1.一种上釉设备，其特征在于，所述上釉设备包括：
清洗部，所述清洗部内形成有第一容置腔，所述第一容置腔用于容纳清洗液；
存储部，所述存储部内形成有第二容置腔，所述第二容置腔用于容纳釉液；及
喷淋管，所述喷淋管内形成有喷射通道，所述喷淋管上形成有分别与所述喷射通道相连通的第一连接口、第二连接口和喷出口，所述喷淋管的第一连接口处安装于所述清洗部上，以使所述第一容置腔通过所述第一连接口与所述喷射通道相连通，所述喷淋管的第二连接口处安装于所述存储部上，以使所述第二容置腔通过所述第二连接口与所述喷射通道相连通，所述喷出口用于喷出所述清洗液或所述釉液。
2.根据权利要求1所述上釉设备，其特征在于，所述喷淋管弯折形成容纳腔，所述容纳腔用于放置陶瓷胚料，所述喷出口位于所述容纳腔的内壁上，所述喷出口朝向所述陶瓷坯料。
3.根据权利要求2所述上釉设备，其特征在于，还包括喷头，所述喷头的数量为至少两个，所述喷出口的数量为至少两个，每一所述喷出口上对应设置有一所述喷头。
4.根据权利要求2所述上釉设备，其特征在于，还包括转动部，所述转动部能够转动地设置于所述容纳腔内，所述转动部用于盛放所述陶瓷胚料，所述喷出口朝向所述转动部的转动轴线设置。
5.根据权利要求4所述上釉设备，其特征在于，所述转动部包括驱动件及放置件，所述驱动件能够驱动所述放置件进行转动，所述放置件为板状结构，板状的所述放置件设置于所述容纳腔内，板状的所述放置件上形成有放置腔，所述放置腔用于放置所述陶瓷胚料，所述喷出口朝向板状的所述放置件的转动轴线设置；或
所述转动部包括驱动件、放置件及挂钩，所述驱动件能够驱动所述放置件进行转动，所述挂钩设置于所述放置件上，所述挂钩能够挂设所述陶瓷坯料，所述喷出口朝向所述挂钩的转动轴线设置；或
所述转动部包括驱动件、放置件及夹持元件，所述驱动件能够驱动所述放置件进行转动，所述夹持元件设置于所述放置件上，所述夹持元件能够夹持所述陶瓷坯料，所述喷出口朝向所述夹持元件的转动轴线设置。
6.根据权利要求2所述上釉设备，其特征在于，所述喷淋管包括喷射管段和连接管段，所述连接管段的数量为两个，其中一个所述连接管段的一端形成有所述第一连接口，另一个所述连接管段的一端形成有所述第二连接口，两个所述连接管段的另一端均与所述喷射管段相连通，以使所述喷射管段和所述连接管段内共同形成有所述喷射通道，所述喷射管段上形成有所述喷出口，所述喷射管段弯折形成所述容纳腔。
7.根据权利要求6所述上釉设备，其特征在于，还包括支撑架，所述支撑架包括第一隔板和第二隔板，所述第一隔板和所述第二隔板间隔设置，所述喷射管段位于所述第一隔板和所述第二隔板之间，所述喷射管段朝向所述第二隔板弯折，并与所述第二隔板围成所述容纳腔，所述清洗部和所述存储部设置于所述第一隔板上。
8.根据权利要求7所述上釉设备，其特征在于，还包括收集部，所述收集部设置于所述第二隔板背向于所述容纳腔的一侧，所述收集部形成有收集腔，所述第二隔板上开设有收集孔，所述收集孔贯穿所述第二隔板的两侧分别与所述收集腔和所述容纳腔相连通。
9.根据权利要求1-8中任一项所述上釉设备，其特征在于，所述第一连接口处设置有第一控制阀，所述第一控制阀用于控制所述第一容置腔内清洗液的流出量大小；和/或
所述第二连接口处设置有第二控制阀，所述第二控制阀用于控制所述第二容置腔内釉液的流出量大小。
10.一种首饰上釉检测系统，其特征在于，所述首饰上釉检测系统包括：
如权利要求1-9任一项所述的上釉设备，所述喷出口用于对陶瓷胚料进行清洗或上釉；
检测元件，所述检测元件设置于所述喷出口处，所述检测元件用于检测所述陶瓷胚料的上釉均匀信号；及
主机，所述检测元件电性连接于所述主体，所述检测元件用于将所述上釉均匀信号传输至所述主机，所述主机用于根据所述上釉均匀信号调整所述喷出口对所述陶瓷胚料进行上釉。