一种用于足浴盆的足底按摩装置的制作方法

文档序号:12486059阅读:243来源:国知局
一种用于足浴盆的足底按摩装置的制作方法

本实用新型涉及足浴盆按摩技术领域,具体来说是一种用于足浴盆的按摩装置。

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背景技术:
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足部热浴是中国传统医学发汗疗术中行之有效的理疗、保健方法,当人体足部受到外部温度刺激时,可扩张足部血管,增高皮肤温度,加上足底反射区凸点按摩和磁力作用,推动气血津液循经上行,促进足部和全身的血液循环加速,驱散足底沉积物和消除体内的疲劳物质,确保血液循环顺畅和改善,从而调节各内分泌的机能,促使各内分泌体分泌各种激素。

我国专利CN201210245543.0“足浴盆”中提出了一种只采用一个电机便能实现气泵输气和水泵输水以及振动效果的足浴盆,但是其依旧只有单一按摩的方式,舒适度仍然不高。我国专利201210241958.0公开了一种足浴盆利用足浴盆的动力装置带动曲轴盘转动,并通过曲轴盘上表面偏心设置的连接轴将曲轴盘的转动转化为按摩盘的往复运动,但是在使用过程中可能会出现夹脚的现象,影响用户的使用感受。

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技术实现要素:
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本实用新型的目的在于解决现有技术的不足,提供一种用于足浴盆的按摩装置,通过芯轴和凸轮结构用一台电机带动两种不同运动方式的按摩器,以达到更为舒适的按摩效果。

为了实现上述目的,设计一种用于足浴盆的足底按摩装置,足浴盆底部设有左右两个足底按摩装置,其特征在于所述的每个足底按摩装置由第一足底按摩器和第二足底按摩器组成,第一足底按摩器设置于第一凹槽内,第一足底按摩器呈滚轮状,第一足底按摩器内中部设有芯轴,芯轴转动带动第一足底按摩器转动,芯轴上套设有凸轮,凸轮内腔边沿与芯轴连接,芯轴转动带动凸轮偏心转动,凸轮一侧与连接杆连接,连接杆上设有第二足底按摩器,第二足底按摩器设置于第二凹槽内,第二足底按摩器前、后两侧分别设有若干长条形凸块。

所述的足底按摩装置前端设有一半圆形凸起结构,第二凹槽边沿与半圆形凸起结构之间设有间隙。

所述的足浴盆底部设有电机,电机通过锥齿轮连接芯轴。

所述的第二足底按摩器前部一侧为平面,后部一侧为斜面。

本实用新型同现有技术相比,其优点在于:每个足底按摩装置由两种不同运行方式的按摩器组成,并且提出的一种长槽结构防止了夹脚现象的发生,为用户提供了更为舒适的按摩感受。

[附图说明]

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是图1的A-A截面剖视图;

图3是图1的C-C截面剖视图;

图4是凸轮在最前端时足部按摩器的位置示意图a;

图5是凸轮在最前端时足部按摩器的位置示意图b;

图6是凸轮在最后端时足部按摩器的位置示意图a;

图7是凸轮在最后端时足部按摩器的位置示意图b;

图8是凸轮在最高点时足部按摩器的位置示意图a;

图9是凸轮在最高点时足部按摩器的位置示意图b;

图10是凸轮在最下端时足部按摩器的位置示意图a;

图11是凸轮在最下端时足部按摩器的位置示意图b;

图中:1.第二足底按摩器 2.第一足底按摩器 3.连接杆 4.凸轮 5.芯轴 6.电机 7.锥齿轮1 8.锥齿轮2 9.长槽。

[具体实施方式]

下面结合附图对本实用新型作进一步说明,这种足浴盆的按摩装置和原理对本专业的人来说是非常清楚的。

参见图1、图2及图3,本装置包括图中的图中:1.第二足底按摩器 2.第一足底按摩器 3.连接杆 4.凸轮 5.芯轴 6.电机 7.锥齿轮1 8.锥齿轮2 9.长槽。

所述的每个足底按摩装置由第一足底按摩器和第二足底按摩器组成,第一足底按摩器设置于第一凹槽内,第一足底按摩器呈滚轮状,第一足底按摩器内中部设有芯轴,芯轴转动带动第一足底按摩器转动,芯轴上套设有凸轮,凸轮内腔边沿与芯轴连接,芯轴转动带动凸轮偏心转动,凸轮一侧与连接杆连接,连接杆上设有第二足底按摩器,第二足底按摩器设置于第二凹槽内,第二足底按摩器前、后两侧分别设有若干长条形凸块。

所述的足底按摩装置前端设有一半圆形凸起结构,第二凹槽边沿与半圆形凸起结构之间设有间隙。

所述的足浴盆底部设有电机,电机通过锥齿轮连接芯轴。

所述的第二足底按摩器前部一侧为平面,后部一侧为斜面。

板上开长槽和长槽与前端半圆突起部分的距离是为了防止按摩器在运动的时候夹住脚。

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