[0020]优选地，步骤5)的具体步骤如下:将玻璃板输送到切片机内，切片机进行切片时的有关參数为:切片最大规格为180*200mm，切割速度20~30mm/h，切割线速度400~600m/min，砂液配比1: 1.2~1.6，砂液温度22~26°C，砂液可用时间为75~85小时，砂液材料为碳化硅胶；
[0021]优选地,步骤6)抛光具体步骤如下:
[0022]A.测玻璃片厚度,放入游轮片中,游轮片比切片大I~3mm，倒大圆角；
[0023]B.将游轮片放入抛光盘上且布置好，空转5~20圏；
[0024]C.初磨和精磨:游轮片厚度比玻璃片厚度小0.03~0.06mm，研磨速度180~240转/分，线速度350~450转/分，研磨砂为中钢砂；
[0025]D.精抛:游轮片厚度比玻璃片厚度小0.02~0.04mm,抛光速度20~40转/分，线速度400~800转/分，抛光盘圈数为1500~2000圈，抛光粉为氧化铈。
[0026]本发明的有益效果如下:通过本发明的方法可以エ业化制备出在TN-1XD、STN-1XD使用的0.55~1.1mm浮法超薄玻璃；制得的玻璃平整度好，透光率高，适用于液晶显示器、玻璃基板、手机触摸屏等。
【专利附图】
【附图说明】
[0027]图1为本发明新型超强超薄玻璃的成形系统结构示意。
【具体实施方式】
[0028]实施例1
[0029]參见图1所示，ー种新型超强超薄玻璃的成形系统，包括依次连接的熔窑1、锡槽
2、退火窑3、切裁机4、切片机5和抛光机6。
[0030]其中，所述熔窑I用于混合料在其内熔化成优质均匀的玻璃液；所述锡槽2用于玻璃液在其内成形玻璃板；所述退火窑3用于玻璃板在其内退火消除应カ；所述切裁机4用于将玻璃板切裁成各种规格的玻璃片；所述切片机5用于将玻璃片再切片成0.4~1.2mm超薄玻璃片，所述抛光机6用于将超薄玻璃片再抛光成0.3~1.1mm玻璃片。
[0031]一种新型超强超薄玻璃基片的制备方法，包括如下步骤:
[0032]I)原料的准备:
[0033]称取如下重量份数的原料:砂岩6.1份、硅砂1.0份、白云石0.8份、石灰石0.39份、纯碱1.59份、芒硝0.12份； [0034]2)熔融:将上述原料输送到熔窑内，在熔窑内将其熔化成优质玻璃液；
[0035]3)成形:将优质玻璃液流入锡槽内进行摊平、展薄、抛光成形；
[0036]4)退火:成型的玻璃板进入退火窑进行退火，消除由于温度差引起的暂时应力，制得玻璃板；
[0037]5)切片:将玻璃板输送到切片机内，切片机进行切片时的有关参数为:玻璃板规格为180*200mm，切割速度30mm/h，切割线速度600m/min，砂液配比1: 1.2，砂液温度22°C，砂液可用时间为75小时，砂液材料为碳化硅胶；把玻璃板切成厚度为1.2mm的玻璃片;
[0038]6)抛光:
[0039]A.测玻璃片厚度，放入游轮片中，游轮片厚度比切片大1mm，倒大圆角；
[0040]B.将游轮片放入抛光盘上且布置好，空转5圈；
[0041]C.初磨和精磨:游轮片厚度比玻璃片厚度小0.03mm，研磨速度240转/分，线速度450转/分，研磨砂为中钢砂；磨出厚度为1.14mm玻璃片；
[0042]D.精抛:游轮片厚度比玻璃片厚度小0.02mm，抛光速度40转/分，线速度800转/分，抛光盘圈数为1500圈，抛光粉为氧化铈，抛光成厚度为1.1mm的玻璃片。
[0043]实施例2
[0044]一种新型超强超薄玻璃基片的制备方法，包括如下步骤:
[0045]I)原料的准备:
[0046]称取如下重量份数的原料:砂岩6.2份、硅砂1.06份、白云石0.82份、石灰石0.44份、纯碱1.35份、芒硝0.13份；
[0047]2)熔融:将上述原料输送到熔窑内，在熔窑内将其熔化成优质玻璃液；
[0048]3)成形:将优质玻璃液流入锡槽内进行摊平、展薄、抛光成形；
[0049]4)退火:成型的玻璃板进入退火窑进行退火，消除由于温度差引起的暂时应力，制得玻璃板；
[0050]5)切片:将玻璃板输送到切片机内，切片机进行切片时的有关参数为:切片最大规格为180*200mm，切割速度20mm/h，切割线速度400m/min，砂液配比1: 1.6，砂液温度26°C，砂液可用时间为85小时，砂液材料为碳化硅胶；把玻璃板切成厚度为0.4mm的玻璃片;
[0051]6)抛光:
[0052]A.测玻璃片厚度,放入游轮片中,游轮片比切片大3mm，倒大圆角；
[0053]B.将游轮片放入抛光盘上且布置好，空转20圈；
[0054]C.初磨和精磨:游轮片厚度比玻璃片厚度小0.06mm，研磨速度180转/分，线速度350转/分，研磨砂为中钢砂；磨出厚度为0.35mm玻璃片；[0055]D.精抛:游轮片厚度比玻璃片厚度小0.04mm，抛光速度20转/分，线速度400转/分，抛光盘圈数为2000圈，抛光粉为氧化铈，抛光成厚度为0.3mm的玻璃片。
[0056]实施例3
[0057]一种新型超强超薄玻璃的制备方法，包括如下步骤:
[0058]I)原料的准备:
[0059]称取如下重量份数的原料:砂岩6.15份、硅砂1.03份、白云石0.81份、石灰石
0.415份、纯碱1.47份、芒硝0.125份；
[0060]2)熔融:将上述原料输送到熔窑内，在熔窑内将其熔化成优质玻璃液；
[0061]3)成形:将优质玻璃液流入锡槽内进行摊平、展薄、抛光成形；
[0062]4)退火:成型的玻璃板进入退火窑进行退火，消除由于温度差引起的暂时应力，制得玻璃板；
[0063]5)切片:将玻璃板放在切片机内，切片机进行切片时的有关参数为:切片规格为180*200mm，切割速度25mm/h，切割线速度500m/min，砂液配比1: 1.4，砂液温度24°C，砂液可用时间为80小时，砂液材料为碳化硅胶；把玻璃板切成厚度为0.8mm的玻璃片；
[0064]6)抛光:
[0065]A.测玻璃片厚度,放入游轮片中,游轮片比切片大2mm，倒大圆角；
[0066]B.将游轮片放入抛光盘上且布置`好，空转10圈；
[0067]C.初磨和精磨:游轮片厚度比玻璃片的厚度小0.04mm，研磨速度200转/分，线速度400转/分，研磨砂为中钢砂；磨出0.74mm玻璃片；
[0068]D.精抛:游轮片厚度比玻璃片的厚度小0.03mm，抛光速度30转/分，线速度600转/分，抛光盘圈数为1700圈，抛光粉为氧化铈，抛光成厚度为0.7mm的玻璃片。
[0069]本文中所采用的描述方位的词语“上”、“下”、“左”、“右”等均是为了说明的方便基于附图中图面所示的方位而言的，在实际装置中这些方位可能由于装置的摆放方式而有所不同。
[0070]显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无法对所有的实施方式予以例举。凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。
【权利要求】
1.ー种新型超强超薄玻璃基片的生产工艺，其特征在于，包括如下步骤: 1)原料的准备: 称取如下重量份数的原料:砂岩6.1~6.2份、娃砂1.0~1.06份、白云石0.8~0.82份、石灰石0.39~0.44份、纯喊1.35~1.59份、芒硝0.12~0.13份 2)熔融:将上述原料输送到熔窑内，在熔窑内将其熔化成优质玻璃液； 3)成形:将优质玻璃液流入锡槽内进行摊平、展薄、抛光成形； 4)退火:成型的玻璃板进入退火窑进行退火，消除由于温度差引起的暂时应力，制得玻璃板； 5)切片:用切片机把玻璃板切成厚度为0.4~1.2mm的玻璃片； 6)抛光:用抛光装置把玻璃片进行抛光，抛光成厚度为0.3~1.1mm的电子玻璃基片。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤5)的具体步骤如下:将玻璃板放在切片机内，切片机进行切片时的有关參数为:切片最大规格为180*200mm，切割速度20~30mm/h,切割线速度400~600m/min,砂液配比1: 1.2~1.6,砂液温度22~26°C,砂液可用时间为75~85小时，砂液材料为碳化硅胶。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤6)抛光具体步骤如下: A.测玻璃片厚度，放入油轮片中，游轮片比切片大1~3mm，倒大圆角； B.将油轮片放入抛光盘上且布置好，空转5~20圏； C.初磨和精磨:游轮片厚度比玻璃片厚度小0.03~0.06mm，研磨速度180~240转/分，线速度350~450转/分，研磨砂为中钢砂； D.精抛:游轮片厚度比玻璃片厚度小0.02~0.04mm，抛光速度20~40转/分，线速度400~800转/分，抛光盘圈数为1500~2000圈，抛光粉为氧化铈。
4.ー种新型超强超薄玻璃基片成形系统，其特征在于:包括依次连接的熔窑、锡槽、退火窑、切裁机、切片机和抛光机； 其中，所述熔窑用于混合料在其内熔化成优质均匀的玻璃液；所述锡槽用于玻璃液在其内成形玻璃板；所述退火窑用于玻璃板在其内退火消除应カ；所述切裁机用于将玻璃板切裁成各种规格的玻璃片；所述切片机用于将玻璃片再切片成0.4~1.2mm超薄玻璃片，所述抛光机用于将超薄玻璃片再抛光成0.3~1.1mm玻璃片。
【文档编号】C03B25/00GK103570244SQ201210277841
【公开日】2014年2月12日 申请日期:2012年8月7日 优先权日:2012年8月7日
【发明者】林小乐, 李彦辉 申请人:广东富睿实业集团有限公司