专利名称：一种选择性太阳能光热吸收复合涂层的制作方法
技术领域：
一种选择性太阳能光热吸收复合涂层
技术领域：
本实用新型属于太阳能设备领域，尤其涉及一种使用在平板式太阳能集热 器表面，用于吸收利用太阳能的选择性吸收涂层。背景技术：
太阳能热水器就是吸收太阳的辐射热能，。它是我国太阳能热利用中最为成 熟和最为先进的产品。为百姓提供环保、安全、节能、卫生的新型热水器产品。 最常见的太阳能热水器有三种闷晒式太阳能热水器、平板式太阳能热水器和 真空管太阳能热水器。闷晒式太阳热水器的集热器和水箱合为一体。结构简单、 价格低廉。但是保温差，不能过夜使用，冬季更不能使用。平板式太阳能热水 器由平板太阳集热器、蓄水箱、循环管、支架组成。吸热体有铜铝复合管板式、 全铜管板式、不锈钢冲压成型焊接而成的扁盒式等结构型式。而太阳能集热器， 其中的关键部件就是太阳能集热器板芯，现在大多采用铜铝复合的板状材料制 成。太阳光谱选择性吸收涂层应用于太阳能集热器集热表面，主要由红外高反 射层、吸收层和减反射层构成，其中减反射层的作用是降低物体表面对入射光 的反射，增加物体表面对光的吸收，增加吸收效率；红外高反射层减少集热器 内部向外辐射，降低热损失；吸收层用于吸收太阳光，给集热器提供热源。在 太阳能的光热转换中，选择性吸收涂层的吸收层中的介质的折射率要尽可能低， 减反射层的折射率也要尽可能低，这样才能获得光热转换效率较高的太阳能选择性吸收涂层，但同时也要注重介质的沉积速率不能过低，以免影响生产效率。 而在涂层的制备过程中，采用磁控反应溅射或射频反应及中频反应溅射方法， 利用金属或非金属靶材，由于靶中毒，造成减反射层的沉积速率非常低，使生 产效率大大降低。由于减反射层的生产效率低，目前在市场上的绝大多数太阳 能集热器都不采用设有减反射层的太阳光选择性吸收涂层。对于在真空环境低 温范围使用的太阳能选择性吸收涂层目前已研究和广泛应用了选择性吸收涂 层，这种膜系和工艺方法的优点是，Al单靶直流磁控溅射镀膜工作，设备操作 简单，膜层吸收率较高，对在低温范围使用全玻璃真空管的比较适用，但对于 中温及高温使用由于其红外发射率随温度上升明显升高，造成集热器热损增大， 热效率明显下降。为了提高高温使用范围选择性吸收涂层的热稳定性，降低红 外发射率，已研究和发展了高温稳定金属双靶共溅射淀积技术，这种涂层具有 多层膜层的结构、使在高温范围内热性能稳定，吸收/发射比较小。但是；这 种涂层和工艺方法的关键是必须采用高温稳定金属如W、 MO、 SS，而且必须 釆用双电极靶共溅射；造成沉积速率低，生产周期长、工艺复杂、耙材稀贵、
成本高。所以现在需要一种吸收率很高，发射率很低，而且热稳定性很好的选 择性吸收涂层及制备技术。但是至今行业中没有出现可以克服以上缺点的技术 解决方案。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种具有优良的太阳能选择性吸收特性，且膜层 牢固的选择性吸收膜层，该膜层具有较高的结合强度和良好的耐候性，同时在生产是具有较高的生产效率。
为了达到上述的技术目的，本实用新型采用的技术解决方案包括以下技术 内容
一种选择性太阳能光热吸收复合涂层，该涂层由多层金属与非金属复合而成， 上述的选择性太阳能附着在金属平板上，其特征在于所述的涂层在金属平板 上附着的次序依次为底层，钛一氧一钛吸收层，和二氧化硅射层构成，其中的 钛一氧一钛吸收层为通过至少两次反应溅射过程制作。 所述的底层为不锈钢、钼或者镍中的一种。
所述的底层、钛一氧一钛吸收层、二氧化硅的总厚度为80nm-120nm。
所述的底层一钛—氧一钛吸收层，和二氧化硅射层各层的厚度为，底层15 nm—25 nm;钛_氧_钛吸收层50nm-70nm; 二氧化硅15 nm—25 nm。
所述的底层一钛一氧一钛吸收层，和二氧化硅射层各层的最佳厚度为，底 层20nm;铝30nm; 30nm; 二氧化铝20nm。
通过采用上述的技术解决方案，本实用新型获得了以下技术优点和效果 本实用新型通过采用不锈钢一钛一氧一钛吸收层和二氧化硅射层复合膜层做为 平板式太阳能集热器的选择性吸收涂层，这种复合膜层具有非常好的太阳能选 择性能，其中底层分别采用不锈钢、钼或者镍做为底层，上述几种金属会在铜 或者铝板上具有非常强的结合牢度，从而增强整个吸收膜层的固定牢度；另外 上述的不锈钢、钼或者镍均具有非常好的红外反射性能，可以非常有效的降低 膜层的热发射率，在太阳辐照度很好的时候避免上述的复合膜层过热而影响集热器的使用寿命；将钛一氧一钛做为吸收层，并在溅射的时候与氧气等反应， 反应溅射出不同金属体积比的渐变吸收膜层，通过设置适当的膜层厚度，可以 大大增强上述膜层的吸收率；另外在上述膜层的最上层通过反应溅射二氧化铝 膜层，可以利用二氧化铝稳定的性能，对其下的膜层起到减反射和封闭的作用， 保护吸收层不会受到大气中的水份、盐分等的腐蚀，大幅度提高了膜层的耐候 性，显著延长了上述膜层的使用寿命。
图1为本实用新型的膜层结构示意图。
具体实施方式
下面对本实用新型进行详细的说明
本实用新型是针对现有的平板式太阳能集热器中使用的集热片材所做出 的改进，现在常用的集热片一般为薄铜板或者铝板，因此本实用新型中的太阳 能选择性吸收涂层就是以上述两种常用的材料基材所做出的技术改进。该涂层 由多层金属与非金属复合而成，上述的选择性太阳能附着在金属平板上，而这 个金属板也就是薄铜板或者铝板。所述的涂层在金属平板上附着的次序依次为 底层一钛一氧一钛吸收层，根据不同的金属特性，在本实用新型中的底层为不 锈钢、钼或者镍中的一种。使用这几种材料做为复合膜层，也就是太阳能选择 性吸收涂层，主要是上述的几种金属与铝和铜通过反应溅射后，可以稳定而牢 固的附着在铝或者铜基材上，这样为整个复合膜层建立一个牢固的附着基础。 另外这几种金属材料还具有较强的红外反射性能，可以降低复合膜层的热发射率，防止膜层由于温度过高而损坏。本实用新型所述的底层(包括不锈钢、钼、
镍任意一种) 一钛一氧一钛吸收层一二氧化硅的厚度为80nm-120nm。上述的这 个厚度为筛选的比较合理的一个膜层厚度。上述的膜层在进行反应溅射时所生 产的每层膜层的厚度分别是底层15 nm—25 nm;钛一氧一钛吸收层为两层均为 25nm-35nm 二氧化硅15nm—25nm。上述的这个厚度范围可以根据具体的使用 要求和太阳能设备的用途等技术指标进行调整。但是在一般情况下，最佳的膜 层结构底层20nm;钛一氧一钛吸收层的两层均30nm; 二氧化硅20nm。
上述的膜层的加工过程为，首先将金属基材，也就是薄铜板或者铝板进行 表面预处理，将其放入预处理室中在真空条件下，进行镀制前的离子刻蚀，用 Ar离子轰击材料表面，使上述的薄铜板或者铝板表面的固体杂质得到良好的清 理，进行离子刻蚀一般只需进行一个表面即可，因为镀制太阳能选择性吸收涂 层也至少在一个表面上进行。进行离子刻蚀可以使薄铜板或者铝板的表面得到 彻底的清理，提高镀制膜层时候的附着力，提高膜层使用寿命。
上述的膜层的加工过程为，首先将金属基材5，也就是薄铜板或者铝板进 行表面预处理，然后将其放入预处理室中在10—2Pa的真空条件下，经过质量流 量计通入Ar气60sccm，调节真空度在0.6pa，开耙极电源，耙极电源480v，电 流4.5A，进行镀制前的离子刻蚀，处理时间为10-25分钟。用Ar离子源轰击基 材5表面，电流密度0.8A/ci^使上述的薄铜板或者铝板表面的固体杂质得到良 好的清理，进行离子刻蚀一般只需进行一个表面即可，因为镀制太阳能选择性 吸收涂层也至少在一个表面上进行。进行离子刻蚀可以使基材5即薄铜板或者铝板的表面得到彻底的清理，提高镀制膜层时候的附着力，提高膜层使用寿命。 在进行基材5表面预处理之后，即可开始膜层的镀制过程，这个过程是通 过真空磁控反应溅射来实现的。将上述经过处理的薄铜板或者铝板放入真空溅
射室中，在0.5Pa的真空条件下通过磁控溅射镀制金属衬底4，采用不锈钢靶或 镍靶或钼靶进行，通入氮气42sccm，保持工作气压为0.5pa，电流5A，磁控溅 射时间为5分钟。在厚度达到20nm是即可进入下一个膜层的镀制。
同样将该镀制完金属衬底的基材放入真空室中，通过反应溅射镀制吸收 层，采用钛靶进行磁控溅射，溅射时通入氧气40 sccm，保持工作气压为0.5pa， 电流5A，磁控溅射时间为7分钟。在厚度达到30nm是即可进入下一个膜层的 镀制。在溅射吸收层的时候还可以通入其他可以通入的气体。在镀制不同的膜 系时，通入不同的气体，按照膜系中的先后顺序。
同样将该镀制完金属衬底的基材放入真空室中，通过反应溅射镀制吸收 层，采用铝靶进行磁控溅射，溅射时通入氧气30 sccm，保持工作气压为0.5pa， 电流5A，磁控溅射时间为IO分钟。在厚度达到30nm是即可进入下一个膜层的 镀制。
最后将该镀制完金属衬底的三氧化二硅l，将基材5放入真空室中，通过 反应溅射镀制表面的陶瓷层，采用硅靶进行磁控溅射，溅射时通入氧气45 sccm， 保持工作气压为0.5pa，电流5A，磁控溅射时间为5分钟。在厚度达到20nm是 即可进完成膜层的镀制。
上述描述只能被看作是较佳实施例。本技术领域中的那些熟练技术人员以及那些制造或使用本实用新型的人应意识到本实用新型的其它多种变化型式。 因此，要理解的是，上述图示实施例仅仅是作示范用的，它并不会对本实用新
型的范围构成限制，本实用新型的范围根据专利法的原则、包括等效物的原则 所解释的权利要求来限定。
权利要求1、一种选择性太阳能光热吸收复合涂层，该涂层由多层金属与非金属复合而成，上述的选择性太阳能附着在金属平板上，其特征在于所述的涂层在金属平板上附着的次序依次为底层，吸收层，和二氧化硅射层构成，其中的钛-氧-钛吸收层为通过至少两次反应溅射过程制作。
2、 根据权利要求1所述的一种选择性太阳能光热吸收复合涂层，其特征在于: 所述的底层为不锈钢、钼或者镍中的一种。
3、 根据权利要求1所述的一种选择性太阳能光热吸收复合涂层，其特征在于:所述的底层、钛一氧一钛吸收层、二氧化硅的总厚度为80nm-120nm。
4、 根据权利要求1所述的一种选择性太阳能光热吸收复合涂层，其特征在于: 所述的底层—钛一氧一钛吸收层，和二氧化硅射层各层的厚度为，底层15 nm—25 nm;钛一氧—钛吸收层50nm-70nm; 二氧化硅15 nm_25 nm。
5、 根据权利要求3所述的一种选择性太阳能光热吸收复合涂层，其特征在于: 所述的底层一钛一氧一钛吸收层，和二氧化硅射层各层的最佳厚度为，底 层20nm;铝30nm; 30nm; 二氧化铝20nm。
专利摘要本实用新型属于太阳能设备领域，尤其涉及一种使用在平板式太阳能集热器表面，用于吸收利用太阳能的选择性吸收涂层。一种选择性太阳能光热吸收复合涂层，该涂层由多层金属与非金属复合而成，上述的选择性太阳能附着在金属平板上，其特征在于所述的涂层在金属平板上附着的次序依次为底层，钛—氧—钛吸收层，和二氧化硅射层构成，其中的钛—氧—钛吸收层为通过至少两次反应溅射过程制作。本实用新型可以提供一种具有优良的太阳能选择性吸收特性，且膜层牢固的选择性吸收膜层，该膜层具有较高的结合强度和良好的耐候性，同时在生产中是具有较高的生产效率的。
文档编号B32B15/04GK201344668SQ20082023593
公开日2009年11月11日 申请日期2008年12月30日 优先权日2008年12月30日
发明者丘仁政, 宾 罗, 陈汉文 申请人:丘仁政;陈汉文;罗 宾