专利名称：一种真空吸附工作平台的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及エ件夹持设备技术领域，尤其是涉及ー种利用真空吸气夹持エ件的装置。
背景技术：
薄板加工件的面积较大，エ件平面有较高的平直度要求，利用真空吸附装夹エ件加工，是保证零件加工精度的有效方法。现有的真空吸附工作平台主要由具有吸气孔的工作平台与吸气泵相连接而构成。加工件放置在平台上。中国专利授权公告号CN201015850Y，授权公告日期2008年2月6日，名称为“真空吸附式工作平台结构”的实用新型专利，公开了ー种真空吸附式工作平台。它包括一下本体以及ー上本体。该下本体内设有多个流道，该下本体顶面设置有多个沟槽。沟槽沿纵向及横向延伸，流道与沟槽相通。上本体与下本体锁固结合。该上本体设置有多个吸气孔。吸气孔贯穿该上本体顶面及底面。 吸气孔与沟槽相对应。该实用新型的吸气孔吸力平均，能提供平均的真空吸力，可达到较佳的吸附效果。但是，下本体底部设置第一流道，第一流道的上部再设置第二流道，第二流道再与沟槽连通；其上本体设置的吸气孔为同轴的小孔和打孔，结构复杂，加工难度大，制造成本高。
发明内容为了解决现有技术真空吸附工作平台结构复杂加工难度大的技术问题，本实用新型提供ー种真空吸附工作平台，达到结构简单合理制造成本低的目的。本实用新型的技术方案是ー种真空吸附工作平台，它包括基础平台和与基础平台的上表面连接的吸气平台，基础平台的上表面设有若干道横向和纵向的吸气槽，横向和纵向的吸气槽相互连通，吸气槽连接有吸气管，吸气平台设有吸气孔，吸气孔贯穿吸气平台的上下表面，吸气孔与吸气槽相对应。结构简单合理，加工方便，制造成本低。作为优选，吸气槽的槽宽的宽度大于吸气孔的直径，相邻两道吸气槽的间距为8至12毫米；提供均匀的真空吸力。作为优选，吸气孔的直径为O. 5至I毫米；吸附效果好。与现有技术相比，本实用新型的有益效果是能提供均匀的真空吸力，吸附效果好；结构简单合理，加工方便，制造成本低。
附图I为本实用新型的ー种俯视结构示意图；附图2为本实用新型侧面剖视示意图。图中1-吸气平台；2_吸气管；3-基础平台；11_吸气孔；31-吸气槽。
具体实施方式
[0011]下面通过实施例，并结合附图，对本实用新型的技术方案作进ー步具体的说明。实施例I :如图1、2所示，ー种真空吸附工作平台，它包括基础平台3和与基础平台3的上表面连接的吸气平台I。吸气平台I的下表面与基础平台3的上表面密封连接。基础平台3和吸气平台I呈长方体，图I中靠近读者为工作平台的上方。基础平台3的上表面设有若干道横向和纵向的吸气槽31。横向和纵向的吸气槽31相互连通。吸气槽31横截面呈U状，相邻两道吸气槽31的间距为8至12毫米，本实施例相邻两道吸气槽31的间距为10毫米。吸气槽31连接有吸气管2，吸气管2与吸气泵连接(图中未示)。吸气管2由主管和分管组成。吸气槽31靠近基础平台3边缘的一侧的槽边分别与3个吸气管2的分管连通。3个吸 气管2的分管并联与吸气管2的主管连通，吸气管2主管的另一端与吸气泵连接。吸气平台I设有吸气孔11。吸气孔11贯穿吸气平台I的上下表面。吸气孔11与吸气槽31相对应。吸气槽31的槽宽的宽度大于吸气孔11的直径。从吸气平台I的上表面通过吸气孔11能看到吸气槽31的槽底。吸气孔11的直径为O. 7毫米。
权利要求1.一种真空吸附工作平台，其特征在于它包括基础平台(3)和与基础平台(3)的上表面连接的吸气平台(1)，所述基础平台(3)的上表面设有若干道横向和纵向的吸气槽(31)，横向和纵向的吸气槽(31)相互连通，吸气槽(31)连接有吸气管(2)，所述吸气平台(I)设有吸气孔(11)，吸气孔(11)贯穿吸气平台(I)的上下表面，所述吸气孔(11)与吸气槽(31)相对应。
2.根据权利要求I所述的一种真空吸附工作平台，其特征在于所述吸气槽(31)的槽宽的宽度大于所述吸气孔(11)的直径，相邻两道吸气槽(31)的间距为8至12毫米。
3.根据权利要求2所述的一种真空吸附工作平台，其特征在于所述吸气孔(11)的直径为O. 5至I毫米。
专利摘要本实用新型提供一种真空吸附工作平台，涉及工件夹持设备技术领域。它包括基础平台和与基础平台的上表面连接的吸气平台，基础平台的上表面设有若干道横向和纵向的吸气槽，横向和纵向的吸气槽相互连通，吸气槽连接有吸气管，吸气平台设有吸气孔，吸气孔贯穿吸气平台的上下表面，吸气孔与吸气槽相对应。本实用新型解决了现有技术真空吸附工作平台结构复杂加工难度大的技术问题。本实用新型的有益效果为提供均匀的真空吸力，吸附效果好。结构简单合理，加工方便，制造成本低。
文档编号B25H1/00GK202607631SQ20122020390
公开日2012年12月19日 申请日期2012年5月9日 优先权日2012年5月9日
发明者吴仕良 申请人:杭州小番薯电子科技有限公司