专利名称：具有改进的耐久性的成像元件的制作方法
技术领域：
本发明涉及具有改进的耐久性的成像元件，并且特别地涉及包含多种润滑剂的耐磨和抗刮伤层。
背景技术：
磨损缺陷是单独地具有几微米宽和亚微米到微米深的缺陷。它们能够作为整体形成，并且有时被称为“咬合痕”，它们通常在照相胶片的前面和后面被观察到，特别是与印刷电路板(PCB)光掩模一起使用的那些。它们由污物粒子的低压滑动接触或者与成像产品接触的粗糙表面所引起。这些缺陷可能仅仅是外观上的，不妨碍产品的使用，但即使这样也是完全不受欢迎的，因为这将导致工艺很差的印象。图像信息是以显影银的形式包含在照相胶片内的，虽然对于其他成像元件，其可能是重氮化合物的形式。如果咬合痕很严重，可能会失去某些图像信息，使媒介无用。
刮痕也是微米级宽度的缺陷，但是往往比咬合痕更深，并且倾向于单独地存在。它们还可能在成像介质的两个面上形成，特别是在PCB光掩模上形成，并且由较高压力的滑动或者物体与成像产品接触时的挖掘接触所引起。此外，如果失去在图像内包含的部分信息，导致介质变得无用，则这类缺陷是尤其严重的。
卡盘(chucking)磨损类似于如上所述的刮痕，但是引起所述缺陷的污物粒子倾向于在薄膜的小的区域上以随机移动的方式移动。当这样的粒子被包含在胶片叠层内，在运输胶片盒时没有使用真空包装而导致胶片滑动时，这样的粒子将引起这类损伤。因为粒子可能在其自己的路径上运动，因此这种缺陷也被称为重复的刮痕缺陷。
照相磨损(Photoabrasion)是在处理之前或者在处理期间在照相胶片上产生的缺陷。刮痕或者磨损缺陷对胶片造成这样一种程度的损害，以至于卤化银晶体在没有光的作用下也变成可显影的。这种缺陷作为在预期没有图像的区域中显影的银的线条或者一系列线条而显现。这可能使照相胶片对于其预定目的无用。
因此能够看到，在成像元件的前面或者后面存在耐磨性和抗刮伤性保护涂层通常是必要的。
黑和白高反差卤化银物质被广泛地用作用于复制到其他感光性物质上的学光接触的原型。例如，在印刷工业中，页分离(separations)借助于图象设定器曝光到胶片上，其然后通过紫外(UV)接触曝光被复制(曝光)到印刷版上。然后将曝光的印刷版处理，产生用于在印刷机上印刷的油墨-接受图像。有时通过裁切和粘贴来自各种来源的图像和文本来物理地组装页面，然后可以借助于照相机将组装的页面复制到另一张胶片上。在该胶片中的刮痕缺陷将除去图像，导致印刷版不能使用，而照相磨损缺陷将导致在印版上出现不希望有的线条。
这类处理的另一个实例是PCBs的制造，其中通过照相绘图仪将电子电路线路设计曝光到胶片中间物上，该中间物被称为照相工具(phototool)或者光掩模。在接触-印像机上，光掩模紧紧邻近于包铜的、抗蚀剂-覆盖的PCB基材定位。为了改进接触的紧密性，通常从所述接触框架中抽空空气。借助于接触框架内的光源提供入射辐射，例如紫外光，并且由光掩模接收并且通过掩模的开口直接传输到光致抗蚀剂层。所述掩模是照相胶片，并且掩模中的开口相当于胶片上图像的最小密度区域。
传输的辐射引起光致抗蚀剂性能的变化，例如硬化或者溶解，使得暴露于辐射的区域与借助于掩模层被遮掩的区域物理地不同。在曝光之后，对光致抗蚀剂进行处理，以从希望将铜蚀刻去掉的区域中将光致抗蚀剂除去，使得得到的结构具有铜暴露的区域和被光致抗蚀剂掩蔽的区域。然后将铜的暴露的区域蚀刻掉，蚀刻之后，从PCB中除去残留的光致抗蚀剂，以暴露印刷线图案。
PCB光掩模具有最需要满足耐久性要求，因为不同于大多数其他的照相胶片，显影图像在PCB光致抗蚀剂的成像中被使用许多次。例如，一旦被处理的图像设定器胶片可能被使用一次，来生产印刷版，而PCB光掩模在其使用寿命中可能被使用一千次，但是因为刮痕缺陷这可能被限制在更典型的一百次。因此，与大多数成像元件相比，光掩模通常由厚得多的最外层保护，即1.5微米的数量级，这可能导致润滑剂的使用效率低。
已经研究了各种方法来克服成像元件和特别是照相胶片可能遇到的各种损伤。US3,121,060描述了使用高级脂肪醇和高级脂肪酸的蜡状的酯，代表实例是改性鲸蜡油，作为未曝光形式的照相胶片的润滑剂，以降低通过胶片暗匣时的摩擦和提供更持久的润滑。其中没有公开将这些酯用于防止刮痕或者磨损。
US6,346,369中公开了一种成像元件，其包括抗刮伤最外层，该最外层覆盖成像层或者在与成像层相反的一侧，其由具有限定的物理性能的延性聚合物组成。据公开，所述元件具有对永久性刮痕的形成的抗性，这种刮痕可能在成像产品的制造和使用期间出现。公开了硅氧烷、脂肪酸和特别是巴西棕榈蜡润滑剂被用于在抗刮伤层上涂覆外涂层。其中没有公开所述元件能够提供耐磨性。
JP 63005339公开了感光材料，其载体的两个侧面上包括层，其中最外层的每一个包含有机基聚硅氧烷、含氟化合物和包含聚环氧乙烷单元的非离子表面活性剂的至少一种，其中在这些层的至少一个中存在所有上述三种物质。所表达的目的是控制静电电荷。
JP 63008642描述了具有良好的抗静电性能的感光材料，其包括包含有机聚硅氧烷和非离子表面活性剂的最外层，所述材料具有良好的润滑作用。
JP 01107255描述了这样一种材料，其中硅氧烷基化合物被包含在不同于最外层的至少一个层中，并且最外层包含不同的润滑剂，然而其也可以是硅氧烷化合物，降低滑动摩擦的材料。JP 03132754公开了具有良好的润滑性能和抗刮伤性的感光材料，通过将高级脂肪酸酰胺或者酯和硅氧烷化合物两者一起引入背衬层的最外面表面层中，其能够防止在处理之后的不均匀干燥。没有公开借此可以获得耐磨作用。
US5,019,491、5,702,864和6,482,580都描述了硅氧烷在成像元件最外层中的应用，其中硅氧烷与另一种润滑剂或者相似的附加物一起用于该相同的层。
上述文献没有公开在最外层中提供耐磨性的润滑剂与在中间层中提供抗刮伤性的润滑剂的成像元件中的组合。
本发明要解决的问题要解决的问题是发现一种成像元件，其具有提高的耐久性，特别是在抗刮伤性和耐磨性(特别是耐照相磨损性)方面的耐久性，其保持性能和制造的容易性，并且特别地涉及用于制造PCBs或者用于生产印刷版的元件，在这些元件中因磨损和刮伤引起的问题是特别尖锐的。
发明内容
按照本发明，提供了一种成像元件，其包括载体，在该载体上依次具有至少一个成像层、至少一个包含提供抗刮伤性的润滑剂的中间层和至少一个包含提供耐磨性的不同的润滑剂的最外层。
在本发明的另一个方面，提供了处理成像元件的方法，其包括用碱性显影液将如上所述的元件显影。
本发明的有利效果本发明的元件具有改进的耐久性，特别是在耐磨性(特别是耐照相磨损性)和抗刮伤性方面具有改进的耐久性。这在生产PCBs和印刷版中是特别有利的，因为其中一经处理的胶片被使用许多次，因此任何磨损或者刮伤都可能是重要的问题。
发明的详细说明用于本发明中的耐磨层是在成像元件的前面和/或背面上的最外层(可互换地称为“表面涂层”)。耐磨性通过润滑剂来提供，其通常是硅氧烷基材料，例如在以下文献中公开的那些美国专利3,294,537、3,489,567、3,080,317、3,042,522、4,004,927、5,288,602、4,047,958、4,675,278、英国专利955,061和1,143,118、JP 63008642、01234843、03123341、04174836和EP-A-0534218。优选地，所述润滑剂是低聚的或者聚合的硅氧烷润滑剂，其具有各种相连的官能基团，并且可以与另一种化合物共聚，并且具有以下通式(I) 其中，每个R1独立地是未被取代的或者被取代的具有1到8个碳原子的烷基基团或者未被取代的或者被取代的具有1到8个碳原子的烷氧基基团，R2、R3、R4和R5各自表示未被取代的或者被取代的烷基、环烷基、烷氧基烷基、芳烷基、烷氧基、芳氧基烷基、缩水甘油氧基烷基或者芳基，并且n和m各自表示0到大约2,500的正整数，条件是m和n不能两者是0。在那些基团上的任何取代基是不妨碍硅氧烷作为润滑剂的功能的那些。
优选地，每个R1是相同的，并且是未被取代的烷基基团，更优选具有1到3个碳原子，特别是甲基基团，或者烷氧基基团，优选具有1或者2个碳原子。此外优选R2、R3、R4和R5各自表示未被取代的烷基基团，优选甲基或者乙基，m是0并且n是2到大约2000的整数，更优选2-500，特别是5-50。
因此有用的通式(I)的硅氧烷包括商业上可得到的硅氧烷油，例如三烷基和三烷氧基末端封端的二烷基聚硅氧烷，例如二甲基聚硅氧烷、二乙基聚硅氧烷、三甲氧基末端封端的二甲基聚硅氧烷和三乙氧基末端封端的二甲基聚硅氧烷。通式(I)的硅氧烷通常具有的分子量为大约100到大约150,000、优选大约10,000到大约20,000，并且在25℃下的粘度为2到大约100,000厘沲、优选200到800厘沲。
用于本发明中的最优选的润滑剂是由Dow Corning制造的聚二甲基硅氧烷，名称DC-200TM，粘度为350厘沲，并且平均分子量为13,700，并且具有以下通式 其中n平均为183。
这类硅氧烷、特别是聚二烷基硅氧烷的制备和性能是众所周知的，并且描述在例如以下文献中Reuben Gutoffs论文，题目“硅氧烷流体制造”，刊登于“工业和工程化学”，第49卷，第1807-1811页。
通常将耐磨性润滑剂，例如通式(I)的聚硅氧烷，加入载运介质或者粘合剂，载运介质或者粘合剂方便地是明胶，在适合的分散剂存在下形成作为水分散体的元件的最外层，所述分散剂优选是非离子分散剂，例如聚乙二醇醚，例如TergitolTM15-S-5，烷基或者芳烷基聚醚醇，皂草苷或者钠磺基琥珀酸的二辛酯，或者阴离子表面活性剂，例如Alkanol XCTM。优选，耐磨性润滑剂在水分散体中的浓度为大约8到大约20％，优选大约10到大约15％，分散剂的浓度为大约1到大约5％，并且粘合剂的浓度为大约5到大约10％。
耐磨性润滑剂可以以对于预定目的有效的任何浓度使用，适合的浓度，以每平方米成像元件的mg表示，为大约5到大约100mg/m2、优选大约15到大约75mg/m2、更优选大约35到大约65mg/m2。
虽然耐磨性润滑剂，例如聚硅氧烷，通常是最外层中的主要润滑剂，但是还可以在该层中加入另一种润滑剂或者相似的附加物，只要其不不利地影响主要润滑剂的耐磨性能。
抗刮伤层是在成像元件的前面和/或背面上的最外面的表面涂层、耐磨性层下面的中间层。抗刮伤性由至少一种润滑剂提供，其不同于用于耐磨性层的那种。这可以是例如高级脂肪酸或者其衍生物，或者高级醇或者其衍生物。例如，所述润滑剂可以是高级脂肪酸的金属盐，高级脂肪酸酯，高级脂肪酸酰胺，高级脂肪酸的多元醇酯，如以下文献中公开的美国专利2,454,043、2,732,305、2,976,148、3,206,311、3,933,516、2,588,765、3,121,060、3,502,473和3,042,522,英国专利1,263,722、1,198,387、1,430,997、1,466,304、1,320,757、1,320,565和1,320,756，以及德国专利1,284,295和1,284,294。
优选，其是长链脂肪酸的高级脂肪酸酯，例如棕榈酸、硬脂酸、油酸、亚油酸、亚麻酸或者tauric酸，并且特别是棕榈酸酯，例如棕榈酸鲸蜡酯(十六烷酸十六基酯)。本发明中，优选的是使用“Spermalube”，其是由鲸产生的润滑剂的合成仿制品，并且包含十二酸十四基酯、十四酸十六基酯、棕榈酸鲸蜡基酯、己酸十八烷基酯和十二烷酸十六基酯的混合物。通常其是胶乳或者分散体的形式。在水分散体中，抗刮伤润滑剂通常的浓度为大约8到大约20％，优选大约10到大约15％，分散剂的浓度为大约1到大约5％，并且粘合剂的浓度为大约5到大约10％。
在中间层中的抗刮伤润滑剂通常的浓度，以每平方米成像元件mg表示，为大约5到大约100mg/m2、优选大约10到大约75mg/m2、更优选大约15到大约30mg/m2。
虽然抗刮伤润滑剂，例如脂肪酸或者脂肪醇，通常是中间层中的主要的润滑剂，但是也可以将另一种润滑剂或者相似的附加物加入该层，条件是其不不利地影响脂肪酸或者脂肪醇润滑剂的抗刮伤性能。
按照本发明使用的润滑剂总量可以与传统地使用的非常相似，但是在表面涂层和中间层中的不同润滑剂的特定组合导致对磨损和刮伤两者的有效保护。
本发明的成像元件可以具有许多不同的类型，这取决于它们预定的特定用途。这类元件包括，例如，照相元件，静电照相元件，光热照相元件，电热照相元件，电介质记录和热-染料-转移成像元件。关于各种各样的不同的成像元件的组成和功能的详细内容提供在美国专利5,340,676和其中描述的参考文献中，并且本发明可以有效地与其中描述的任何成像元件一起使用。
成像元件可以包括各种各样的载体。关于本发明中使用的载体的详细内容包含在以下文献中Research Disclosure，条目36544，1994年9月，和Research Disclosure，条目38597，1996年9月，以下简称“Research Disclosures”。
典型的载体包括硝酸纤维素薄膜、乙酸纤维素薄膜、聚乙烯醇缩醛薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚氯乙烯薄膜或者聚烯烃薄膜，例如聚乙烯或者聚丙烯，玻璃、金属、纸和聚合物涂布纸。本发明优选的载体是聚对苯二甲酸乙二醇酯。载体的厚度通常为大约25到大约250微米，优选大约95到大约180微米。
本发明的成像元件可以是简单的黑白元件，其包括带有感光卤化银乳胶层的载体，并且可以是多层形式。
在优选的实施方案中，本发明成像元件是黑白照相元件，例如照相胶片、照相纸或者照相玻璃板，其中成像层的至少一个是辐射-敏感的卤化银乳胶层。
用于本发明成像元件的感光卤化银乳胶可以包含粗粒的、普通的或者细粒的卤化银晶体，或者其混合物，并且可以包括例如氯化银、溴化银、溴碘化银、氯溴化银、氯碘化银、氯溴碘化银以及其混合物，但是优选包含氯溴化物。乳胶可以是例如片状的颗粒感光卤化银乳胶，并且可以是负性或者直接正性乳胶。它们可以主要地在卤化银颗粒的表面上或者在卤化银颗粒的内部形成潜像。
这类乳胶层通常包括成膜亲水胶体，这些中最通常使用的是明胶，其特别优选用于本发明。有用类型的明胶包括碱处理明胶(牛骨头或者皮明胶)、酸处理的明胶(猪皮明胶)和明胶衍生物，例如乙酰化明胶和邻苯二甲酸化明胶。可以单独使用或者与明胶结合使用的其他亲水胶体包括右旋糖酐、阿拉伯树胶、玉米醇溶蛋白、酪蛋白、果胶、胶原衍生物、火棉胶、琼脂、木薯粉和白蛋白。其他有用的亲水胶体是水溶性的聚乙烯基化合物，例如聚乙烯醇、聚丙烯酰胺和聚乙烯基吡咯烷酮。关于卤化银乳胶的详细内容包含在Research Disclosures以及其中列出的参考文献中。
亲水胶体可以包括聚合物，例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酰胺或者甲基丙烯酰胺，例如丙烯酸烷基酯，例如丙烯酸甲酯和丙烯酸丁酯，2-(甲基丙烯酰氧基)乙基乙酰乙酸酯或者2-丙烯酰氨基-2-甲基丙磺酸钠盐。可以使用上述单体的适合的共聚物，例如丙烯酸甲酯、2-丙烯酰氨基-2-甲基丙烷磺酸钠盐和2-(甲基丙烯酰氧基)乙基乙酰乙酸酯(88∶5∶7重量)的共聚物，和/或丙烯酸丁酯、2-丙烯酰氨基-2-甲基丙磺酸钠盐和2-(甲基丙烯酰氧基)乙酰乙酸乙酯(90∶4∶6重量)的共聚物。可以使用上述聚合物或者共聚物的两种或多种的共混物，特别是丙烯酸甲酯和丙烯酸丁酯的共混物。
除以上描述的乳胶层、中间层和最外层之外，本发明的元件可以包括一个或多个成像元件中的普通的辅助层，例如消晕层，如在“Research Disclosures”中公开的，其可以包括亲水胶体和以上描述的聚合物。消晕层可以提供在载体的任何侧面上，以便降低光散射，并且可以包括可以用作非光谱增感染料的任何染料，其可以吸收在限制的或者宽的波长范围内的反射和散射光。
适合的染料列在以上公开的Research Disclosures中，并且可以是例如merostyryl、吡唑、吡咯或者噻吩，或者优选oxonol染料，更特别是五甲炔花青oxonol染料。在优选的实施方案中，消晕染料包括在亲水胶体下层中。所述染料还可以溶解在或者分散在下层中。
可以包括在成像领域中普通的其他附加物，如ResearchDisclosures中所述，例如稳定剂或者防阴翳剂，例如氮杂茚、三唑、四唑、噻唑、咪唑盐和多羟基化合物；薄膜硬化剂例如醛、氮丙啶、异唑、丙烯酰基、三嗪、环氧化物或者吖丙啶类型，或更优选乙烯基砜类型，特别是1，3-乙烯基磺酰基-2-丙醇；防着色剂，防色斑剂，吸收物质，例如滤光染料，涂布助剂，增塑剂，表面活性剂，聚结助剂和抗微生物剂。
所述乳胶优选是化学增感的，例如用硫和金增感，并且优选也用染料进行光谱增感，按照通常作法，通常使用三核部花青染料。
可以存在多于一种类型的光谱增感的卤化银颗粒，由此在乳胶层中可以存在对不同的光谱区增感的颗粒。该涂层可以通过共混两种或多种包含具有要求的光谱灵敏度的乳胶熔体来制备，能够生产多波长敏感性产品，并且通过材料和库存减少两者产生生产成本方面的优点。在一个层内结合不同的乳胶颗粒可以在多层图形成核系统的工艺灵敏度中获得改进，如EP-A-0682288中所述。
卤化银颗粒可以用单独的或者混合的铑、钌、铱、锇或者其他族VIII金属掺杂，掺杂水平优选为10-9到10-3、优选10-6到10-3摩尔金属/摩尔银。所述颗粒可以是单分散或者多分散的。优选的族VIII金属是铑和/或铱，并且可以方便地使用五氯铑酸铵。
潜像形成层可以包含能够提供高反差显影的成核剂，并且可以例如如以下文献中所述美国专利4,988,604、4,994,365和5,288,590、EP-A-0333435、EP-A-1008902和EP-A-1229328。
例如可以使用具有以下通式的芳基亚磺酰氨基苯基酰肼成核剂 其中，BG是适合于保护(肼)基团、但是必要时可以容易地除去的保护基团；A1和A2之一是氢原子，另一个是氢原子、酰基基团或者烷基-或者芳基-磺酰基基团，该基团的任何一个可以是被取代的；V和W独立地是被取代的或者未被取代的亚芳基基团；r是1到6；和R选自S-R’，其中R’是未被取代的或者被取代的包含至少三个亚乙基氧基单元的一价基团，和带正电荷的被1到3个未被取代的或者被取代的烷基基团取代的吡啶残基，以及其缔合的阳离子。
优选，A1和A2的每一个是氢原子，BG是甲酰基，V和W各自是未被取代的或者被取代的苯基基团，r是1并且R是基团S-R’，其中R’是包含四个亚乙基氧基单元、被烷基基团取代的一价基团。
本发明的成像元件还可以包含助促进剂化合物，以提高超高对比和促进活性。可选择地，助促进剂化合物可以存在于显影液中，如EP-A-1229328中所述。
一种这样的助促进剂是胺，其(1)包含至少一个仲或者叔氨基基团，和(2)具有至少一、优选至少三、并且最优选至少四的正辛醇/水分配系数(logP)。
优选这类胺在其结构内包含这样的基团，该基团包含至少三个重复的亚乙基氧基单元，如美国专利4,975,354中所述。这些单元优选直接连接于叔氨基基团的氮原子。用于包含在本发明照相材料中的特别优选的氨基化合物是具有至少三的分配系数并且具有由以下通式表示的结构的双叔胺R1R2N(CH2CH2O)nCH2CH2NR3R4其中，n是3到50的整数，并且更优选10到50；R1、R2、R3和R4独立地是具有1到8个碳原子的烷基基团，或者R1和R2合起来表示形成杂环所需的原子，和/或R3和R4合起来表示形成杂环所需的原子。
用于本发明成像元件中的或者用于其显影剂中的特别优选的助促进剂是其中上述通式R1、R2、R3和R4各自是正丙基基团并且n是14的助促进剂，即具有以下结构 适合作为助促进剂化合物的特定的胺列在EP-A-0364166中，并且其他类型的助促进剂描述在美国专利5,744,279和5,744,279中。
成核剂和任选地助促进剂化合物可以被引入成像元件，例如卤化银乳胶层。可选择地，它们可以存在于成像元件的亲水胶体层中，优选这样的亲水层中，该层靠近乳胶层涂覆，在该乳胶层中希望存在成核剂的作用。然而，它们可以存在于这样的成像元件中，该成像元件在乳胶和亲水胶体层之间或者当中分布，例如底涂层、中间层和外涂层。
本发明成像元件特别适合于借助于红光或者红外线激光二极管、发光二极管或者气体激光器例如氦/氖或者氩激光器来曝光。
本发明的涂料组合物可以通过许多众所周知的技术的任何一种来涂覆，例如浸涂、棒条涂布、刮涂、空气刀涂、凹版涂布、逆辊涂布、挤压涂布、滑动涂布和幕涂。
包含在成像元件中的感光卤化银可以在曝光之后处理，以形成可见影像，这通过在显影剂存在下使卤化银与含水碱性介质缔合来完成，所述显影剂包含所述介质或者元件中。当成像元件包含引入的显影剂时，所述元件可以在活化剂存在下被处理，该活化剂可以与否则缺乏显影剂的组合物中的显影剂相同。
显影剂通常是水溶液，虽然也可以包含有机溶剂，例如二甘醇，以便于有机组分的溶解。显影剂包含一种普通的显影剂或者普通的显影剂的混合物，例如多羟基苯，例如二羟基苯(氢醌)、氨基苯酚、对苯二胺、抗坏血酸、异抗坏血酸和其衍生物、吡唑烷酮、吡唑啉酮、嘧啶、连二亚硫酸盐或者羟胺。优选的是与抗坏血酸基系统混合使用氢醌和3-吡唑烷酮显影剂。还可以使用具有超添加剂性能的辅助的显影剂。显影剂的pH可以用碱金属氢氧化物和碳酸盐、四硼酸钠及其他碱式盐调节。特定的说明性的显影剂公开在以下文献中化学和物理手册，第36版，题目“照相制剂”，第30001页及以下，以及“照相化学药品和配方”，第6版，由Eastman Kodak公司出版(1963)。
参考以下实施例进一步描述本发明，但是本发明不局限于这些实施例。
实施例1(对比)制备的薄膜涂层由聚对苯二甲酸乙二醇酯(ESTARTM)载体组成，在该载体上涂覆消晕底层，成像乳胶层，中间层以及保护明胶表面涂层。使用双乙烯基砜硬化剂将所述层硬化。
消晕底层所述底层由1.00克明胶/m2和1.00g/m2的丙烯酸甲基酯和丙烯酸丁基酯的共聚物组成。所述层还包含61.5mg/m2的胺助促进剂，其具有结构
220mg/m2的固体颗粒消晕染料，其具有结构 和防色斑剂，Tiron，其以98mg/m2的覆盖率加入。
成像乳胶层潜像形成乳胶层由70∶30氯溴化物立方单分散乳胶(0.215微米平均边缘长度)组成，其用铑盐掺杂，用硫和金化学增感，和用190毫克/Ag摩尔的三核部花青增感染料光谱增感，该增感染料具有结构 该乳胶以3.15g/m2的银覆盖度在1.94g/m2明胶和1.155g/m2丙烯酸甲酯和丙烯酸丁酯的共聚物的基质中涂覆。其他附加物包括2-巯基甲基-5-羧基-4-羟基-6-甲基-1，3，3a，7-四氮杂茚、1-(3-乙酰氨基苯基)-5-巯基四唑和2，3-二氢-2-硫代-4-噻唑乙酸。该层还包含12.5g/m2的成核剂化合物，其具有结构
中间层中间层以0.935g/m2的明胶涂覆量涂覆，并且该层包含162mg/m2的氢醌。
表面涂层表面涂层以0.565g/m2的明胶涂覆量涂覆。该层包含表面活性剂(LodyneTMS-100和TritonTMX200)，以便可以涂布，60mg/m2的润滑剂“Spermalube”，和140g/m2在固体颗粒安全光保护染料，其具有结构 所述“Spermalube”包含0.26％十二烷酸十四基酯21.26％十四烷酸十六基酯32.13％棕榈酸鲸蜡基酯(十六烷酸十六基酯)28.43％己酸十八烷基酯，和8.01％十二烷酸十六基酯。
实施例2(对比)以与实施例1中的胶片同样的方式制备胶片，除了60mg/m2的DC-200TM350CST，平均分子量为13,700的聚合的聚二甲基硅氧烷，被用于表面涂层，代替所述“Spermalube”。
实施例3(本发明)以与实施例1中的胶片同样的方式制备胶片，除了将60mg/m2的DC-200TM用于表面涂层，并且中间层包含15mg/m2的“Spermalube”润滑剂。
实施例4(本发明)以与实施例1中的胶片同样的方式制备胶片，除了将60mg/m2的DC-200TM用于表面涂层，并且中间层包含30mg/m2的“Spermalube”润滑剂。
将样品曝光，然后在KODAKTMACCUMAXTM2000RA显影剂(稀释的1+2)中，在35℃下显影45s，然后进行普通的定影，洗涤和干燥。然后将胶片在50％RH、21℃下调节至少4h(过夜)。
对所述胶片进行耐久性试验，这通过在Taber线性抗磨性测定仪(5700型)(TABERTMINDUSTRIES(455 Bryant Street NorthTonawanda，New York 14120)制造)上磨蚀来进行，其中使用CS-10“Wearaser”磨蚀头，总负载为60个周期/min下1100g，进行总共30个周期，并且重复试验3次。测量未磨损表面的密度(Dmax)，并且在代表性的磨损部分上测量磨损的区域15次。将磨损密度的平均值与Dmax对比，因此可以确定密度保留百分比，其中100％表示没有损伤。还将所述胶片与商业上可得到的胶片，Fuji IPR-175对比。
表I
表II
从以上可以看到，在对照实施例中，在表面涂层中加入“Spermalube”润滑剂提供差的耐磨性，而用聚硅氧烷润滑剂替代它产生了改进的效果。然而，将聚硅氧烷润滑剂加入表面涂层，并且将“Spermalube”加入中间层，进一步改进了耐磨性。能够看出，商业上可得到的胶片具有很差的耐磨性。
然后用样品进行重复的刮伤试验，包括用80g载荷负载120°金刚石测头，然后在胶片样品上拖曳该测头，以导致刮伤。在相同的刮痕上重复试验最多四次。沿着刮痕长度检验损伤情况，即银的完全除去，其中100％的标记表示安全除去。
表III
表III中的结果显示，在四次刮伤之后，在表面涂层中包含“Spermalube”或者聚硅氧烷的对照实施例导致银的完全除去。当聚硅氧烷存在于表面涂层中，并且“Spermalube”存在于中间层中时，与商业上可得到的胶片相比，抗重复刮伤性即使不是更好，也是相当的。
使用具有1100g负载的Taber线性抗磨性测定仪可以研究胶片对预处理磨损的敏感性。在没有光的情况下将胶片磨损，然后如前面描述的进行处理，这样产生暗线或者一系列细线。重复测试两次，并且测量每个小片的密度15次，以获得平均密度测量值，高密度表示对预处理磨损具有差的抗性。
表IV
正如可以从表IV中清楚看到的，使用本发明元件的实施例，其中在表面涂层和中间层中具有两种不同的润滑剂，与单独的润滑剂和商业上可得到的胶片两者相比，具有优良的抗预处理磨损性。
实施例5-16使用与以上相同的物质，制备三-或者四-层涂层。对于三层实施例，表面涂层用1.5g/m2的明胶覆盖度涂覆，并且安全光染料、氢醌和润湿剂如前面的描述，润滑剂的量和类型在表V中给出。对于四层涂层，表面涂层被分成两个层，其总厚度因此等于三层形式中的表面涂层。安全光染料和氢醌保留在新的中间层中，润湿剂残留在新的表面涂层中。明胶在新的表面涂层中的量是0.5g/m2，而在新的中间层中是1.0g/m2。
如在表V中所述，在表面涂层或者中间层中使用了相同的润滑剂，其中“Spermalube”被缩写为SP，并且聚二甲基硅氧烷DC-200TM被缩写为DC。如前面所述，对胶片进行照相磨损试验，除了使用850g的较轻的负荷，以便表IV和V中的值之间没有相关性。
表V
如表V所示，没有中间层的三层形式，如在实施例1到8中的情况，无论润滑剂单独使用还是混合使用，显示差的或者很差的照相磨损抗性。
在表面涂层中没有润滑剂的四层形式(实施例9)中，同样具有很差的照相磨损抗性。然而，可以看到，甚至在中间层中存在少量的“Spermalube”连同在表面涂层中的聚硅氧烷(实施例11)，与在中间层中没有润滑剂的实施例10相比，获得了照相磨损抗性的改进。应当注意到，只有使用本发明的元件，其中在表面涂层和中间层中具有两种不同的润滑剂，才能获得低于0.03的可接受的密度。
在此提到的专利和出版物的全部内容在此引入作为参考。
已经参考优选的实施方案详细描述了本发明。本领域技术人员能够理解，在本发明的精神和范围内可以进行变化和修改。
权利要求
1.一种成像元件，其包括载体，在该载体上依次具有至少一个成像层、至少一个包含提供抗刮伤性的润滑剂的中间层和至少一个包含提供耐磨性的不同的润滑剂的最外层。
2.权利要求1的元件，其中提供耐磨性的润滑剂是聚硅氧烷基润滑剂。
3.前述权利要求任何一项的元件，其中提供耐磨性的润滑剂是具有以下通式(I)的聚硅氧烷 其中，每个R1独立地是未被取代的或者被取代的具有1到8个碳原子的烷基基团或者未被取代的或者被取代的具有1到8个碳原子的烷氧基基团，R2、R3、R4和R5各自表示未被取代的或者被取代的烷基、环烷基、烷氧基烷基、芳烷基、烷氧基、芳氧基烷基、缩水甘油氧基烷基基团或者芳基基团，并且n和m各自表示0到2,500的正整数，条件是m和n两者不能是0。
4.权利要求3的元件，其中在通式(I)中，每个R1是相同的并且是未被取代的具有1到3个碳原子的烷基基团或者具有1或者2个碳原子的烷氧基基团。
5.权利要求3和4任何一项的元件，其中R2、R3、R4和R5各自表示未被取代的烷基基团。
6.权利要求3到5任何一项的元件，其中m是0并且n是2-500的整数。
7.前述权利要求任何一项的元件，其中提供耐磨性的润滑剂具有350厘沲的粘度和13,700的平均分子量，并且具有通式 其中n平均为183。
8.前述权利要求任何一项的元件，其中提供耐磨性的润滑剂的浓度为大约35到大约65mg/m2。
9.前述权利要求任何一项的元件，其中提供抗刮伤性的润滑剂是高级脂肪酸或者其衍生物，或者高级醇或者其衍生物。
10.权利要求9的元件，其中所述润滑剂是高级脂肪酸的金属盐、高级脂肪酸酯、高级脂肪酸酰胺或者高级脂肪酸的多元醇酯。
11.权利要求9和10任何一项的元件，其中所述润滑剂是脂肪酸衍生物，所述脂肪酸选自棕榈酸、硬脂酸、油酸、亚油酸、亚麻酸或者tauric酸。
12.权利要求11的元件，其中所述润滑剂包括“Spermalube”。
13.前述权利要求任何一项的元件，其中提供抗刮伤性的润滑剂的浓度为大约15到大约30mg/m2。
14.前述权利要求任何一项的元件，其中所述元件选自照相、静电照相、光热照相、电热照相、电介质记录和热-染料-转移成像元件。
15.权利要求14的元件，其中所述元件是黑白照相元件，其中成像层的至少一个包括辐射敏感的卤化银乳胶层。
16.权利要求15的元件，其中卤化银乳胶包括银氯溴化物乳胶。
17.前述权利要求任何一项的元件，其中所述元件包括能够在潜像形成层中提供高反差显影的成核剂。
18.前述权利要求任何一项的元件，其包括助促进剂。
19.处理前述权利要求任何一项的成像元件的方法，其包括将所述元件用碱性显影液显影。
全文摘要
本发明提供了成像元件，其包括载体，在载体上具有依次的至少一个成像层、至少一个包含提供抗刮伤性的润滑剂的中间层和至少一个包含提供耐磨性的不同的润滑剂的最外层，以及处理所述元件的方法。所述元件具有提高的耐久性，特别是在抗刮伤和耐磨(特别是照相磨损)性方面具有提高的耐久性，同时保持性能并且易于制造。优选所述元件用于制造印刷电路板或者生产印刷版，其中磨损和刮伤的问题是特别尖锐的。
文档编号B41M5/40GK1902545SQ200480039159
公开日2007年1月24日 申请日期2004年11月25日 优先权日2003年12月24日
发明者S·D·斯拉特 申请人:伊斯曼柯达公司