专利名称：吸附平台的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种固定平台，特别涉及一种吸附平台。
背景技术：
超薄玻璃的异型精密加工在玻璃加工行业内属于要求较高的新颖项目， 但现有的加工方式大多采用仿形技术，对超薄玻璃的固定采用的是粘贴和夹 持的方法，其缺陷是加工精度达不到要求、破损率高、工序多，且需要按
照产品尺寸定制专用治具。而部分CNC (Computer numerical control,计算
机数字控制机床)加工商即使采用了真空吸附的方法，也仍然需要按产品规 格定制治具，这增加了成本、延长了交货周期。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是为了克服现有技术中的固定方式导致 的加工精度达不到要求、破损率高、工序多且需要按照产品尺寸定制专用治 具的缺陷，提供一种能够对任意规格的产品实现精确定位的可调的吸附平
台o
本实用新型是通过下述技术方案来解决上述技术问题的 一种吸附平 台，其特点在于，其包括 一平台主体； 一设于该平台主体上的定位角尺，
该定位角尺的一臂上设有用于调节该定位角尺的定位区域的调节装置；以及 设于该定位区域内的真空吸附台。
其中，该调节装置包括 一沿垂直于该臂且平行于该平台主体上表面的 方向可旋动地穿设于该臂上的螺旋调节器； 一挡块，沿平行于该臂的方向固 定于该螺旋调节器的朝向该定位区域一侧的末端上。较佳地，该调节装置还包括两个可移动地穿设于该臂上的弹簧导轨，该 两个弹簧导轨分别位于该螺旋调节器两侧且与该螺旋调节器平行。 较佳地，该螺旋调节器的调节精度为微米量级。
其中，该真空吸附台内部设有真空槽，该真空槽的一端通至该真空吸附 台上表面，另一端通至一用于连接真空源的真空孔，该真空吸附台上表面还 设有一密封圈。
较佳地，该密封圈的材料为硅橡胶。
较佳地，该定位角尺嵌设于该平台主体上表面的凹槽中。 其中，该定位角尺的两臂为一体式或分离式。
其中，该定位角尺为T型或L型。
本实用新型的积极进步效果在于本实用新型的吸附平台由于具有可调 性，因此能够对任意规格的产品实现精确的定位，从而可以应用于对超薄玻 璃的任意形状的雕铣作业中，且全部作业过程可以一次完成。本实用新型的
吸附平台大大提高了加工精度，并且实现了 CNC产品定位技术的简易化和
精确化。
图1为本实用新型的吸附平台的正视图。
图2为本实用新型的吸附平台的侧视图。 图3为本实用新型的吸附平台的俯视图。
具体实施方式
以下结合附图给出本实用新型较佳实施例，以详细说明本实用新型的技 术方案。
本实用新型的吸附平台适用于超薄手机玻璃在异型雕铣过程中的精密 无损固定。如图l-3所示，本实用新型的吸附平台包括 一平台主体l，采用耐油、
耐水、耐磨的有机材料制成； 一设于平台主体1上的定位角尺2，该定位角 尺2的两臂21、 22限定出一定的范围，该范围即为定位角尺2的定位区域 23，而为了在作业中适应任意规格产品的定位需要，在定位角尺2的臂21 上设有用于调节定位区域23的调节装置3;以及设于定位区域23内的用于 吸附待加工产品的真空吸附台4。定位角尺2可以为T型或L型，图中所示 为T型的情况，此时，其两臂21、 22限定出两个定位区域23，相应地，每 个定位区域23内均设有一个真空吸附台4;而当其为L型时，其两臂21、 22将仅限定出一个定位区域23，相应地，仅在该一个定位区域23内设置一 个真空吸附台4。
调节装置3可以采用各种结构。如图2和图3所示，本实施例中采用的 调节装置3包括 一沿垂直于臂21且平行于该平台主体1的上表面的方向 可旋动地穿设于臂21上的螺旋调节器31，其中，为了提高加工精度，在本 实施例中，该螺旋调节器31的调节精度为微米量级； 一挡块32，沿平行于 臂21的方向固定于螺旋调节器31的朝向定位区域23 —侧的末端上。另外， 为了使得挡块32在移动时能够保持与臂21的平行，从而保证定位区域23 的形状恒定，调节装置3还包括两个可移动地穿设于臂21上的弹簧导轨33， 该两个弹簧导轨33分别位于螺旋调节器31两侧且与螺旋调节器31平行。
参考图3，当需要縮小定位区域23，以适应较小规格的待加工产品时， 将螺旋调节器31向朝向定位区域23的方向旋动，从而带动挡块32在两个 弹簧导轨33的支持下，在保持与臂21平行的情况下沿纸面内向下的方向移 动；当需要扩大定位区域23，以适应较大规格的待加工产品时，将螺旋调节 器31向远离定位区域23的方向旋动，从而带动挡块32在两个弹簧导轨33 的支持下，在保持与臂21平行的情况下沿纸面内向上的方向移动。
真空吸附台4的内部设有多个根据待加工产品的玻璃表面特性而针对性 设计的真空槽41，这些真空槽41的一端通至真空吸附台4的上表面以对放置于其上的待加工产品进行真空吸附，另一端则通至一用于连接真空源的真
空孔42。真空吸附台4的上表面还设有一密封圈43，该密封圈43可以采用 大压縮比硅橡胶材料，以保证对待加工产品的玻璃表面无损。
在使用本实用新型的吸附平台时，将平台主体1固定到加工设备上，接 入外部真空源到真空吸附台4上的真空孔42，然后调节螺旋调节器31，使 得挡块32沿弹簧导轨33移动到产品定位所需的位置，最后放置待加工的玻 璃于真空吸附台4的密封圈43上，待玻璃被吸附后移除定位角尺2即可开 始进行雕铣作业。
为了便于移除定位角尺2，如图1和图2所示，可以将定位角尺2设计 为嵌设于平台主体1上表面的凹槽21'、 22，中。该定位角尺2的两臂21、 22 可以为一体式，也可以为分离式。当两臂21、 22为一体式时，移除时只需 将整个定位角尺2向上拔离凹槽21'、 22，即可；当两臂21、 22为分离式时， 移除时只需将臂21沿其所在的凹槽21'滑出，并将臂22沿其所在的凹槽22' 滑出即可。
虽然以上描述了本实用新型的具体实施方式
，但是本领域的技术人员应 当理解，这些仅是举例说明，在不背离本实用新型的原理和实质的前提下， 可以对这些实施方式做出多种变更或修改。因此，本实用新型的保护范围由 所附权利要求书限定。
权利要求1、一种吸附平台，其特征在于，其包括一平台主体；一设于该平台主体上的定位角尺，该定位角尺的一臂上设有用于调节该定位角尺的定位区域的调节装置；以及设于该定位区域内的真空吸附台。
2、 如权利要求l所述的吸附平台，其特征在于，该调节装置包括 一沿垂直于该臂且平行于该平台主体上表面的方向可旋动地穿设于该臂上的螺旋调节器；一挡块，沿平行于该臂的方向固定于该螺旋调节器的朝向该定位区域一 侧的末端上。
3、 如权利要求2所述的吸附平台，其特征在于，该调节装置还包括两 个可移动地穿设于该臂上的弹簧导轨，该两个弹簧导轨分别位于该螺旋调节 器两侧且与该螺旋调节器平行。
4、 如权利要求2所述的吸附平台，其特征在于，该螺旋调节器的调节 精度为微米量级。
5、 如权利要求1所述的吸附平台，其特征在于，该真空吸附台内部设 有真空槽，该真空槽的一端通至该真空吸附台上表面，另一端通至一用于连 接真空源的真空孔，该真空吸附台上表面还设有一密封圈。
6、 如权利要求5所述的吸附平台，其特征在于，该密封圈的材料为硅 橡胶。
7、 如权利要求1所述的吸附平台，其特征在于，该定位角尺嵌设于该 平台主体上表面的凹槽中。
8、 如权利要求1所述的吸附平台，其特征在于，该定位角尺的两臂为 一体式或分离式。
9、 如权利要求1所述的吸附平台，其特征在于，该定位角尺为T型或 L型。
专利摘要本实用新型公开了一种吸附平台，其包括一平台主体；一设于该平台主体上的定位角尺，该定位角尺的一臂上设有用于调节该定位角尺的定位区域的调节装置；以及设于该定位区域内的真空吸附台。本实用新型的吸附平台具有可调性，能够对任意规格的产品实现精确的定位，大大提高了加工精度。
文档编号B25H1/00GK201385305SQ20092007159
公开日2010年1月20日 申请日期2009年5月5日 优先权日2009年5月5日
发明者刘家仁 申请人:上海晨兴希姆通电子科技有限公司