专利名称：散射覆材的颗粒掺杂方法
技术领域：
本发明实施方式一般地涉及用于例如光伏电池的光散射基材及其制备方法。
背景技术：
对于薄膜硅光伏太阳能电池，光必须有效地结合入硅层，之后被俘获在该层中，以提供足够的用于光吸收的路径长度。当硅吸收长度通常为数十至数百微米时，大于硅厚度的路径长度在较长波长时是特别有益的。光通常从沉积基材一侧入射，使得基材在电池结构中作为覆材。结合了无定形硅和微晶硅的常规串联电池通常包含在其上沉积有透明电极的基材，无定形硅的顶部电池，微晶硅的底部电池，以及背面接触或对电极。无定形硅主要在低于700纳米(nm)光谱的可见光部分吸收光，而微晶硅的吸收与大块晶体硅类似，随着向 1200nm延伸，吸光率逐渐降低。两种类型的材料都获益于织构化的表面。取决于织构的尺寸规模，织构进行光俘获和/或降低Si/基材界面的菲涅尔损失。已经开发了许多另外的方法用于在TCO沉积之前制造织构化的表面。这些方法包括喷砂、聚苯乙烯微球体沉积和蚀刻，以及化学蚀刻。这些涉及织构化的表面的方法可能在可以形成的表面织构种类方面受到限制。已经为包括疏水性涂层的其他应用开发了微结构化的玻璃。费瑞公司(FeiT0Corporation)开发了将高温纳米颗粒或者微颗粒沉积到热玻璃基材上的方法。在该技术中，当颗粒在热浮浴上时被喷涂到基材上。该技术没有对颗粒深度提供控制，表面覆盖的均匀性是未知的，且不清楚单 层沉积是否可行。PPG公司和倍耐克公司(Beneqoy)还对通过纳米颗粒沉积在热玻璃基材上形成的涂层进行了研究。美国专利申请第2007/0116913号中描述了颗粒沉积到或者直接刻印在从熔合法中的等压槽脱落的玻璃上。可在熔合管上、沿着熔合管的侧面或者在熔合管下发生颗粒沉积。一般地描述了任意类型的玻璃颗粒的使用，具体描述了与熔合玻璃具有相同组成的玻璃颗粒的使用。还描述了高温颗粒的使用，随后去除了所述高温颗粒以形成织构。使用表面粗糙度来形成散射中心是文献中已知的。减法过程如湿法化学蚀刻或者通过研磨/磨光或喷砂来机械去除材料是最常用的。这些技术在能产生的表面织构类型方面受到限制。还有大量基于基质内体积变化的散射技术。在整个材料块中采用体积散射的情况下，常用的材料太过昂贵无法用于低成本大规模应用。如下所述，存在一些方法在非散射基材上产生具有体积散射的较薄膜。太平洋太阳能公司(Pacific Solar)建立了一种满足薄膜硅太阳能电池的光俘获方法，该方法如今是CSG太阳能公司(CSG Solar)的专利投资组合。硅膜下方基材是织构化的，该织构在Si层中提供光俘获功能。织构化由沉积在平面玻璃基材上的粘合剂基质中的SiO2颗粒组成。这是使用溶胶-凝胶型方法完成的，其中颗粒悬浮在液体中，牵拉基材通过液体，然后进行烧结。珠粒保持球形并通过烧结的凝胶保持在原位。膜厚度小于织构化表面中形成的珠粒的直径。已知用于OLED光提取的体积和表面织构散射方法。许多公开文献对体积散射层进行讨论，其中颗粒分布在粘合剂中。所述粘合剂通常是有机材料并含有无机散射颗粒。W0200237580(A1)揭示了各种用于OLED光提取的体积散射层的变化形式，包括由玻璃料中的散射颗粒组成的层。EP1603367揭示了通过使用分散在树脂或溶胶中的颗粒并施涂到基材，在基材上制造散射层，并用于OLED光提取。US6777871 (B2)也揭示了用于OLED光提取的散射层，其在玻璃或者聚合物基质中含有散射颗粒。如果能够提供一种制造光散射基材的方法，其可以在基材上形成颗粒的单层或多层，则是有利的。
发明内容
如本文所述用于制造光散射基材的方法解决了上文所述的传统方法的一个或多个缺陷并提供了如下一个或多个优点:用TCO涂覆的玻璃微结构可以平滑地变化且不太可能产生电问题，可以优化玻璃织构而无需考虑吸收缺陷，不像在织构化的TCO的情况下更多织构需要较厚TCO的区域导致较高吸收，该方法不需要如同溶胶-凝胶方法的情况下可以被烧结的粘合剂，且可以通过粒径分布来控制织构特征尺寸。本发明的一个实施方式是一种制造光散射基材的方法，该方法包括:提供包含至少一个表面的基材，通过将含有颗粒和粘合剂材料的溶胶-凝胶沉积到所述至少一个表面上形成颗粒层，以形成涂覆的基材，并加热所述涂覆的基材以形成光散射基材。所述光散射基材可以用于薄膜光伏太阳能电池中。在以下的详细描述中列出了本发明的附加特征和优点，其中的部分特征和优点对本领域的技术人员而言由所述描述即容易理解，或按文字描述和其权利要求书以及附图中所述实施本发明而被认识。应理解，前面的一般性描述和以下的详细描述都只是本发明的示例，用来提供理解要求保护的本发明的性质和特性的总体评述或框架。所包含的附图供进一步理解本发明，附图被结合在本说明书中并构成说明书的一部分。附图呈现了本发明的一个或多个实施方式，并与说明书一起用来解释本发明的原理和操作。附图简要说明仅通过以下详述或与附图一起可更好地理解本发明。
图1A是根据一个实施方式的光散射覆材的示意图。图1B是根据一个实施方式的光散射覆材的示意图。图2A所示是根据一个实施方式制造的光散射覆材的紫外激光共焦显微镜图。图2B所示是根据一个实施方式制造的光散射覆材的紫外激光共焦显微镜图。图3是玻璃表面形貌的紫外激光共焦显微镜的形貌轮廓图(随机拍摄)。图4-13是根据一些实施方式的光散射覆材的光散射结果图。图14是根据一个实施方式的光伏装置的特征的示意图。
具体实施例方式下面详细参考本发明的各种实施方式，这些实施方式的例子在附图中示出。只要可能，在所有附图中使用相同的附图标记来表示相同或类似的部分。本文所用术语“基材”可以根据光伏电池的构造用来描述基材或者覆材。例如，如果所述基材在装入光伏电池时位于光伏电池的光入射侧，则所述基材是覆材。所述覆材可以为光伏材料提供保护，使其免受冲击和环境劣化，同时允许太阳光谱中合适的波长透过。另外，可以将多个光伏电池组装成光伏模块。本文所用的术语“邻近”可以定义为紧邻。邻近的结构可以互相发生物理接触，也可以不发生物理接触。邻近的结构可以包括设置在它们之间的其他的层和/或结构。光散射基材可用于多种应用，主要是光伏装置、显示器背衬照明、光照应用、防指印和/或防污等。通常，这些应用都可以从结合了高的总透射率和高百分数的漫透射率(这是大角度散射时是更合乎希望)的光散射基材获益。许多此类应用对于成本是特别敏感的，需要不复杂且使用低成本材料的工艺。本文所述光散射基材的制造方法使用体积和表面光散射技术的混合，并结合独特多用性的旋涂玻璃或溶胶-凝胶技术。得到一种装置，例如基于玻璃的装置，取决于嵌入到旋涂玻璃中的颗粒的粒径和沉积层数量以及其他参数，该装置可以从表面散射体变化为体积散射体。虽然通过旋涂沉积了大量旋涂玻璃溶液以及溶胶-凝胶，所述溶液以及传统的光致抗蚀剂并不限于旋涂。也可以选择浸涂和喷涂，它们同样也能用于施涂溶胶-凝胶。本发明的一个实施方式是一种制造光散射基材的方法，该方法包括:提供包含至少一个表面的基材，通过将含有颗粒和粘合剂材料的溶胶-凝胶沉积到所述至少一个表面上形成颗粒层，以形成涂覆的基材，并加热所述涂覆的基材以形成光散射基材。在一个实施方式中，具有高折射率的微颗粒和纳米颗粒可用作包封在溶胶-凝胶或者旋涂玻璃基质中的散射材料。例如，所述颗粒可以是晶体形式的碳化硅。但是也可以使用具有高折射率的其他材料，例如二氧化钛(或者晶体形式的金红石或其他晶相的二氧化钛)、钻石粉末。在一个实施方式中，颗粒，例如具有高折射率的颗粒可以是部分埋入或者完全埋入的，更容易地与电子工艺组合或者用于调节光散射特性。使用旋涂、浸涂或者喷涂可以对制造的光散射装置的表面特性实现高度控制。使用块状形式的此类广泛应用的材料可以得到低廉以及可规模化的制造方法。根据本文所述方法制造得到的光散射基材至少可以是表面光散射基材或者体积光散射基材。在一个实施方式中，如图1A所示，光散射基材100包含颗粒14的聚集体，其通过粘合材料12的粘结附着到基材10的表面，所述粘合材料12与基材相容，例如溶胶-凝胶、旋涂玻璃或者聚合物。在该例子中，颗粒可以具有大于粘合层的结构，因此包含表面粗糙度。这是表面光散射基材的一个例子。在另一个实施方式中，如图1B所示，光散射基材101包含颗粒14的聚集体，其通过粘合材料12的粘结附着到基材10的表面，所述粘合材料12与基材相容，例如溶胶-凝胶、旋涂玻璃或者聚合物。在该实施方式中，颗粒小于粘合材料(粘合层)的厚度或者在初始沉积了比粘合层厚度大的颗粒之后通过多层粘合材料将颗粒埋入较厚的粘合材料层中，对装置进行进一步处理。然后可以在图1B中观察到该体积散射基材的一个例子。实现这两种情况或者这两种情况之间的某些情况的可能性，提供了对散射装置的表面平面性进行更好控制的方法，这对于同一基材上装置的后续处理是有利的。在一个实施方式中，基材是玻璃基材。也可以不受限制地使用其他基材，例如聚合物、塑料、玻璃陶瓷、陶瓷、纤维、合成蓝宝石以及各种晶体。根据一个实施方式，光散射覆材的制造方法包括以下步骤:提供前体如粘合材料和粉末，混合所述前体，例如以所需的比例(如1:10单位重量)进行混合，将混合前体分散到基材如钠钙玻璃上，以及加热经过涂覆的基材。可以通过例如旋涂、喷涂、浸涂等将前体分散到基材上。可以通过如下方式加热经过涂覆的基材，例如通过烘焙烧结并在某一温度下固结(取决于颗粒、凝胶的烧结温度，或者基材的软化温度，所述某一温度可以是低温)。对于多层或者用粘合材料掩埋颗粒和/或层，所述步骤可以重复多次。在一个实施方式中，粘合材料是光学透明或者清澈的。测试不同前体以证明原理。在粘合材料典型硅基溶胶-凝胶溶液的情况下，光敏性或者非光敏性的旋涂玻璃或者甚至是聚合物可用作粘合材料。在此特别的情况下，我们使用商用旋涂玻璃溶液，因为其贮存时间长且烧结温度低。该产品是福特瑞克斯公司(Futurrex, Inc)制造的中间体涂料IC1-200。但是可以使用不同粉末。我们尝试了数种不同的可用粉末，最成功的粉末包括WWW.Silone-sic.com制造的粒径 4um的SiC晶体粉末。粉末是部分透明的，但是具有高折射率，导致在显微镜照明下发生光散射。因此，所用SiC粉末的初始选择是有利于控制最终散射质量。但是也可以使用粒径为5um的氧化钛和尺寸在40nm-100nm之间的氧化锌纳米粉末。优选选择以较高折射率和自然条件下发光为目标的粉末。因此，以下粉末，如晶体碳化硅(SiC)、钻石粉末、二氧化钛(也可以是金红石晶体形式的二氧化钛)是非常诱人的。可以用各种方法完成前体的混合。例如，以重量/体积为基准进行混合，假定使用了密度与水的密度一样的Futturex旋涂玻璃溶液。将Img的SiC粉末与IOml的Futturex旋涂玻璃混合，形成1:10的溶液。本文所述的所有例子都是基于1:10的溶液。可以根据各种不同的方法完成沉积，例如旋涂、喷涂、浸涂、带铸以及其他可能的方式，如沉积聚合物(例如光致抗蚀剂)。因此，在大尺寸显示器玻璃平板工业中可用于沉积光致抗蚀剂的现有装备可用于所述沉积过程(在一些情况下由于所用的粒径需要进行一些小改动)。在该例子中，使用旋涂法来沉积Futurrex IC1-200涂料。用移液管将前体混合物沉积到载玻片上，将旋转器的速度设定为1000RPM (较厚层)至4000RPM (较薄层)，持续时间为60秒。得到厚膜，其在部分润湿的玻璃基材上分散有颗粒。在用颗粒形成膜之后，加热如烧结可以在基材上提供稳定的持续性膜。可以在垂直炉、管式炉、快速热退火器(RTA)或者简单的热板上完成烧结。在该例子中，使用热板在240°C烧结5分钟。如果要完成单层装置，推荐在240°C再烧结30分钟，但这不是严格必须的。根据一个实施方式，本发明的方法还包括在加热之后，通过将包含颗粒和粘合材料的溶胶-凝胶沉积到经过涂覆的基材上形成另一层颗粒。根据一个实施方式，本发明的方法还包括重复成形和加热以形成光散射基材，所述光散射基材包含多层颗粒。
根据一个实施方式，本发明的方法还包括在加热之后，将包含粘合材料的溶胶-凝胶沉积到经过涂覆的基材上来沉积粘合材料层。权利要求9所述的方法包括:重复加热和沉积粘合材料层，以形成光散射基材，所述光散射基材包含多层粘合材料。如果需要的是多层，则应该在一个循环中重复成形和/或沉积步骤以及加热步骤。对于多层颗粒涂层，用相同的前体混合物重复过程。但是，如果需要掩埋颗粒并使得表面“平面化”，则用多层清澈Futurrex IC1-200或者所需的粘合化学品来掩埋光散射基材。在一个实验中，用10层清澈旋涂玻璃涂料来掩埋含SiC颗粒的膜。一旦完成之后，可以用光散射基材的散射效率来表征其是否被掩埋。使用上述旋涂方法用颗粒涂覆数片载玻片。以下是尝试的各种微粉末材料和纳米粉末材料(颗粒):粒径为20um的SiC粉末；粒径为4um的SiC粉末；粒径为5um的氧化钛粉末；粒径为90nm的氧化钛粉末；粒径约为IOOnm的氧化铝粉末；以及粒径为40nm至IOOnm的氧化锌粉末。对于上述列出的试验，呈现出更加积极结果的是: 粒径为4um的SiC粉末；粒径为5um的氧化钛粉末；以及粒径为40nm至IOOnm的氧化锌粉末。在旋涂制造粗糙表面过程中，一些纳米粉末(纳米颗粒)成簇。(可能是由于静电)纳米粉末的聚集是非常常见的。粒径与溶胶-凝胶涂覆条件之间更详尽的匹配可能克服一些聚集问题。例如，用硅烷预涂覆散射颗粒，这限制了其自身聚集，也被考虑是有用的加工预处理。粒径为20um的SiC粉末能够很好的工作，但是相比于传统膜，它不能得到良好的散射结果。如图2A所示是根据一个实施方式的光散射基材的紫外共焦俯视图。使用包含4um粒径的SiC和旋涂玻璃的溶胶-凝胶来制造所述光散射基材。用光学显微镜和紫外激光共焦显微镜观察经过烧结的载玻片表面。在此情况下，用1:10的溶液、1000RPM的转速以及240°C烧结5分钟制造光散射基材。用一些Futurrex IC1-200旋涂玻璃的清澈(无颗粒)涂层重复相同过程。在此情况下，使用10层以使装置平面化。图2B所示是紫外共焦的俯视图。使用共焦显微镜并改变图像焦点，可以制得表面的近似3D示意图。在图3中通过线20可以观察到粒径为4um的SiC的1:10溶液的单层轮廓。此处可以看到颗粒的平均4um高度。然后用10层清澈IC1-200涂层涂覆样品进行掩埋。现在还可以在图3中通过线22看到形貌。此处可以看到光散射基材大部分是平坦的，但是可以观察到一些倾斜，该区域可能是涂料没有渗透到颗粒下方在膜中形成了一些空穴。如果持续重复该过程，则可以使得光散射基材的平面度增加到所需水平。散射测量可以通过对应于总透射率的总积分散射进行定量，但是这没有分光光度计测定那么精确。同样地，还计算角度大于50度的光百分数，对大角散射进行定量。将3dB角定义为一半的光强度位于较小角和较大角的角度。使用气泡图与常规光散射覆材比较总积分散射、大角散射以及3dB角。用轴上光入射到基材的未涂覆侧的辐射成像IS-SA散射测量系统表征膜。图4和图5分别显示1:10混合物中单一 SiC的4um粉末在400、600、800和IOOOnm的散射结果和气泡图，所述混合物通过1000RPM旋涂并在240°C烧结5分钟制得。此处可以注意到总体光散射接近75%，和明显的小角散射且不依赖于波长。对经过将装置埋入10层清澈旋涂玻璃溶液下的后处理的前述光散射基材进行额外测量。所述光散射基材具有平坦表面和如图2A和2B所述的空穴。该情况下的测量可参见图6和7。相比于图4和5，此处装置具有略小的小角散射。此处的优势在于可以控制基材的平坦度，且效果似乎被嵌入到掩埋膜的体积中。为了增加散射角，可以改变旋涂玻璃:粉末的比例(本文中总是使用10:1的比例)，但是可以预想到这会有一些限制，例如溶液变得过于粘性且充满沉淀物。一个选择是使用颗粒掺杂溶液的多层涂覆，以增加每个涂覆平面上的颗粒密度。还在玻璃表面上完成了 4层颗粒掺杂溶液涂层。测定结果见图8和9。结果显示随着涂层数量的增加，散射角度增加。但是，光散射的总强度下降。因此似乎存在一个平衡。除了 SiC粉末,还使用数种纳米粉末来制造光散射基材。使用粒径为40nm-100nm的掺杂氧化锌(ZnO)纳米粉末，以10:1的比例，1000RPM旋涂，240°C烧结来制造光散射基材。载玻片上的单层结果见图10和11。该层具有大量小角散射，一些大角散射，且不依赖于波长。然后对该ZnO层进行后处理并用清澈旋涂玻璃单层进行掩埋。所得光散射基材的测定见图12和13。相比于图10和11的光散射基材，所得光散射基材的大角散射下降。本文所述实施方式可以提供以下一个或多个优点:低制造成本；大尺寸的规模化能力(在此处可以使用用于大显示器面板的光致抗蚀剂涂覆的装置)；低温过程以及与显示器玻璃、钠钙玻璃和低温玻璃的相容性；通过使用多层可以在表面散射体和体积散射体之间“调节”;可以提供平坦(或者较平坦)表面，这有利于其他装置的沉积；可以使用各种不同高折射率的微粉末和纳米粉末；可以用旋涂、浸涂、喷涂以及其他光致抗蚀剂沉积技术进行处理；和/或容易地整合到用于成像、光照、能量转化和其他应用的显示平台中。本发明的实施方式显示比常规光散射基材更优异的性能，作为薄膜Si光伏太阳能电池的工业标准。在一些实施方式中，使用旋涂玻璃和SiC晶体粉末。也可以使用具有高折射率的其他类型的溶胶-凝胶和/或粉末，例如二氧化钛和钻石粉末。本发明的一个实施方式是包含根据本文所述实施方式的光散射无机基材20的光伏装置1400 (其特征如图14所示)。根据一个实施方式，光伏装置还包含与基材相邻的导电性材料24，以及与所述导电性材料相邻的活性光伏介质22。根据一个实施方式，所述活性光伏介质与导电性材料物理接触。根据一个实施方式，所述导电性材料是透明导电膜，例如透明导电性氧化物(TC0)。所述透明导电膜可以包含织构化的表面。在一个实施方式中，光伏装置还包含与活性光伏介质物理接触的对电极，且所述对电极设置在所述活性光伏介质与导电性材料相反的表面上。
根据一些实施方式，溶胶-凝胶包含颗粒，所述颗粒的折射率不同于溶胶所夹带的材料的折射率。折射率可以较高、较低或者相同。当沉积多层时，各层中的颗粒、溶胶材料或者各层之间的颗粒、溶胶材料可以是相同或者不同的。各种折射率的组合对于调节不同波长或者不同应用的光散射特性是有利的。制造散射装置的方法可用于制造表面散射体、体积散射体或其组合。使用旋涂玻璃或凝胶-溶胶与高折射率微颗粒或纳米颗粒完成所述装置。所述方法易于规模化并在低温下完成，与大多数类型的玻璃相容，例如显示器玻璃和钠钙玻璃。在一个实施方式中，基材包含选自以下的材料:玻璃、陶瓷、玻璃陶瓷、蓝宝石、碳化硅、半导体以及它们的组合。在一个实施方式中，颗粒是无机颗粒，包括球体、微球体、主体、对称颗粒、非对称颗粒或它们的组合。在一个实施方式中，颗粒可以是任意的形状或几何形状，例如多边形。颗粒可以包含选自以下的材料:玻璃、陶瓷、玻璃陶瓷、蓝宝石、碳化硅、半导体、金属氧化物以及它们的组合。通常，本领域技术人员通常使用的任意尺寸的结构均可以用于本发明。在一个实施方式中，可以使用本发明所述的方法涂覆所述结构，所述结构的直径等于或小于20微米(μ m)，例如为100纳米(nm)至20 μ m的范围,例如为100纳米(nm)至10 μ m的范围,例如I μ m M 10 μ m。在一个实施方式，所述结构具有尺寸(例如直径)分布。所述结构的直径分布是所述结构的直径的范围。所述结构可以具有单分散直径，多分散直径或者它们的组合。具有单分散直径的结构具有基本相同的直径。具有多分散直径的结构的直径以连续的方式在平均直径周围一定范围内分布。通常，将多分散结构的平均尺寸作为粒径。这些结构的直径落在一定值的范围内。使用不同尺寸的颗粒来制备光散射基材可以增强不同波长下的光散射性质。对本领域的技术人员显而易见的是，可以在不偏离本发明的精神或范围的情况下对本发明进行各种修改和变化。因此，本发明应涵盖对本发明的这些修改和变动，只要这些修改和变动在所附权利要求及其等同方案的范围之内。
权利要求
1.一种制造光散射基材的方法，该方法包括: 提供包含至少一个表面的基材； 通过在所述的至少一个表面上沉积包含颗粒和粘合材料的溶胶-凝胶形成颗粒层，以形成经过涂覆的基材；以及 加热所述经过涂覆的基材，以形成光散射基材。
2.按权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基材包含选自以下的材料:玻璃、陶瓷、玻璃陶瓷、蓝宝石、碳化硅、半导体、聚合物以及它们的组合。
3.按权利要求1所述的方法，其特征在于，所述颗粒包含:球体、微球体、主体、对称颗粒、非对称颗粒或者它们的组合。
4.按权利要求1所述的方法，其特征在于，所述粘合材料是玻璃，所述基材也是玻璃。
5.按权利要求1所述的方法，其特征在于，所述颗粒包含选自以下的材料:玻璃、陶瓷、玻璃陶瓷、蓝宝石、碳化硅、半导体、金属氧化物以及它们的组合。
6.按权利要求1所述的方法，其特征在于，所述颗粒的平均直径小于或等于5微米。
7.按权利要求1所述的方法，该方法还包括在加热之后，通过将包含颗粒和粘合材料的溶胶-凝胶沉积到经过涂覆的基材上形成另一层颗粒。
8.按权利要求1所述的方法，该方法包括重复成形和加热以形成光散射基材，其中所述光散射基材包含多层颗粒。
9.按权利要求1所述的方法，该方法还包括在加热之后，通过将包含粘合材料的溶胶-凝胶沉积到经过涂覆的基材上来沉积粘合材料层。
10.按权利要求9所述的方法，该方法包括重复加热和沉积粘合材料层，以形成光散射基材，其中所述光散射基材包含多层粘合材料。
11.一种光伏装置，该光伏装置包含根据权利要求1所述的方法制造的光散射基材。
12.按权利要求11所述的装置，该装置还包含: 与基材相邻的导电性材料；以及 与所述导电性材料相邻的活性光伏介质。
13.按权利要求11所述的装置，其特征在于，所述导电性材料是透明导电膜。
14.按权利要求12所述的装置，其特征在于，所述透明导电膜包含织构化的表面。
15.按权利要求12所述的装置，其特征在于，所述活性光伏介质与所述透明导电膜物理接触。
16.按权利要求12所述的装置，该装置还包含对电极，所述对电极与所述活性光伏介质物理接触，并设置在所述活性光伏介质与导电性材料相反的表面上。
全文摘要
提供包含至少一个表面的基材，通过在所述至少一个表面上沉积溶胶-凝胶来形成颗粒层，并加热经过涂覆的基材来制造光散射基材。
文档编号B32B5/16GK103098223SQ201180041630
公开日2013年5月8日 申请日期2011年8月29日 优先权日2010年8月31日
发明者G·E·科恩克, S·M·奥马利, V·M·施耐德 申请人:康宁股份有限公司