专利名称：高铝高始熔温度陶瓷配釉用熔块的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种高铝高始熔温度陶瓷配釉用熔块，是具有高铝含量的陶瓷用熔
块，是一种烧成温度较高的陶瓷配釉所用的熔剂料，具体是涉及具有高铝含量、高始熔温 度、适用于烧成温度较高的陶瓷配釉一次烧成，提高釉面质量。
二背景技术：
熔块是将原料预先熔融或成为玻璃体，是陶瓷配釉常用的一种熔剂原料。预先熔
融制成熔剂时，可从釉原料中排除大部分气体，因而可减少陶瓷釉面的气泡、针孔的生成。
这对日用陶瓷、卫生陶瓷等烧成温度较高、烧成周期较短的陶瓷制品意义尤其重大。 熔块目前被广泛的用于快速烧成的精陶配釉中。由于它的低始熔温度和大的烧成
温度范围，使得熔块在快速烧成的建筑陶瓷制品配釉中具有不可取代的作用。而烧成温度
较高的瓷器，一直以生料配釉为主，即使有用熔块配釉的情况，其用量也很小(熔块用量在
配釉中< 30%。)。 经检索有关文献中国专利CN1401603公开了一种奇冰石纳米熔块及纳米日用陶 瓷，为纳米技术在日用陶瓷领域的应用。方法是将纳米原料加入熔块配料中，使熔块具有纳 米效果。 中国专利CN1472155 —种无铅熔块釉，属于一种陶瓷用熔块釉技术领域。其是由 以下重量配比组成的原料熔制而成石英15 30%，长石30 50%，硼砂7 15%，硼酸 5 15%，碳酸钡3 6%，钟乳石6 12%，氧化锌3 6%，碳酸锶2 5%，碳酸锂2 4%，熟滑石2 4%，氢氧化铝2 8%。实现铅熔出量为零，能充分满足人们对健康、高品 质陶瓷的需要。 中国专利CN1594165本发明涉及一种陶瓷卫生洁具熔块釉，它由熔块配以生料组
成，熔块在配釉的百分比占80——95%，生料品种少于3种，生料含量小于20%，本发明提
供的陶瓷卫生洁具熔块釉，使卫生陶瓷洁具用料实现专业化、标准化，提高釉面质量，提高
釉面亮度、减少针孔、拓宽烧成温度，使陶瓷卫生洁具产品的整体品质提高。 通过检索有关文献，未见现有专利与本发明的技术内容相同或相近似的文献报导。
三
发明内容
本发明的目的是针对现有技术的不足，提高瓷器的釉面质量，扩大瓷器的烧成范
围，使瓷器配釉更加便利，最终实现瓷器配釉的专业化而提供的一种--------高铝高始熔
温度陶瓷配釉用熔块。 本发明的任务是这样来完成的 其熔块的组成范围为(按重量百分比)Si02 6 5 75%、A120310 14%、B203 6 12%、 CaO 2 6%、 Na20 2 6%、 ZnO 2 5%、 MgO 2 5%、 Zr02 5 10% ;其熔土央在 瓷器配釉中用量范围为40 95%。
本发明的特点 (1)组成中具有高的含铝量(A1203 :10 14% ); (2)熔块本身具有高的始熔温度(1180 1220°C ); [OOM] (3)可作为瓷器配釉的主要原料(配釉用量> 30% )。
本发明的特性在于 1、产品的含铝量较高(A1203 :10 14% )，目前熔块的含铝量一般不超过8% (约 0.2克分子当量)。 2、产品具有较高的熔融温度。经测定本发明生产的熔块，縮釉温度为1000 IIO(TC ;烧结温度为1100 1150°C ;始融温度为1180 1220°C。 3、可作为瓷器配釉的主要原料(配釉用量>30%)。目前瓷器配釉也有使用熔块 的先例，但现有熔块不能作为主要配料，用量一般小于30% 。本技术生产的熔块在瓷器配釉 中用量范围为40 95%。 4、采用本技术熔块配釉，可使瓷器釉面减少针孔，提高光泽，釉面平滑，拓宽烧成
温度，稳定生产。 四、实现方式 本发明提供的高铝高始熔温度陶瓷配釉用熔块是一种瓷器配釉的熔剂原料，其最
终的效果要以按釉料配方配成釉料来体现。
本发明其熔块的组成范围为(按重量百分比) Si02 6 5 75%、 A1203 10 14%、 B203 6 12%、 CaO 2 6%、 Na20 2 6%、 ZnO 2 5%、MgO 2 5%、Zr02 5 10% ;其熔i央在瓷器配釉中用量范围为40 95%。
本发明最佳实施方案一 本发明具体由两部分首先是将石英、氧化铝、硅酸锆、白云石、氧化锌、硼砂、氯化 钠等原料按配方配成混合料，并将混合料在155(TC熔化、水淬成熔块，其熔块成分为(按重 量百分比) Si02 66%、A1203 12%、B203 8%、CaO 4%、Na20 4%、ZnO 4%、MgO 3%、Zr02 8%; 其次是将上述熔块按熔块长石苏州土= so : 13 : 7的比例配方配成釉料，
其熔块在瓷器配釉中用量范围为80% ，并将配料入球磨机制成釉浆，至此制釉过程完成。
将制好的釉浆，施于洁具坯体上，将施釉的白坯于120(TC烧成即可得到釉面光滑、 无针孔、光泽极好的洁具样品。
本发明最佳实施方案二 本发明首先是将石英、氧化铝、硅酸锆、白云石、氧化锌、硼砂、氯化钠等原料按配 方配成混合料，并将混合料在155(TC熔化、水淬成熔块，其成分为Si02 6 7%、A1203 13%、 B203 8%、CaO 4%、Na20 4%、ZnO 4%、MgO 2%、Zr02 7%。
其次是将上述熔块按熔块长石苏州土= 72 : 19 : 9的配方配成釉料，其熔
块在瓷器配釉中用量范围为72% ，并将配料入球磨机制成釉浆，至此制釉过程完成。
将制好的釉桨，施于日用陶瓷坯体上，将施釉的白坯于128(TC烧成即可得到釉面 光滑、无针孔、光泽极好、 铅隔等有毒元素的日用陶瓷样品。
权利要求
一种具有高含铝量(Al2O310～14％)的高铝高始熔温度陶瓷配釉用熔块，其特征在于其熔块的组成范围为(按重量百分比)SiO265～75％、Al2O3 10～14％、B2O3 6～12％、CaO 2～6％、Na2O 2～6％、ZnO 2～5％、MgO 2～5％、ZrO2 5～10％；
2. 如权利要求1所述的高铝高始熔温度陶瓷配釉用熔块，其特征在于其熔块在瓷器配釉中用量范围为40 95%。
全文摘要
本发明涉及一种具有高铝含量的陶瓷用熔块，是一种用于烧成温度较高的陶瓷配釉所用的熔剂料，其熔块的组成范围为(按重量百分比)SiO2 65～75％、Al2O3 10～14％、B2O3 6～12％、CaO 2～6％、Na2O 2～6％、ZnO 2～5％、MgO 2～5％、ZrO2 5～10％；其熔块在瓷器配釉中用量范围为40～95％。本发明的特性在于1、产品的含铝量较高(Al2O310～14％)；2、产品具有较高的熔融温度，缩釉温度为1000～1100℃；烧结温度为1100～1150℃；始融温度为1180～1220℃。3、可作为瓷器配釉的主要原料，其熔块在瓷器配釉中用量范围为40～95％。4、采用本技术熔块配釉，可使瓷器釉面减少针孔，提高光泽，釉面平滑，拓宽烧成温度，稳定生产。
文档编号C04B41/86GK101786905SQ201010130808
公开日2010年7月28日 申请日期2010年3月23日 优先权日2010年3月23日
发明者张武绪, 梁健, 王珍 申请人:咸阳天隆玻璃制品有限公司