专利名称：柔性玻璃基板的制造方法以及柔性玻璃基板的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种能够约100%阻挡气体或水蒸气透过，而且柔软性良好的柔性玻 璃基板的制造方法以及柔性玻璃基板。
背景技术：
近年来，在液晶显示元件或者有机EL显示元件等平板显示器领域中，为了迎合对 提高耐破损性、轻量化、薄型化的要求，持续开展着将由透明高分子材料形成的塑料薄膜来 替代现有的玻璃基板的研究。作为这种薄膜的例子，包括专利文献1中记载的在双折射率 较小的聚醚砜薄膜上形成铟氧化物膜的显示器用透明导电性薄膜。然而，塑料薄膜与玻璃相比，因受热或者吸湿而引起的大小变化较大，而且容易使 气体或者水蒸气透过。鉴于此，本发明的发明人发明出将能够约100%阻挡气体或者水蒸气透过的玻璃 基板粘接于薄膜上的玻璃薄膜基板(参照非专利文献1)。该玻璃薄膜基板通过粘接玻璃与 薄膜，并且仅对玻璃实施蚀刻技术，使其厚度减小至0. 15mm而成为薄板，据此实现了对气 体或者水蒸气的阻挡效果较高，而且具有良好的柔软性、迄今为止没有的弯曲性的玻璃基 板。然而，诸如液晶显示元件或者有机EL显示元件等平板显示器、或者电子纸等的发 展更趋于薄型化，而本发明的发明人也进一步推进了记载于所述非专利文献1中的玻璃薄 膜基板的薄型化的研究。专利文献1 特开昭59-158015公报非专利文献1 “弯曲玻璃-EL/电子纸用部件_”，“在线”，2009年1月，株式会社 微龙技术研究所，“平成21年10月7日检索”，网络<URL :http://www. microtc. com/randd/ index. html>
发明内容
技术问题本发明是为了改进上述的玻璃薄膜基板而提出的，其目的在于提供一种相比现有 的基板，能够突破性地实现薄型化，并且能够约100%阻挡气体或者水蒸气透过，同时富有 可挠性，能够自由地大幅弯曲的柔性玻璃基板的制造方法以及柔性玻璃基板。技术方案为了实现上述目的，本发明是玻璃基板粘接在薄膜基材上的柔性玻璃基板的制造 方法，特征在于，包括以下步骤在玻璃基板的一侧表面上暂时粘接支撑体；对于该玻璃基 板的另一侧表面进行蚀刻处理，以使该玻璃基板薄型化；在经过该蚀刻处理的另一侧表面 上粘接薄膜基材；剥离暂时粘接在玻璃基板的一侧表面上的支撑体。并且，本发明是玻璃基板粘接在薄膜基材上的柔性玻璃基板的制造方法，特征在 于，包括以下步骤对于玻璃基板的一侧表面进行成膜处理，然后在该一侧表面上暂时粘接支撑体；对于该玻璃基板的另一侧表面进行蚀刻处理，以使该玻璃基板薄型化；在经过该 蚀刻处理的另一侧表面上粘接薄膜基材；剥离暂时粘接在玻璃基板的一侧表面上的支撑 体。并且，本发明是玻璃基板粘接在薄膜基材上的柔性玻璃基板的制造方法，特征在 于，包括以下步骤对于玻璃基板的一侧表面进行成膜处理，然后在该一侧表面上暂时粘接 支撑体；对于该玻璃基板的另一侧表面通过蚀刻处理来进行薄型化，使该玻璃基板变薄至 2 30 μ m ；在经过该蚀刻处理的另一侧表面上粘接薄膜基材；剥离暂时粘接在玻璃基板的 一侧表面上的支撑体。并且，根据本发明的柔性玻璃基板的特征在于，通过在玻璃基板的一侧表面上暂 时粘接支撑体；对于该玻璃基板的另一侧表面进行蚀刻处理，以使该玻璃基板薄型化；在 经过该蚀刻处理后的另一侧表面上粘接薄膜基材；剥离暂时粘接在玻璃基板的一侧表面上 的支撑体而成。并且，根据本发明的柔性玻璃基板的特征在于，通过对于玻璃基板的一侧表面进 行成膜处理，然后在该一侧表面上暂时粘接支撑体；对于该玻璃基板的另一侧表面进行蚀 刻处理，以使该玻璃基板薄型化；在经过该蚀刻处理后的另一侧表面上粘接薄膜基材；剥 离暂时粘接在玻璃基板的一侧表面上的支撑体而成。并且，根据本发明的柔性玻璃基板的特征在于，通过对于玻璃基板的一侧表面进 行成膜处理，然后在该一侧表面上暂时粘接支撑体；对于该玻璃基板的另一侧表面通过蚀 刻处理来进行薄型化，使该玻璃基板变薄至2 30 μ m ；在经过该蚀刻处理的另一侧表面上 粘接薄膜基材；剥离暂时粘接在玻璃基板的一侧表面上的支撑体而成。有益效果对于本发明而言，在玻璃基板的一侧表面上暂时粘接支撑体，并对该玻璃基板的 另一侧表面进行蚀刻处理而使该玻璃基板薄型化，而且在经过该蚀刻处理之后的另一侧表 面上粘接薄膜基材，并剥离暂时粘接在玻璃基板的一侧表面上的支撑体。据此，本发明的柔 性玻璃基板能够约100%阻挡气体或者水蒸气透过，同时相比于现有的基板，能够突破性地 实现薄型化、提高弯曲特性。
图1为用于说明本发明的柔性玻璃基板的制造方法的示意图。主要符号说明1为玻璃基板，2为粘合剂，3为支撑体，4为粘合剂，5为薄膜基材， 10为柔性玻璃基板，P为图案。
具体实施例方式以下，参照附图来详细说明用于实施本发明的优选实施例。图1为用于说明本发 明的柔性玻璃基板的制造方法的示意图。另外，在图1中，(f)中示出的玻璃基板是经过蚀 刻去除而变薄后的基板，其虽然与(a)中示出的玻璃基板相比在厚度上不同，但是由于仅 在厚度上不同，因此使用相同的符号。如图1(f)所示，本发明的柔性玻璃基板10通过在形成有图案P的超薄的玻璃基 板1上采用粘合剂2来粘接薄膜基材5而成。
本发明的柔性玻璃基板10可以用于制造液晶显示器、有机EL显示器、等离子显示 器、电子纸等薄型显示器等。作为在玻璃基板1上形成图案P的方法，可以适用现有的各种方法。例如，作为这 种方法包括将铟锡复合氧化物(ITO)通过诸如真空蒸镀法或者溅射法等干式镀膜工艺来 制模的方法。对于本发明中所采用的薄膜基材5的材料没有特别限定。例如，可以采用聚碳酸 酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthalate)、聚醚砜、聚 酰亚胺、环氧树脂、酚醛树脂、三聚氰胺甲醛树脂、聚氨酯、聚脲、聚乙烯、聚丙烯、尼龙树脂、 聚氯乙烯、丙烯酸酯树脂、聚苯乙烯、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯树脂、丙烯腈-苯乙烯树脂、
聚偏二氯乙烯等。并且，对于本发明所使用的薄膜基材5的厚度没有特别限定。为了提高柔软性， 厚度优选为500 μ m以下；为了确保强度，优选为Iym以上；并且从操作容易性考虑，优选 25 μ m以上。接着，参照图1来详细说明柔性玻璃基板10的制造方法。首先，如图1(a)所示，准备玻璃基板1。虽然对该玻璃基板1的厚度没有特别限 定，但是考虑到加工性，优选厚度为0. 2 0. 7mm的玻璃基板。对于玻璃基板1的大小来说， 例如基板厚度为0. 2mm时可以使用大小为300mmX 300mm、400mmX400mm的基板，基板厚度 为0.7mm时可以使用大小为ImX Im的基板。对于其加工前的玻璃基板1的大小，如果考虑 操作性，则可以根据与基板厚度的关系来进行适当选择。接着，在该玻璃基板1的一侧表面(在图1(b)中为上表面)上，通过化学气相沉 积(CVD :chemical vapor d印osition)、溅镀、蒸镀、电镀等工艺形成薄膜之后，采用光刻工 艺或者印刷工艺来形成图案P。本发明中，由于可以直接在基板厚度较厚的玻璃基板1上进 行图案加工，因此可以实现基板尺寸的大型化。并且，形成图案时，需要在150° 350°高 温下进行热压。这对于塑料薄膜来说，在耐热性上存在问题。但是本发明中，由于在粘接薄 膜基材5之前对玻璃基板1进行图案加工，因此在耐热性方面不存在问题。接着，如图1(c)所示，玻璃基板1的形成有图案P的表面上，采用粘合剂2来暂时 粘接支撑体3。支撑体3可以适用玻璃板或者树脂板，但是如果具有一定程度的弹性，则也 可以使用薄膜材料。并且，粘合剂2涂布在玻璃基板1的周缘，以在后续步骤中容易剥离支 撑体3。该粘合剂2起到在蚀刻工艺中防止蚀刻液进入到玻璃基板1与支撑体3之间的功 能，因此选择具备耐酸性的物质。其次，如图1(d)所示，对于玻璃基板1的另一侧表面(在图1(d)中为下表面)，采 用氢氟酸等蚀刻液并通过蚀刻去除而进行薄型化加工。本发明中，经过蚀刻去除，使玻璃基 板1的基板厚度达到2 30 μ m。本发明中，由于能够将玻璃基板1支撑在支撑体3的状态 下，进行蚀刻加工，因此，与记载在上述非专利文献1的玻璃薄膜基材相比，能够突破性地 实现薄型化。如果根据所述蚀刻加工，将玻璃基板1去除至期望的厚度，则如图1(e)所示，接着 在玻璃基板1的另一侧表面(图1(e)中为下表面)上，通过粘合剂4来粘接薄膜基材5。 粘合剂4采用耐热性的丙烯酸类粘合剂。然后，如图1(f)所示，从玻璃基板1剥离暂时粘接在玻璃基板1的一侧表面上支撑体3。据此，制造出本发明的柔性玻璃基板10。可以适用不经过加热软化的光分解、用刀 片进行剥离等方法。如上述说明，本发明的柔性玻璃基板通过以下步骤构成。在玻璃基板的一侧表面 进行成膜处理，在该一侧表面上暂时粘接支撑体，对玻璃基板的另一侧表面进行蚀刻处理 而使该玻璃基板薄型化，在经过该蚀刻处理的另一侧表面上粘接薄膜基材，剥离暂时粘接 在玻璃基板的一侧表面上的支撑体。据此，本发明的柔性玻璃基板能够约100%阻挡气体或 者水蒸气透过，同时相比于现有的基板，能够突破性地实现薄型化、提高弯曲特性。即，不降 低薄膜所具有的可挠性，而达到钝化效果。另外，本发明的柔性玻璃基板不仅能够适用于平板显示器或者电子纸等领域，而 且能够在电子、电气、电池、光学部件等领域中作为薄膜的替代品广为适应。并且，在上述说 明中，虽然仅对于玻璃基板上形成有图案的实施例进行了说明，但是本发明的柔性玻璃基 板还可适用于在玻璃基板上仅实施成膜处理的形态或者对于任何表面不进行任何加工处 理的形态。
权利要求
1.一种柔性玻璃基板的制造方法，该方法用于制造玻璃基板粘接在薄膜基材上的柔性 玻璃基板，其特征在于包括以下步骤在玻璃基板的一侧表面上暂时粘接支撑体；对于该玻璃基板的另一侧表面进行蚀刻处理，以使该玻璃基板薄型化； 在经过该蚀刻处理后的另一侧表面上粘接薄膜基材； 剥离暂时粘接在玻璃基板的一侧表面上的支撑体。
2.一种柔性玻璃基板的制造方法，该方法用于制造玻璃基板粘接在薄膜基材上的柔性 玻璃基板，其特征在于包括以下步骤对于玻璃基板的一侧表面进行成膜处理，然后在该一侧表面上暂时粘接支撑体； 对于该玻璃基板的另一侧表面进行蚀刻处理，以使该玻璃基板薄型化； 在经过该蚀刻处理后的另一侧表面上粘接薄膜基材； 剥离暂时粘接在玻璃基板的一侧表面上的支撑体。
3.—种柔性玻璃基板的制造方法，该方法用于制造玻璃基板粘接在薄膜基材上的柔性 玻璃基板，其特征在于包括以下步骤对于玻璃基板的一侧表面进行成膜处理，然后在该一侧表面上暂时粘接支撑体； 对于该玻璃基板的另一侧表面通过蚀刻处理来进行薄型化，使该玻璃基板变薄至2 30ym ；在经过该蚀刻处理后的另一侧表面上粘接薄膜基材； 剥离暂时粘接在玻璃基板的一侧表面上的支撑体。
4.一种柔性玻璃基板的制造方法，其特征在于该柔性玻璃基板通过在玻璃基板的一侧 表面上暂时粘接支撑体；对于该玻璃基板的另一侧表面进行蚀刻处理，以使该玻璃基板薄 型化；在经过该蚀刻处理后的另一侧表面上粘接薄膜基材；剥离暂时粘接在玻璃基板的一 侧表面上的支撑体而成。
5.一种柔性玻璃基板，其特征在于通过对于玻璃基板的一侧表面进行成膜处理，然后 在该一侧表面上暂时粘接支撑体；对于该玻璃基板的另一侧表面进行蚀刻处理，以使该玻 璃基板薄型化；在经过该蚀刻处理后的另一侧表面上粘接薄膜基材；剥离暂时粘接在玻璃 基板的一侧表面上的支撑体而成。
6.一种柔性玻璃基板，其特征在于通过对于玻璃基板的一侧表面进行成膜处理，然后 在该一侧表面上暂时粘接支撑体；对于该玻璃基板的另一侧表面通过蚀刻处理来进行薄型 化，使该玻璃基板变薄至2 30 μ m ；在经过该蚀刻处理后的另一侧表面上粘接薄膜基材； 剥离暂时粘接在玻璃基板的一侧表面上的支撑体而成。
全文摘要
本发明提供能够约100％阻挡气体或水蒸气透过，而且柔软性良好的一种柔性玻璃基板的制造方法以及柔性玻璃基板。在玻璃基板(1)的一侧表面上形成图案P，然后在该一侧表面上暂时粘接支撑体(3)；对于该玻璃基板(1)的另一侧表面进行蚀刻处理，以使该玻璃基板(1)薄型化；在经过该蚀刻处理后的另一侧表面上粘接薄膜基材(5)；剥离暂时粘接在玻璃基板(1)的一侧表面上的支撑体(3)。
文档编号C03C17/32GK102131743SQ20098011684
公开日2011年7月20日 申请日期2009年10月9日 优先权日2009年10月9日
发明者吉川実 申请人:株式会社微龙技术研究所