用于印刷胶版生产的层压装置和方法

专利名称：用于印刷胶版生产的层压装置和方法
技术领域：
本发明总体上涉及一种印刷胶版生产系统，更具体地讲，涉及用于 将掩蔽膜层压在预压印刷胶版上以便使所述胶版与所述膜掩模光学接 触的i殳备和方法。
背景技术：
是一个多步骤的过程，它能在基片上产生多个层，为将图像放置到所述 前体上的后续步骤做好准备。所述印刷胶版前体通常由适合胶版印刷的 基片组成，具有一个或多个光聚合层，以及可选择的氧气阻挡层。在所 述过程中，可以形成能够在其中形成掩蔽图像的膜或部件，然后，用于 形成具有浮雕图像的图像部件。所述掩模-成型膜可方便地用于制备印刷 胶版，并且用于生产所述胶版的方法。
在表面上具有激光-可烧蚀的掩蔽层的对辐射敏感的部件为本领域 所公知。浮雕图像可以在不使用数字负像或其它图像部件或掩蔽装置的 前提下在所述部件上产生。具有激光-可烧蚀的掩蔽层的膜可以通过激光 辐射(一般为计算机控制的红外辐射激光)进行成像曝光，以便选择性 地除去所述曝光区域的掩蔽层而形成。然后让所述掩蔽膜与对辐射敏感
的部件接触，并且通过光化辐射(例如，uv辐射)进行全面曝光，以
便固化非掩蔽部位的对辐射敏感的部件，并因此在所述部件上形成掩才莫 的负像。然后对包括所述掩蔽层和成像的对辐射敏感的部件(如成像的 印刷板前体)的膜进行溶剂显影。在未曝光的印刷板部位和掩蔽层进行 充分显影，并且在干燥之后，将所得到的图像部件用于，例如用作印刷 胶版。
尽管具有整体激光-可烧蚀的掩蔽层的印刷胶版可以用激光进行直 接成像曝光，并且不需要独立的掩蔽装置，但是成像的时间一般太长， 因为该系统对成像辐射的灵敏度较低。为了克服这一问题，本行业业已 进行了各种尝试，包括提高所述掩蔽层的红外线辐射灵敏度。不过，获 得较高的灵敏度一直是一个挑战，因为必须同时满足波动较大的质量标准。另外，该方法需要使用装配有高功率激光的成像装置。该装置是专 门设计用于印刷胶版制品成像的。由于需要根据特定的预期用途改变所 述印刷胶版的厚度，所述整体掩蔽方法可能需要一个以上成像装置。
在生产和使用掩蔽膜领域的一项重大进展4皮露在由Eastman Kodak 公司所拥有的若干出版物中，包括美国专利公开号2005/0227182 (Ali 等人，以下^t称作US ，182),该文献披露了一种方法，其中，盖板在 曝光之前^皮去掉，以及SN 11/130, 065,和申请号93576,该文献4皮露 了一种方法，其中，所述盖板是在曝光之后被去掉。所披露的方法提供 了生产掩蔽图像的各种方法，这些方法由于具有更大的成像灵敏度而需 要明显较少的时间。
在常规生产线上，层积在所述基片上的各个层需要在这些层是粘性 的过程中进行保护，例如，在层压期间或不需要的特性，如延迟后，会 导致不均匀性，甚至是形成不能使用的印刷胶版前体。
上述问题可以通过使用专门设计的设备和相关的方法克服，通过对 所述印刷胶版和掩蔽膜施加平衡的，非变形力，将掩蔽膜层压在预压印 刷胶版，以便使所述胶版形成光接触。

发明内容
本发明总体上涉及印刷胶版系统，更具体地讲，涉及一种设备和用 于一种设备的方法，以及通过对印刷胶版和掩蔽膜施加平衡的，非变形 力，将掩蔽膜层压在预压印刷胶版上的相关方法，使所述胶版发生光学 接触。所述方法包括用膜掩^t层压预压印刷胶版通过施加最优化层压 力，以便实现光学接触，同时最小化横向膜变形。


图1是可以施用本发明的方法的胶版印刷(flexographic prmtmg ) 的示意图2是可施用于印刷胶版或印版(flexograhic prmt)的本发明方法 的流程图3是可施用于印刷胶版的本发明的层压(或层叠)装置的示意图； 图4表示可施用于印刷胶版的本发明的层压装置的透视6图5表示可施用于印刷胶版的所述层压装置的一部分的俯视透视
图6表示可施用于印刷胶版的所述层压装置的一部分的俯枧透视
图7表示可施用于印刷胶版的所述层压装置的一部分的正视图； 图8表示可施用于印刷胶版的所述层压装置的一部分的俯视图； 图9是表示所述层压装置的一部分的示意图，包括可施用于印刷胶
版的本发明的支撑门架；
图10是表示可施用于印刷胶版的所迷层压装置的一部分在加载期
间的示意图11是表示可施用于印刷胶版的所述层压装置的一部分在加载期 间的示意图；以及
图12是可以采用的本发明的层压(或层叠)方法的流程图。
具体实施方式

定义
除非另有说明，在此描述的"膜"是本发明的实施例。所述膜还可以 ,支称作"掩饰部件"，4备饰膜"，或"掩蔽或遮蔽部件"。在成1^象时，所迷膜 可被称作"掩模"，"成像的膜"，或"成像的掩蔽膜"，并且包括"掩饰图像"。 除非另有说明，百分比是重量百分比。
在此使用的术语"对辐射敏感的部件"包括任何可成像的部件或材 料，其中，浮雕图像可以通过对所述成像的掩蔽膜进行曝光来产生。对 辐射每丈感的部件的示例包括，但不局限于印刷(或打印)胶版前体，印 刷电^各板，和印刷"交版前体。
通过术语"可烧蚀的"，来表达可以采用热烧蚀(ablating)手段或方 法如激光辐射使膜的可成像层成像，所述热烧蚀手段或方法使得所述可 成像层快速局部变化，由此导致所述可成像层中的材料从所迷层中喷射 出。这其它材料转移或成像技术是有区别的，其中，化学变化而不是物 理变化(例如，熔融，蒸发，或升华)是成像的主要机理或机制。
通过术语"光学接触"，来表达两层或两个表面(如在所述成像的掩
提供"无空气的界面"。更确切地讲，两个表面被定义为在它们的界面的
7反射和透射特征基本上通过位于折光指数边界的反射和透射的菲涅耳
定律(Fresnel laws )来描述时处于光学接触中。 膜
本发明的膜被用来形成掩蔽图像，所述掩蔽图像最终被用来形成浮 雕图像。所述膜可以包括一个或多个层，所述层包括一个或多个阻挡层， 中间体或中间(体)层，粘结层(或粘接剂层)，或通常用于本领域的 掩蔽膜中的其它层，按照上面所提到的专利文件US '182中描述的层。 可以在一种或多种不同的成像方法中使用不同的膜构造。
载体板(或载片)
所述载体板是所述掩模的 一部分，它可以是任何合适的透明的基 片。有用的载体板包括，但不局限于，透明的聚合物膜和片材，如聚酯， 它包括聚(对苯二甲酸乙二醇酯)，聚(萘二曱酸乙二酯)，和氟化聚酯 聚合物，聚乙烯，聚丙烯，聚丁二烯，聚碳酸酯，聚丙烯酸酯，聚氯乙 烯，及它们的共聚物，以及水解的和非水解的乙酸纤维素。 一般，所述 载体板的厚度为20-200 ,。例如，由DuPont Teij in Films (Hopewell, VA)公司以MELINEX为商标出售的透明的聚(对苯二曱酸乙二醇酯) 片材适合这一用途。
如果需要，可以对所述载体板的表面进行处理，以改变它的可湿润 性和对所涂敷的涂料的附着力。这类表面处理包括，但不局限于电晕放 电处理，以及涂敷胶层(application of subbing layers )。另夕卜，所述载 体板可以包括一种或多种"附着力促进剂"，无论怎样类型的层或无论所 述具有怎样的用途，所述附着力促进剂都能改善载体板和邻接的相邻层 之间的附着力。有用的附着力促进剂包括，但不局限于，明胶，聚偏二 氯乙烯，聚(丙烯腈-共-偏二氯乙烯-共-丙烯酸)，和聚氮丙啶。
透明层
所述可选的透明层一般包括一种或多种膜形成聚合材料或由其组 成，所述材料共同产生的折光指数或折射率低于所述载体板(或位于所 述透明层和所述载体板之间的任何可选的紧相邻的层)的折光指数。折 光指数或折射率的这种差别可能低至0.04,而更常见的是至少0.08。本 领域技术人员可方便地确定有用的聚合物膜形成材料，因为有数百种可 通过商业渠道获得的可用的材料。为了确定特定材料是否有用，可以通 过以下方法确定它的折光指数(如果无法从现有文献或商品说明书中获知的话)，所述方法包括，例如，在所需的波长范围内对所述材料的薄 而均匀的薄膜进行光学扫描时精确测定干涉最大值的位置。然后将所述 折光指数与所述载体板(或可选择的中间层)的折光指数进行比较，后 者的折光指数为本领域所公知或者可以使用公知方法，如上文所述的方 法测定。
可成像层
可成像层或多个可成像层一般作为相对均匀的涂层(也就是，是大 体上连续的且具有相当一致的厚度)设置在透明层或多个透明层上。在 某些实施例中，所述可成像层和它下面的透明层是所述载体板上的仅有 的层。在其它实施例中，存在着多个层，这些层包括多个成像层或带有 阻挡层、中间层的可成像层或下面所披露的其它层。
所述可成像层的(各)成分被选择成可在合适的印刷胶版显影剂中 溶解或膨胀，包括如下文所披露的氯化的有机溶剂，和非氯化的有机溶 剂，所述有机溶剂被用来在通过所述成像的掩蔽膜所述对辐射敏感的部 件用可固化(或硫化)的辐射曝光之后产生所述浮雕图像。
所述可成像(多)层一般包括一种或多种"着色剂"或根据所述层的 总固体产生或不产生可见颜色的物质。所述着色剂 一般能够大量吸收所 述硫化辐射，或能够阻挡固化辐射。
如在此使用的，术语"着色剂"表示能够大体上阻挡穿过所述掩饰图 像的固化辐射的透射的成分。所述着色剂可以是一种或多种染料或色 素，或其混合物，所述燃料或色素能提供所需要的光学特征。它可以是 如在下文中所披露的散布或分散在聚合物粘结剂中的颗粒材料。例如， 它们可以是黑色染料或色素，如碳黑，金属氧化物，以及诸如在专利文
件US '182中所披露的其它材料(如上文所述)。有用的是，所述色素 或染料大体上是不吸收IR的，从而不会对所述对辐射敏感的部件产生 负面影响。例如，所述着色剂能够吸收UV或可见光辐射，并且在很多 实施例中，所述着色剂是UV-吸收染料。 对辐射敏感的部件
在专利文件US '182 (如上文所述)中提供了有用的对辐射敏感的 部件，如印刷胶版前体，印刷电路板，和印刷胶版的相当多的细节。所 述部件包括合适的尺寸稳定基片，至少一个对辐射敏感的层，以及可选 择的分离层或离层，盖板，或金属层。合适的基片包括尺寸稳定的聚合物膜和铝板。优选聚酯薄膜。能够使用在此描述的膜产生浮雕图像的任 何对辐射敏感的部件都可用于本发明的实施中。
所述对辐射敏感的部件可以是正-负工作的部件，不过，它一般是负 工作的，并且通常包括可见光-或UV-敏感的可成像层，所述可成像层包
含有可见光-辐射或UV-辐射固化的组分(或合成物(composition)), 所述组分可以在暴露于所述硫化辐射时通过聚合或交联固化(或硫化) 或硬化。例如，所述对辐射敏感的部件可以是UV-敏感的。在专利文件 US '182 (如上文所述)中提供了所述对辐射敏感的部件的各种成分的很 多细节，并且其被结合于此作为参考。
某些实施例还包括可去掉的盖板或盖片。所述盖板保护所述对辐射 敏感的可成像层不受指紋和其它损坏的影响，并且设置于所述对辐射敏 感的可成像层和所述盖板之间，以便所述胶版不会导致不完善或错误， 这些不完善或错误可能使胶版印刷系统减速或者甚至是停机，如图l所 示。所示出的系统包括印版滚筒l,压印滚筒2,阿尼洛韧皮纤维(anilox) 和上墨(fountain)辊3和4,油墨盘5，以及刮墨刀6。所示出的支撑 着印刷胶版7的印版滚筒1被用来将图像8印刷在受体9上。
所述对辐射敏感的可成像层可以包括弹性体粘结剂，至少 一种单 体，和对非-IR辐射敏感的引发剂。在大多数场合下，所述引发剂会对 UV或可见光辐射敏感。合适的引发剂组分或包括，但不局限于如在美 国专利文件Nos.4323637( 4受予Chen等人)，4427749( 予Gmetzmacher 等人)，和4894315 (授予Femberg等人)中所披露的。
所述弹性体粘结剂可以是单 一 聚合物或聚合物的混合物，它们可以 在含水的，半含水的或有机的溶剂显影剂中溶解，膨胀或分散，并且包 括，但不局限于，可以在有机溶剂中溶解，膨胀或分散的粘结剂，如共 扼二烯，嵌段共聚物，芯皮微凝胶的天然或合成聚合物，以及微凝胶和 预成型的大分子聚合物的掺和物(或混合物)。所述弹性体粘结剂可以 占所述可成像层的总的层固体的65%。所述弹性体粘结剂的更多细节在 专利文件US'182 (如上文所述)中的
部分中披露，并且该文件被 结合于此作为参考。
所述可成像层还可以包括单一的单体或单体的混合物，它们必须是 与所述弹性体粘结剂相兼容的达到能产生透明的，非浑浊的对辐射敏感 的层的程度。用于这一目的的单体为本领域所公知的，并且包括具有4支
10低分子量( 一般低于30000 Daltons (道尔顿))的乙烯化不饱和的可聚 合化合物。合适的单体的示例包括各种单一-和聚丙烯酸酯，异氰酸酯、 酯和环氧化物的丙埽酸衍生物。特定的单体披露于专利文件US '182 (如 上文所述)的
部分中，并且该文件^皮结合于此作为参考。
所述光引发剂可以是单一化合物或化合物的组合，它们对可见光或 UV辐射敏感，并且能产生启动所述单体或多个单体的聚合的自由基， 而又没有过度的终止， 一般占成像层的总的干重量的0.001-10%。合适 的引发剂的示例包括取代或未取代过的多核奎宁，并且，进一步的细节 披露于专利文件US'182 (如上文所述)的
部分中，并且该文件祐: 结合于此作为参考。
所述对辐射敏感的层可以包括可以提供各种特性的其它附加物，这 些包括，但不局限于感光剂，增塑剂，流变学修饰剂，热聚合抑制剂， 增粘剂，着色剂，抗氧化剂，抗臭氧剂和填料。
所述对辐射敏感的可成像层的厚度可以根据所希望的成像胶版的 类型而改变。在某些实施例中，UV-壽1感型可成^象层的厚度可以为 500-6400 jim。
形成掩蔽图像
在实施本发明过程中，在本发明的膜上产生曝光的和非曝光区域或 部位来形成掩蔽图像。成像机制的选择将决定在形成所述掩蔽图像方面 的可能的变化，如下文所述。
对所述膜的曝光可以在选定的区域进行，所述曝光另外被称作"成 像曝光"。^t拟和数字方法都可用于成像曝光，并且是本领域的常规方 法。在某些实施例中，成像曝光可以使用来自激光的激光辐射完成，所 述辐射是在计算机控制下进行扫描或光栅化的。任何已知的扫描装置都 可以使用，包括平板型扫描器，外鼓型扫描器和内鼓型扫描器。在这些 装置上，将所述膜固定在所述鼓或平板上，并且将所述激光束聚焦成可 以打在所述膜上的 一 个点。可以用两种或多种不同的激光器同时扫描所 述膜的不同区域或部位。
例如，所述膜可以用红外辐射曝光，例如，700-1400 nm范围的红 外线。所述膜包括一种或多种如上文所述的红外辐射吸收化合物，以提 供对红外辐射的灵敏度。在这些实施例中，所述膜可适当地安装在红外 成像仪上，并且用红外辐射曝光，使用红外激光器，如二极管激光器或Nd: YAG激光器，这些激光器可以在计算机控制下进行扫描。合适的 红外成像仪包括，^旦不局限于/人ECRM (Tewksbury, MA)购买的 DESERTCAT 88成像仪，用于色彩校样，从Eastman Kodak公司
(Burnaby, British Columbia, Canada)购买的TRENDSETTER激光照 排机和ThermoFlex印刷胶版CTP成像仪，用于CTP印刷胶版用途， 并且用于成像印刷胶版部件，从Presstek ( Hudson, NH ) 购买的 DIMENSION激光照排机，用于CTP印刷胶版用途，从Esko-Graphics
(Kennesaw， GA) 购买的CYREL Digital成像仪(CDI SPARK), 和从Misomex International (Hudson, NH)购买的O画ISETTER成像 仪，用于成像印刷胶版部件。
在其它实施例中，所述膜用可见激光光线曝光，例如，400-750 nm 范围内的激光。可以使用的市场上可购得的照相排版仪(filmsetter)和 激光照排机(imagesetter)包括，但不局限于ACCUSET Plus激光照排 机(可见红色激光二极管，670 nm)和ADVANTAGE DL3850激光照 排机(410nm) , SELECTSET 5000激光照排机(HeNe, 630 nm ),都 是从Agfa-Gevaert ( Belgium )购买的，从Fuji Photo Film ( Japan )购买 的LUXEL V-9600 ( 410 nm )，和从Western Lithotech ( St. Louis ， MO ) 购买的DIAMONDSETTER激光照排机(倍频Nd-YAG激光器，532 nm )。
在另外的其它实施例中，所述膜可以用紫外线辐射曝光，包括用 150-410 nm范围内的激光直接成像。可用于这类成像的设备包括，但不 局限于可从Orbotech (Billenca, MA) 购买的DP-100成像仪，和可从 Etec Systems ( Tucson, AZ )购买的DIGIRITE 2000成像仪。
形成所述掩蔽图像的步骤还可以包括移除可成像层的曝光或的非 曝光区域(或部位)的步骤。在某些实施例中，移除曝光的区域，将掩 蔽图像留在透明的载体板(以及沉积在它上面的透明层)上。对于这些 实施例来说，受体板可选择性地用来去掉所述可成像层的不想要的部 分。这样一种受体板可以是任何合适的纸张，透明的膜或金属片材，在 对所述膜进行辐射之前，在它上面施加一种或多种涂层，以便于将所述 可成像层转移到所述受体上，在成像之后，可以将所述受体板从所述膜 上移除，以展示所述载体板上的所述掩蔽图像。所述掩蔽图像的互补图 像可以保留在所述受体板上。在其它实施例中，通过产生所述可成像层和其它层的曝光的和非曝 光区域或部位，并且移除所述可成像层的非曝光区域，在所述载体板(以 及沉积在它上面的透明层)上形成掩蔽图像。
在某些实施例中，留住于所述载体板上的所述掩蔽图像可以通过接 受热处理被固化，只要所述掩蔽图像的转移特性不会受到负面影响。热 处理可以通过多种手段或方式进行，包括但不局限于存放在烤箱中，热 空气处理，或与加热的台板接触或通过加热的滚筒装置。热处理不是进 行固化(或硫化)所必需的。
在另外的其它实施例中，可以按上文所述的方法形成掩蔽图像，并 且将曝光的区域转移到受体板上。然后将所述受体板从所述成像的掩蔽 膜上移除，之后将所述掩蔽图像转移到对辐射敏感的部件上。因此，所 述膜可以设置与所述对辐射敏感的部件接触的受体板，或所述部件与独 立的受体板接触。
当在成像期间使用独立的受体板的情况下，在成像之前，将所述膜 和受体板组装成密切接近，使所述受体板的接收图像的一侧邻近所述可 成像层。在本文中，术语"紧密接近"可以表示所述可成像层和受体板进 入接触，或者它们不彼此接触，但是足够地接近，允许在进行成像辐射 曝光时可以转移可成像层或着色剂。可以使用真空压制或机械方式(或 方法)将所述膜和受体板以组件固定住。
然后使用成像辐射对所述膜和受体板的组件进行成像曝光，以便形 成掩蔽图像，如下文所述。成像曝光导致可成像层或着色剂的图像从所 述膜转移到所述受体板上。在成像之后，所述膜可以从所述受体板上移 除，以便展示所述受体板上的所述掩蔽图像。
激光诱导的膜转移
对于这种成像机制来说，所述可成像层的曝光区域通过激光诱导的
膜转移("LIFT")从所述载体板(以及沉积在它上面的透明层)上去除。 含有潜在交联剂的中间层设置于所述载体板和所述可成像层之间。所述 潜在交联剂与粘结剂起反应，以在所述曝光区域形成高分子量网络，从 而提供对熔体流动现象，将更多的粘性材料转移到所述受体板上以及所 述掩蔽图像的高质量轮廓清晰度的更好的控制。
在一种实施例中，所述可成像层包括可转移的着色剂和红外吸收染 料(IR染料)。在另一种实施例中，所述可成像层包括可转移的着色剂，
13如上文所述的聚合物粘结剂，氟烃添加剂，阳离子IR染料，以及如上 文所述的潜在交联剂。
所述掩蔽图像可以包括留在所述成像的膜上的所述可成像层的非-曝光区域，不过，在其它实施例中，所述掩蔽图像包括被转移到所述受 体板上的曝光区域(或部位)。
剥离-分开
在这种成像机制中，使用基于所述可成像层的不同的粘接特性的合 适的受体板将所述可成像层的曝光区域从所述载体板(以及沉积在它上 面的透明层)上去除。在所述膜成像曝光之后，所述受体板与所述载体 板分离，而曝光或非曝光的部位(或部位)留在所述膜上。
染料升华或扩散
在另 一种成像技术中，通过升华将着色剂从所述可成像层的曝光区 域去除，其中，所述着色剂被扩散或升华，而不会同时转移所述粘结剂。 掩蔽图像可以在不需要受体板的情况下在所述膜上生成。，在其它实施 例中，受体板被用来捕获所述升华的着色剂。这样，所述掩蔽图像包括 留在成像的膜上的所述可成像层。在另外的其它实施例中，所述掩蔽图 像包括被转移到受体板的着色剂。
掩模的碱性显影
当所述成像的膜用合适的碱性显影剂洗印时，所述可成像层的曝光 区域还可以通过常规的碱性显影去除，而非曝光区域留在所述载体板 上。在这种情况下，所述可成像层是正工作的，并且可以由任何已知的 正工作组合物组分(或组成)。所述显影剂的pH为9-14,并且包括水 和 一 般的氢氧化物，以及在这种溶液中常用的各种其它附加物。
另一种方案，将所述可成像层的非-曝光区域从所述成像的膜上去 除，以产生掩蔽图像。这种可成像层组分(或组成)是负工作的，并且 在曝光时在所述显影剂中成为不可溶的。可用于所述材料的显影剂的pH 值一^:为7-13,并且包"fe水可混溶的高沸点有沖几溶剂，和这种溶液常用 的各种附加物。
可用于所述材料的显影剂是众所周知的，并且可以从多个来源获 得，包括Eastman Kodak公司(Norwalk, CT )。
一旦形成所述掩蔽图像，就将它转移到对硫化(或固化)辐射(通 常为UV辐射)敏感的合适的对辐射敏感的部件(如上文所述)上。掩蔽图像转移包括将具有所述掩蔽图像的膜放置在所述对辐射敏感的 部件上，或对辐射敏感的组分(或组成或者组合物)或该组分的层上。
将所述膜与对辐射敏感的部件放置成这样的接触，以提供无空气界 面。 一般，这一目的是通过施加压力或加热，或同时加压和加热将所述 膜层压在所述对辐射敏感的部件上实现的，以形成无空气或无间隙的界 面。
在一种优选实施例中，对于印刷胶版用途来说，所述对辐射敏感的 部件不具备分离层(抗粘层)，因此，压力本身就可足以达到无空气界
造成该特性的部分原因是单体的存在。下面所披露的层压机工作，以便 使用压力获得具有所需光学接触的无空气界面。 对辐射敏感的部件的曝光
如上所述，在所述掩蔽膜和所述对辐射敏感的部件之间发生无空气 接触之后，经过含有所述掩蔽图像的膜通过硫化辐射对所述对辐射敏感 的部件曝光，以形成图像部件。在这个步骤中，通过优先能够阻挡某些 辐射的所述掩蔽图像将硫化辐射投射在所述对辐射敏感的部件上。未掩 蔽的区域或部位，硫化辐射会导致所述对辐射敏感的成分(或组合物) 硬化或固化。因此，所述掩蔽图像对所述曝光辐射来说应当大体上是不
透明的，这意味着所述掩蔽图像应当具备的透射光学密度为2或以上， 而优选为3或以上。所述未掩蔽的区域或部位应当大体上为透明的，这 意味着所述对辐射敏感的部件的未掩蔽的区域应当具备的透射光学密 度为0.5或以下，而优选为0.1或以下，且更优选为0.05或以下。透射 光学密度可以使用在显像密度计，例如，MACBETH TR 927显像密度计 上的合适的滤光镜(或滤光器)测量。
一般，通过含有所述掩蔽图像的膜对所述对辐射敏感的部件进行曝 光，是通过从合适的辐射源(例如，可见光辐射或UV辐射)的溢出曝 光完成的。曝光可以在存在大气氧气的条件下进行。在真空条件下进行 曝光是不必要的，因为无空气接触(或光学接触)业已完成。
在凸版(或浮雕)印刷板，如印刷胶版的制造过程中，所述对辐射 敏感的部件的一侧一般首先通过透明的支撑装置(或支承物或者支承 件)进行硫化辐射曝光(称作"背面曝光")，以在所述部件的支撑侧制 备薄的，均匀的固化层。然后通过含有所述掩蔽图像的膜对所述对辐射壽文感的部件进行辟u化辐射曝光，由此引起所述对辐射敏感的组合物硬化 或在非掩蔽部位或区域固化。然后通过显影过程或方式去除对所述对辐 射敏感的部件的未曝光的和未固化的区域(如下文所述)，留下所述固 化的区域，所述固化的区域确定凸版或浮雕印刷表面。所述背面曝光可 以在所述掩蔽膜和所述对辐射敏感的部件的无空气接触之前或之后实 施。
适合所述硫化辐射的波长或波长范围由所述对辐射敏感的部件的 性质决定。在某些实施例中，所述硫化辐射是紫外线辐射，波长为
340-400 nm。用于溢出或全面曝光的可见光或UV辐射光源包括，但不 局限于，炭精电弧，水银蒸气电弧，荧光灯，电子闪光单元或装置，和 照相泛光灯。来自汞气灯和特别是日光灯的UV辐射是特别有用的。典 型的UV辐射光源包括SYLVANIA 350 BLACKLIGHT焚光灯(FR 48T12/350 VL/VHO/180, 115瓦)，它的中心发射波长为354 nm,可以 从Topbulb (East Chicago, IN)公司购买到，以及装备有ADDALUX 754-18017灯的BURGESS EXPOSURE FRAME, Model 5K-3343VSII, 可以/人Burgess Industries, Inc. ( Plymouth, MA )购买。
其它合适的UV辐射光源包括制版机，它同时可以对所述对辐射敏 感的部件进行辐射曝光，还可以在辐射曝光之后使所述部件显影。合适 的制版机的示例包括，但不局限于从Kelleigh Corporation (Trenton, NJ ) 购买的KELLEIGH MODEL 310 PLATEMAKER和从Global Asia Ltd. (Hong Kong )购买的GPP500F PLATE PROCESSOR。
通过所述掩蔽图像的曝光时间将取决于对所述对辐射敏感的部件 的性质和厚度，以及所述辐射的来源。例如，在一种实施例中，可以将 从Eastman Kodak Company (Norwalk, CT )购买的FLEXCEL-SRH印 刷4反前体安装在KELLEIGH MODEL 310 PLATEMAKER上，并且通过 支撑装置用UV-A辐射进行背面曝光20秒，以在所述部件的支撑侧形 成薄的，均匀的固化层。然后将所述对辐射敏感的部件的盖板从正面去 掉，并且使含有所述掩蔽图像的膜与所述对辐射敏感的部件的在前侧上 无空气接触。然后可以通过含有所述掩蔽图像的膜对该组件进行UV辐 射曝光14分钟。因此将所述掩蔽图像信息转移到所述印刷胶版前体上。
浮雕图像显影
16然后通过任何合适的手段或方式，如剥离去除含有掩模的载体板， 或没有掩模的载体板。在所述UV曝光之前可选择性地去除所述载体板， 将所述掩模留在光敏层上。然后通常用合适的显影剂使所述曝光的部件 (或图像部件)显影，以形成浮雕图像。显影用来去除所述对辐射敏感 的部件的未固化的区域，留下在所述基片上形成浮雕图像的固化的区 域。
显影通常是在常规条件下，如显影5-20分钟，且在23-32。C的温度 下实施的。所使用的显影设备的类型和具体的显影剂将决定特定的显影 条件。
所述浮雕图像的显影后处理在某些环境下可能是合适的。典型的显 影后处理包括干燥所述浮雕图像，以去除任何多余的溶剂，以及通过对 所述浮雕图像进行硫化辐射所实施的后硫化(或固化)，以便导致进一 步的硬化或交联。用于所述这些处理的条件为本领域」技术人员所熟知。 例如，所述浮雕图像可以吸干或擦干，或者在强制通风或红外烤箱中 进行干燥。干燥时间和温度对技术人员来说是显而易见的。后固化可以 采用与以前所使用的通过所述掩蔽图像曝光相同类型的辐射。显影还可 以通过热处理进行，如在美国专利文件Nos. 5175072( Martens ), 5279697 (Peterson等人)，和6998218 ( Markhart)。
一种制作柔性版10的方法如图2所示，并且包括通过形成掩蔽图 像制作浮雕图像，在成像的膜12上掩蔽膜带有曝光和非曝光的区域。 通过层压所述成像的膜上的所述掩蔽图像，使所述成像的膜转移到对辐 射壽丈感的部件，同时在所述掩蔽图像和所述对辐射壽丈感的部件之间存在 着完全的光学接触，通过所述选择性的载体板和所述掩蔽图像用硫化 (或固化)辐射对所述对辐射敏感的部件进行曝光，以形成图像部件(或 图像要素)，其中，所述掩蔽图像对所述硫化辐射来说是不透明的，并 且对所述图像部件进行显影，以形成浮雕图像。
本发明提供了 一种层压方法，以及一种使用所述层压机提供带有改 善的浮雕图像的成像的对辐射敏感的部件(如印刷胶版)的方法，它主 要具有至少50。的凹^^莫台肩角度，同时在中间色部位保持所希望的小斑 点特征，并且保持良好的颠倒的线深度。当所述成像的膜被用来形成对 辐射敏感的部件上的浮雕图像时(掩蔽膜步骤12),将所述成像的膜放 置成与所述部件密切或完全光学接触(步骤14-18)，方式是消除所述界面上的任何空气，空隙空间，或间隙(因此，形成"无空气"界面)。 这样的间隙可置于真空条件下，以便缺少空气，不过，这种真空下的间
隙在曝光之前(步骤20),已除去所述膜(步骤22)和沖洗，干燥， 以及修整(步骤24， 26)之前还不被认为是"无空气"界面。
如步骤14和18所示，用于通过对所述印刷胶版和掩蔽膜施加平衡 的，非变形力将掩蔽膜层压在预压的印刷胶版上以便使所述胶版与所述 膜掩模光学接触的方法包括根据需要控制所述力，这种控制是基于已知 的印刷板的信息，如板的尺寸，重量，柔软度，厚度，辊型以及影响在 层压期间所施加的均匀力的其它因素。然后通过对FLEXEL印刷胶版前 体施加压力对其层压转移来自所述成像的膜的所述掩蔽图像，所述前体 是从Eastman Kodak Company (Rochester, NY)购买的，使得所述成^f象 的膜和前体之间的界面是无空气的，就是说，实现了光学接触。所需要 的材料与材料的接触必须是上文讨论的光学接触。对于印刷胶版来说，
这一点是特别重要的，因为所使用的材料是粘弹性的，如橡皮圈，它们 可以在压力和温度条件下变形，它们很容易恢复其原有的形状，导致上 文所讨论的变形。同样难于开始移动，这为层压系统增加了难度，特别 是当需要精确度在+/-1密耳时。
图3表示用于将掩蔽膜，又被称作薄膜层32，层压到光敏聚合物， 又被称作预压的印刷胶版34上的印刷胶版层压装置30,同时使用清刮 器38取下保护盖板36,如图所示。如图3所示，在使用在其一侧具有 所述浮雕图像或掩模40的薄膜层32制备印刷胶版7期间，使用真空台 42固定预压的印刷胶版34。层压装置30包括在层压辊46和真空台42 之间的至少一个辊隙(或压区)44,以及位于层压辊46和压力辊或轧 辊48之间的另一个辊隙(或压区)，借助于加载导向装置50。辊隙44 提供稳定(或恒定)的力，以确保在层压期间所述掩模总是与所述板接 触。
重要的是层压仅发生在辊隙44处，并且在本发明中，这一目的是
层压辊可以根据需要弯曲，但是限制施加在印刷板上的侧向力，特别是 在通过所述层压辊的所述辊隙处的作用力，在层压期间，它是单独的且 独立于门架的运动而前后运动的。这一目的是与去除所述盖板一起完成 的，以便所述盖板恰好在所述层压辊接触所述膜之前被去掉，包括首先
18抬起所述盖板的前边缘的最前面的部分，并且将它放置在所述清刮器
上。要注意的是，保护盖板36是在层压掩模40的同时和即将开始之前 去除的。这就保持除了要进行层压的部位以外的印刷胶版被覆盖住。
在本实施例中，这种步骤顺序是重要的，以便避免形成铍紋，并且 确保光学接触是全面的。对它进行测试，并且在下面给出了变形结果。 在序列A中，只是简单地将层压辊降低，以便将掩模压靠在上面形成有 皱紋的板上，不过在优选的和披露的顺序B中，将所述掩蔽膜放置在所 述板阻挡装置前面的槽中，并且将所述层压辊向前移动，使它位于所述 板阻挡装置上方，以便在接触所述板之前提供环绕所述层压辊的掩^t的 张紧力。
变形测量方向(层压是在x方向上)，其中，对于X方向来说，距 离4皮定义为X轴上从点Yl到Y3的距离或对于Y方向来说^皮定义为Y 轴上从点XI到X3的距离，如下所示
变形百分比的掩模位置
顺序A表示当层压辊被降低到将掩蔽膜压靠在印刷板上时的状态
<image>image see original document page 19</image>顺序B表示掩蔽膜被放置在板阻挡装置前面的槽中，并且层压辊被 向前移动到位于板阻挡装置上方，以便在接触所述板之前提供环绕所述 层压辊的掩模的张紧力的状态。
结果如下:
板方向 SRH 1.14 SRH 1.70
层压一几顺序A 层压;^顺序B
测量的变形百分比 X-方向Y-方向X-方向 Y-方向 0.035 0.005 0.018 0.007
0.042 0.027 0.015 0.021
层压质量
SRH 1.70 层压的皱紋 无皱紋
层压的变形弯曲 掩模/板层压扁平
要注意是，在上述测试结果中，"％变形"被定义为"100* (掩模距离 -板距离)/掩模距离"，并且SRH 1.14板是厚度为1.14 mm的硬印刷胶 版，而SRH 1.7板是厚度为1.7 mm的硬印刷胶版。所述皱紋表示在掩 才莫/板层压的"夹心结构"上具有不希望的侧向或横向应力，导致随后在加 工时出现变形。当所述夹心结构具有向上的弯曲(凸起)时会出现所述 变形弯曲，这是由于在所述夹心结构中的应力，随后加工时会发生变形。
另外，轧辊46起着清洁辊的作用，就是说，所述膜掩模40上的浮 雕图像面向轧辊48。将能够除去污物的弹性体涂层用在轧辊48的表面 上，以便拾取具有掩模40的来自薄膜层32的表面的任何棉绒和灰尘碎 片，然后再将它层压到印刷胶版34上。去除保护盖板36和层压所述掩 模之间的距离很短，甚至可以被封闭，或者使用正空气压力，以便消除 任何空气污染物。在一种实施例中，所述真空台帮助所述清刮器在将覆盖的预层压印 刷胶版加载到所述层压机中之后除去所述盖板。所述预层压印刷胶版包 括所述盖板，并且在某些实施例中，可以人工和/或自动与层压辊和工作 台之间的辊隙对齐。在一种优选实施例中，所述层压辊包括用聚氨酯涂 敷的钢芯层压辊。棵露的金属辊可能导致缺陷，因为它们不能根据所述 工作台上的任何瑕疵变形，而铝辊同样不能用，可以在特定场合下使用， 其中，没有在平台上引入这样的错误或对观察者来说不明显。
如图4所示，印刷胶版层压装置30是通过层压门架56支撑，以便 将膜32施加到印刷胶版34上。图4表示可选择的控制器58和一个或 多个传感器59,它能够使得所述层压装置进入工作^t式或睡眠才莫式，并 且控制所施加的力(Fl) 60,包括沿x方向(Fx) , y方向(Fy)和z方 向(Fz)的力，正如下文所讨论的。在运行才莫式期间，如下讨论的，通 过所述台上的开孔施加真空，该模式还包括在即将层压之前使所述膜接 近印刷胶版34。这一过程可以是自动或人工控制的。
控制器56使用来自制造信息的输入，包括一个或多个传感器，定 时器，电子信息和加工化学信息。控制器56还能够通过一个或多个传 感器59以及控制所述制造过程的其它步骤的各种其它控制器和传感器 与所述网连通。这使得所述涂敷过程可以根据需要停止，以便能够清理 所述涂敷器，而又不会停止其它过程，因此形成了一种自动化过程。
光敏聚合物类型的涂料倾向于是粘性的，这取向于使得这种制造过 程会在最终产品上留下不希望的残余物。由于粘性的原因，常见的是，
导致不可接受的瑕疯，并可能造成制造的中断，由此导致效率低下和/ 或生产出有缺陷的最终产品。这些瑕疵可能直到所述板在数周或数月之 后在远离制造场所的地方成像之后才能发现。确保生产出没有瑕疵的板 是重要的，并且本发明能确保这种结果。
门架56包括两个导轨62，它起着支撑与滑座64连接的独立的装 有万向接头的层压辊的作用，如图4所示，它没有示出所述层压装置的 某些部分，包括一个或多个层压挠曲板，以便清楚地示出其它部件，如 所述辊。要注意的是，层压挠曲板在图5中清楚地示出。所述滑座具有 侧面66，所述侧面在每一侧支撑一个或多个配重68,它提供可以通过 板的尺寸和宽度或其它因素改变的力(FL)，这些因素能够影,响在层压期间所施加的均匀的力(FL)并因此影响光学接触的形成，因为光学接 触需要在层压期间在板和膜的整个长度上施加均匀的力。
所述门架^皮设计成以以下方式支撑层压辊，在层压期间，它基本上 "浮动"在所述胶版上，以便在层压期间，所述层压辊仅沿一个方向(朝 向所述印刷板)提供力，并且是独立支撑的，以便没有不适当的侧向力 作用在所述高度敏感的印刷板和膜上，并且它能根据所述平台和/或印刷
板和膜的表面而改变形状。现在使用的平台的表面shore A硬度计读数 为50-75,并且，优选的层压辊具有聚氨酯涂层，以便适应平台表面的 任何弯曲，甚至是冠型辊型，因为这种精确的层压过程实质上是浮雕， 因此，必须施加足够的力，以便将所述浮雕膜抵靠在所述印刷板上。要 注意的是，该膜随后可以从所述印刷板上去掉，并且单独使用或与所述 印刷板一起使用。材料与材料之间的接触必须是上文所讨论的光学接 触。
图5和6表示层压装置30的一部分的俯视透视图。层压辊46是以 这种方式与滑座64连4妻的，所述层压辊和滑座可以相对包括真空台42 (在图5和6中去掉了 ，但是在图4中示出)的门架56浮动。两个层 压挠曲纟反65和枢轴杆67是与滑座64连接的，以i"更层压辊46绕枢轴杆 67枢转，并且以这种方式与滑座64连接，在层压期间所述层压只能沿 相对印刷板34的一个方向移动，并且不会在所述印刷一反上施加会产生 瑕疯和变形的侧向或横向应力。图6和7清楚地示出了这种运动，它是 从一侧到另一侧的^丑曲，其中，两个辊可以相对所述门架枢转，并且^皮 此相对枢转。
层压挠曲板65能有效地稳定层压辊46，以便它能够枢转或者只能 在一个平面上运动，如上下运动。挠曲板65又被称作层压挠曲装置， 它允许独立的装有万向接头的层压辊以使作用在层压辊隙44上的侧向 力最小的方式运动。另外，层压挠曲板65在通过所述层压周期运动时 增加了对所述层压辊的阻尼，从而使沿不希望方向的其它的侧向非最佳 的力最小化，这些力包括在图8中所示出的歪斜。这使得所述层压装置， 与下面所披露的螺杆挠曲板一起更有效的工作，能节省40%的能量，并 且有助于减轻震荡，并且使得所述层压机在层压期间能形成所述膜和所 述板之间的光学接触。一个螺杆70位于扁平真空台42下面的中央。如图9所示，螺杆70 具有挠曲装置72，在一种实施例中，它与所述螺杆连接。所示出的门架 挠曲装置具有3个平叶片挠曲板， 一个平叶片挠曲板74位于所述螺杆 上方，而两个平叶片挠曲板76位于所述螺杆的每一侧。所述挠曲装置 允许所述独立的装有万向接头的运动能够最小化作用在层压辊隙44上 的侧向力，并且在所述螺杆通过所述层压周期运动时，对所述层压辊施 加额外的阻尼。因此，在与所述层压挠曲板联接或耦合时，增加对其它 側向，非最佳力，方向的控制。螺杆70移动所述门架上的层压装置辊， 该门架包括两个侧导轨，以便所述预层压的片材在x和y方向上受到均 匀的层压力，并且使z方向的平衡的力最大化，以便使变形最小化，同 时消除气泡，并且还能将变形保持在低于长度的.02%。正是控制歪斜和 所述层压挠曲板的组合使得侧向力最小化。
在一种实施例中，可调整的取决于大小的配重68 一皮安放在滑座的 每一侧66,以便支持预压膜的两种或两种以上尺寸。要注意的是，弹力 或其它取决于压力的力可能不太理想，因为所述力随着压力而改变，并 且可能导致在层压期间施加在所述层压膜上的力的大的波动。配重68 能纠正"稳定间隙"的问题，并且针对每一种板的尺寸进行调整。这可 以对各种尺寸的印刷胶版上的最佳层压力(FL)进行更好的控制，使它 们各自具有最优化层压力，这种层压力可以通过具有查询表(LUT)的 控制器控制，所述查询表包括下列一种或多种参数取决于大小的配重， 以便实现基于板的尺寸所必需的足够的层压力(FL),重量，柔软度(硬 度计读数)，厚度，辊型以及影响在层压期间施加的均匀力的其它因素， 以便实现光学接触。
图10表示所示层压装置在加载膜期间，这一阶段对于防止在最终 的层压胶版上出现皱紋来说是关键的。如图11所示，所述掩模必须首 先巻绕在所述层压辊的下部，以便所述掩模在与所述胶版接触之前与所 述辊接触。膜32被放置在两个辊(46, 48)之间，并且放入加载槽。 然后在所述胶版朝向所述层压辊移动之前由所述两个辊夹住所述膜，接
周围，借助于离合器防止反方向旋转。
图12是用于层压装置30的层压方向100的流程图。该方法通过首 先使预层压印刷胶版与掩蔽膜片材对准使所述预压印刷胶版与所述膜掩才莫光学接触。所述预层压印刷胶版包括所述印刷胶版，和与辊隙44
对齐的盖板，以便所述层压辊通过所述独立的装有万向接头的(6度的
自由度)支撑门架支撑，其中，只有所述层压辊接触支撑台，然后在所 述层压步骤的同时，使用靠近所述辊隙的清刮器从所述预层压印刷胶版
上取下所述盖板，并且通过沿层压辊方向(FL)的方向施加足够的力在
z方向上施加最优化层压力，以便实现光学接触，同时通过对所述印刷
胶版和掩蔽膜施加平衡的，非变形力，最小化膜沿x (Fx)和y (Fy)
方向的侧向或横向变形，包括对准校正，包括使用独立的装有万向接头
的(6度的自由度)辊隙支撑门架，并且在通过对预层压的片材施加平
衡的力将所述膜掩才莫实际层压在印刷胶版上之前使之平衡，同时用所述 清刮器从扁平的预压层压印刷胶版上取下所述盖板。
第一个步骤是在对准所述预层压印刷胶版之前初始化系统110,包 括位于工作台上的盖板，使一片掩蔽膜位于层压机112的间隙中。然后 施加真空114,以便将所述胶版固定在所述台上，并且根据胶版的尺寸 适当选4奪配重116,安装在所述门架的侧面，以便协助施加平tf的力。
下一个步骤118涉及移动中央螺杆，以移动包括所述层压辊的门架， 同时控制沿一个方向的挠曲，并且减轻弹簧沿其它方向的挠曲。要注意 的是，在这段时间内，所述轧辊清理膜120上的掩模。使用靠近所述辊 隙的清刮器将所述盖板从所述预层压印刷胶版上取下122,包括在进行 层压之前将所述盖板的前边缘放置在所述清刮器上。这一过程是与层压 步骤同时进行的，以便最小化在层压发生之前暴露的胶版的数量，然后 在除去所述盖板之后通过施加足够的力对所述胶版和膜施加最优化层 压力124,以便实现光学接触。最后，得到没有气泡的光学接触的层压 膜和所述胶版126。
权利要求
1.一种用于将掩蔽膜层压在预压印刷胶版上使所述板与所述掩蔽膜光学接触的方法，所述方法包括将包括盖板的预层压印刷胶版与层压辊和真空台之间的间隙中的掩蔽膜对准，其中，所述层压辊，包括一个或多个通过支撑门架独立支撑的层压挠曲板；所述层压辊独立地由支撑门架支撑；使用靠近所述辊隙的清刮器从所述预层压印刷胶版上取下所述盖板，以便形成印刷胶版；与所述取下步骤同时通过对所述印刷胶版和所述掩蔽膜施加平衡的，非变形最优化层压力(FL)进行层压，以便实现所述印刷胶版和所述掩蔽膜之间的光学接触，使用所述滑座和支撑门架最小化侧向变形。
2. 如权利要求l所述的方法，其特征在于，所述平衡的，非变形最优化层压力(FL)还包括将自动调准校正用于所述独立支撑的聚氨酯涂敷的层压辊，其中， 一个或多个自动化步骤还包括对至少一个时间段或传感器读数作出响应的控制器。
3. 如权利要求l所述的方法，其特征在于，所述平衡的，非变形最优化层压力(FL)还包括将自动调准校正用于所述滑座。
4. 如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述平衡的，非变形最优化层压力(FL)还包括使用位于所述滑座每一侧的可调节的板相关的重量。
5. 如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述平衡的，非变形最优化层压力(Fl)还包括使用所述一个或多个稳定化层压挠曲板移动所述层压辊，以便最小化横向变形，同时形成光学接触。
6. 如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述平衡的，非变形最优化层压力(FL)还包括使用具有一个或多个稳定化平叶片挠曲板的中心螺杆移动位于两侧导轨上的辊，使所述预层压的片材接受平衡的，均匀的层压力，以便最小化横向变形，同时形成光学接触。
7. 如权利要求l所述的方法，其特征在于，其还包括结合层压所述印刷胶版和膜自动控制一个或多个步骤包括自动加载和对准印刷胶版和位于所述间隙中的掩蔽膜。
8. 如权利要求l所述的方法，其特征在于，所述平衡的，非变形最优化层压力(FL)还包括使用具有LUT的控制器，它包括取决于一种或多种参数的一个或多个入口板的尺寸，重量，柔软度(硬度计读数)，厚度，辊型以及影响施加的均匀力的其它因素，以便实现所述膜和所述板之间的光学接触。
9. 如权利要求l所述的方法，其特征在于，所述平衡的，非变形最优化层压力(FL)进一步将侧向变形限定为小于长度的.02%。
10. —种用于将掩蔽膜层压在预压印刷胶版上的预压印刷胶版层压机，所述设备包括独立支撑滑座的支撑门架，包括一个或多个层压挠曲板，以便在层压期间最小化印刷胶版和掩蔽膜的侧向变形；与所述滑座连接的层压辊，通过所述门架独立支撑，与真空台形成间隙，用于对所述印刷胶版和所述掩蔽膜施加平衡的，非变形最优化层压力(FL),以便在所述印刷胶版和所述掩蔽膜之间实现光学接触；和靠近所述辊隙的清刮器，用于从所述预层压印刷胶版上取下盖板，同时涂布所述掩蔽膜；与所述门架连接的中心螺杆，以便沿两侧导轨移动所述层压辊，使所述预层压的片材接受均勻的层压力。
11. 如权利要求IO所述的设备，其特征在于，所述层压辊是聚氨酯涂敷的。
12. 如权利要求10所述的设备，其特征在于，所述滑座还包括适用于所述独立支撑的层压辊的自动调准校正装置。
13. 如权利要求12所述的设备，其特征在于，所述自动调准校正装置还包括位于所述滑座每一侧的可调节的板相关重量。
14. 如权利要求12所述的设备，其特征在于，所述自动调准校正还包括一个或多个稳定化平叶片挠曲板，以便最小化横向变形，同时形成光学接触，其中，所述一个或多个稳定化平叶片挠曲板还包括高于所述螺杆的 一 个板和两个位于每 一 侧的低于所述螺杆的板。
15. 如权利要求14所述的设备，其特征在于，所述轧辊在层压期间起着清洁辊的作用，即所述膜掩模上的浮雕图像面向所述轧辊。
16. 如权利要求IO所述的设备，其特征在于，当所述门架被所述螺杆移动时，所述一个或多个稳定化层压挠曲装置进一步阻尼所述层压辊。
17. 如权利要求IO所述的装置，其特征在于，其还包括用于最大化所述最优化层压力(FL)的控制器，以便通过对所述印刷胶版和掩蔽膜 施加平衡的，非变形力实现光学接触，同时最小化膜的变形，包括自动 加载和对准印刷胶版和位于所述间隙中的掩蔽膜。
18. 如权利要求17所述的设备，其特征在于，所述控制器还包括 LUT它包括对下列参数之一的校正板的尺寸，重量，柔软度(硬度计 读数)，厚度，辊型以及影响施加的均匀力的其它因素，以便实现所述 膜和所述板之间的光学接触。
19. 如权利要求17所述的设备，其特征在于，所述控制器对至少一 个时间段或传感器读数，平衡的，非变形最优化层压力(FL)做出响应。
20. —种用于将掩蔽膜层压在预压印刷胶版上的预压印刷胶版层压 机，所述设备包括支撑滑座，用于在层压期间最小化印刷胶版和掩蔽膜的侧向变形， 所述滑座包括连接在所述滑座每一侧的可调节的板相关的重量；通过所述滑座独立支撑的层压辊，所述层压辊与真空台形成间隙， 层压辊对所述印刷胶版和所述掩蔽膜施加平衡的，非变形最优化层压力 (FL),以便在层压期间在所述印刷胶版和所述掩蔽膜之间实现光学接 触；和靠近所述辊隙的清刮器，用于从所述预层压印刷胶版上取下所述盖 板，同时涂布所述掩蔽膜。
全文摘要
本发明提出一种通过对印刷胶版和掩蔽膜施加平衡的，非变形力将掩蔽膜层压在预压印刷胶版上使所述胶版与所述膜光学接触的装置和相关方法。该方法包括通过施加最优化层压力用膜掩模层压预压印刷胶版，以便实现光学接触，同时最小化横向膜变形。
文档编号B41F5/00GK101689029SQ200880022306
公开日2010年3月31日 申请日期2008年6月24日 优先权日2007年6月28日
发明者B·S·布什, C·G·斯陶特, C·M·米尔, G·L·兹瓦德洛, P·A·斯托特, R·E·安布拉斯特 申请人:伊斯曼柯达公司