本发明涉及陶瓷生产设备技术领域，尤其涉及一种能够自动清理污水的拉坯机。
背景技术：
拉坯机在制坯的过程会使用大量的泥料，会在工作台上产生大量的污水并从污水通道排出，排出后的污水多是储存在集液箱内，当污水收集满以后需要人工操作将污水除去，增加了工序，降低了生产效率，为此，我们提出一种能够自动清理污水的拉坯机。
技术实现要素：
本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种能够自动清理污水的拉坯机。
为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：
设计一种能够自动清理污水的拉坯机，包括拉坯机壳体，所述拉坯机壳体的上端设有工作台，所述工作台上设有的排污口下端连接有排污管，所述拉坯机壳体的内腔上端固定连接有弧形槽，所述弧形槽内设有长方体状的集液箱，所述集液箱侧壁的上端设有多个漏孔，多个所述漏孔在同一水平线上，所述排污管的下端贯穿集液箱顶部延伸至集液箱内，所述集液箱内设有第一微型潜水泵，所述第一微型潜水泵的输出端连接有第一分流管，所述第一分流管贯穿集液箱，且第一分流管的末端连接有出液管，所述弧形槽的底部设有两个对称的第一导电凸块和第二导电凸块，所述第一导电凸块与外接电源点连接，所述第二导电凸块与第一微型潜水泵电性连接，所述弧形槽的下端通过设有的微型管连接有接液池，所述接液池内设有第二微型潜水泵，所述第二微型潜水泵的输出端连接有第二分流管，所述第二分流管的末端与出液管相连，所述第二微型潜水泵与第二导电凸块电性连接，所述接液池固定在拉坯机壳体内腔的底部。
优选的，所述排污口内设有除去泥料和杂质的过滤装置。
优选的，所述过滤装置包括密制金属滤网和尼龙纤维纺织滤网，所述密制金属滤网通过焊接固定在排污口内，所述尼龙纤维纺织滤网铺设在密制金属滤网上。
优选的，所述接液池的底部设有凹槽，所述第二微型潜水泵位于凹槽内。
本发明提出的一种能够自动清理污水的拉坯机，有益效果在于：本发明在操作时，集液箱收集的污水过多后，污水从多个漏孔溢出，当弧形槽内的积液过多时，第一导电凸块和第二导电凸块接通，使得第一微型潜水泵和第二微型潜水泵工作，集液箱和接液池内的积液从出液管排出，从而实现对拉坯机污水自动排出的过程，设有的接液池能够防止弧形槽内溢出的污水量过多，该能够自动清理污水的拉坯机，结构简单，不需要人工清理污水，减少生产陶瓷时的工序，提高了陶瓷生产效率。
附图说明
图1为本发明提出的一种能够自动清理污水的拉坯机的结构示意图。
图中：拉坯机壳体1、工作台2、排污口3、排污管4、集液箱5、漏孔6、第一微型潜水泵7、弧形槽8、第一导电凸块9、第二导电凸块10、第一分流管11、第二分流管12、出液管13、第二微型潜水泵14、接液池15。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1，一种能够自动清理污水的拉坯机，包括拉坯机壳体1，拉坯机壳体1的上端设有工作台2，工作台2上设有的排污口3下端连接有排污管4，排污口3内设有除去泥料和杂质的过滤装置，过滤装置包括密制金属滤网和尼龙纤维纺织滤网，密制金属滤网通过焊接固定在排污口3内，尼龙纤维纺织滤网铺设在密制金属滤网上，能够防止泥料落入排污管4内，堵塞管道，同时减少了泥料的浪费，拉坯机壳体1的内腔上端固定连接有弧形槽8，弧形槽8内设有长方体状的集液箱5，集液箱5侧壁的上端设有多个漏孔6，多个漏孔6在同一水平线上，排污管4的下端贯穿集液箱5顶部延伸至集液箱5内。
集液箱5内设有第一微型潜水泵7，第一微型潜水泵7的输出端连接有第一分流管11，第一分流管11贯穿集液箱5，且第一分流管11的末端连接有出液管13，弧形槽8的底部设有两个对称的第一导电凸块9和第二导电凸块10，第一导电凸块9与外接电源点连接，第二导电凸块10与第一微型潜水泵7电性连接，弧形槽8的下端通过设有的微型管连接有接液池15，接液池15的底部设有凹槽，第二微型潜水泵14位于凹槽内，便于第二微型潜水泵14将接液池15内的积液除去，接液池15内设有第二微型潜水泵14，第二微型潜水泵14的输出端连接有第二分流管12，第二分流管12的末端与出液管13相连，第二微型潜水泵14与第二导电凸块10电性连接，接液池15固定在拉坯机壳体1内腔的底部。
本发明在操作时，集液箱5收集的污水过多后，污水从多个漏孔6溢出，当弧形槽8内的积液过多时，第一导电凸块9和第二导电凸块10接通，使得第一微型潜水泵7和第二微型潜水泵14工作，集液箱5和接液池15内的积液从出液管13排出，从而实现对拉坯机污水自动排出的过程，设有的接液池15能够防止弧形槽8内溢出的污水量过多，该能够自动清理污水的拉坯机，结构简单，不需要人工清理污水，减少生产陶瓷时的工序，提高了陶瓷生产效率。
以上，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。