本实用新型涉及加工机床技术领域，具体涉及一种便于粉尘被高效率吸走的石墨加工机床。
背景技术：
石墨加工对机器防护性能要求很严格，因为石墨粉末不但对机器会造成伤害，而且对工作人员也会造成一定的伤害。即使石墨加工机床的防尘系统做得很好，但如果吸尘系统不先进，导致粉尘堆积，也会造成防尘失效，进而使得石墨粉尘进入机床关键部件，就会加剧磨损并减短寿命，另外，如果石墨从加工室泄露进入工作环境中也会对人体产生伤害。所以石墨加工机床要求在加工过程中石墨粉尘能够被快速吸走吸干净。然而，现有技术中，目前的石墨加工机床均很难做到及时吸走石墨粉尘或及时将石墨粉尘吸干净，进而造成石墨堆积严重或外泄。
技术实现要素：
针对现有技术存在上述技术问题，本实用新型提供一种便于粉尘被高效率吸走的石墨加工机床，该便于粉尘被高效率吸走的石墨加工机床能避免机床磨损并减短寿命，并能避免对人体造成伤害。
为实现上述目的，本实用新型提供以下技术方案：
提供一种便于粉尘被高效率吸走的石墨加工机床，包括底座、设置于所述底座上的机床主体、以及与所述机床主体连接的吸尘器；所述机床主体包括主轴箱、设置于所述主轴箱内的加工室、设置于所述主轴箱一侧的吸尘口、以及与所述加工室和所述吸尘口连通的吸尘通道；
所述主轴箱的顶部开设有进风口，所述进风口设置于所述加工室的上方。
所述吸尘器与所述吸尘口连接。
所述进风口包括若干个以阵列方式布设的进风小口。
所述进风小口排列为两行。
所述进风小口的形状设置为正方形的进风小口。
所述加工室与所述主轴箱之间开设有气流流通通道。
本实用新型的有益效果：
(1)本实用新型的一种便于粉尘被高效率吸走的石墨加工机床，包括底座、设置于底座上的机床主体、以及与机床主体连接的吸尘器；机床主体包括主轴箱、设置于主轴箱内的加工室、设置于主轴箱一侧的吸尘口、以及与加工室和吸尘口连通的吸尘通道；主轴箱的顶部开设有进风口，进风口设置于加工室的上方。由于主轴箱一侧设置有吸尘口，主轴箱的顶部开设有进风口，且进风口设置于加工室的上方，因此，当吸尘器开启时，吸尘器吸风，进风口进风，气流自上而下运动，经过主轴箱下来，再到加工室，使得内外气压差更大，进而形成强大对流，便于石墨粉尘被快速吸走，使得石墨粉尘不在加工室内堆积。因此，该便于粉尘被高效率吸走的石墨加工机床能避免机床磨损并减短寿命，并能避免对人体造成伤害。
(2)本实用新型的一种便于粉尘被高效率吸走的石墨加工机床，具有结构简单，生产成本低，并能适应大规模生产的特点。
附图说明
图1为本实用新型的一种便于粉尘被高效率吸走的石墨加工机床的结构示意图。
图2为本实用新型的一种便于粉尘被高效率吸走的石墨加工机床的另一视角的结构示意图。
图3是图2中A处的局部放大结构示意图。
附图标记：
底座1；
机床主体2；
吸尘器3；
主轴箱4；
加工室5；
吸尘口6；
吸尘通道7；
进风口8、进风小口81；
风的流向9。
具体实施方式
以下结合具体实施例及附图对本实用新型进行详细说明。
本实施例的一种便于粉尘被高效率吸走的石墨加工机床，如图1至图3所示，包括底座1、设置于底座1上的机床主体2、以及与机床主体2连接的吸尘器3；机床主体2包括主轴箱4、设置于主轴箱4内的加工室5、设置于主轴箱4一侧的吸尘口6、以及与加工室5和吸尘口6连通的吸尘通道7；其中，主轴箱4的顶部开设有进风口8，进风口8设置于加工室5的上方。由于主轴箱4一侧设置有吸尘口6，主轴箱4的顶部开设有进风口8，且进风口8设置于加工室5的上方，因此，当吸尘器3开启时，吸尘器3吸风，进风口8进风，气流自上而下运动，经过主轴箱4下来，再到加工室5(请参见图1中风的流向9)，使得加工室5内外气压差更大，进而形成强大对流，便于石墨粉尘被快速吸走，使得石墨粉尘不在加工室5内堆积。因此，该便于粉尘被高效率吸走的石墨加工机床能避免机床磨损并减短寿命，并能避免对人体造成伤害。
本实施例中，吸尘器3与吸尘口6连接，进而能形成强大对流，便于石墨粉尘被快速吸走，使得石墨粉尘不在加工室5内堆积。
本实施例中，进风口8包括若干个以阵列方式布设的进风小口81。若干个进风小口81一方面能够避免较大杂质落入主轴箱4，又能形成强大对流，便于石墨粉尘被快速吸走，使得石墨粉尘不在加工室5内堆积。
本实施例中，进风小口81排列为两行，该两行的进风小口81一方面能够避免较大杂质落入主轴箱4，又能形成强大对流，便于石墨粉尘被快速吸走，使得石墨粉尘不在加工室5内堆积。
本实施例中，进风小口81的形状设置为正方形的进风小口81，进而具有便于加工生产的特点。
本实施例中，加工室5与主轴箱4之间开设有气流流通通道，能形成强大对流，便于石墨粉尘被快速吸走，使得石墨粉尘不在加工室5内堆积。
最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对本实用新型保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。