基于微印刷的彩色动态立体莫尔图像薄膜及其制备方法
【专利摘要】本发明公开了一种基于微印刷的彩色动态立体莫尔图像薄膜及其制备方法，莫尔图像薄膜包括透明基材层、位于透明基材层一侧的微透镜阵列层、以及位于透明基材层另一侧的微图形阵列层，所述微透镜阵列层包括若干阵列排布的微透镜，所述微图形阵列层包括若干套阵列排布且具有不同颜色的微图形，所述微透镜的阵列排布与微图形的阵列排布相匹配。本发明莫尔图像薄膜所形成的莫尔图像具有彩色、动态、和立体的特性，观察者在任何光环境下，不需要特殊的观察技巧就可以观察到彩色三维动态图形。
【专利说明】基于微印刷的彩色动态立体莫尔图像薄膜及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及公众光学视觉安全防伪【技术领域】，特别是涉及一种基于微印刷的彩色动态立体莫尔图像薄膜及其制备方法。
【背景技术】
[0002]现有技术中主要使用的光学防伪技术分为三类:公众防伪、专业防伪和三线防伪。公众防伪主要采用形成主景图案、多通道和动态技术。专业防伪大都采用微缩图像和文字，用自带光源的高倍放大镜可清楚辨别。三线防伪主要为衍射单元和各种编码技术等。其中，公众防伪技术特点是在通常状态下，不借助任何仪器，用肉眼或者感觉器官能够直接识别特征，最易为广大人民群众辨别，因此尤为重要。它应具有两个基本要素:易于识别和难于伪造。
[0003]在公众防伪技术中，目前用于标签、钞票、信用卡等的光学防伪技术主要指衍射光变图像 DOVID (Diffractive Optically Variable Image Devices),它包含人们所熟知的全息图像，包括后期发展起来的像素全息图、点阵全息图和动态莫尔图等。知名的产品如法国Hologram Industries公司近年来发展的一种DOVID技术,其特点是图像分辨率为600LPI，但细微文字和线条的衍射单元分辨率可达到6000LPI，图像亮度高、色彩鲜艳。衍射识别技术的光栅结构是由瑞士 Paul Scherrer学院Zurich实验室发明，它的光栅周期小于
0.4 μ m(模压全息光栅周期一般为I μ m)。当水平位置观察图像(或文字)时为红色；将图像在平面内转90°时，则观察到深绿色。机读的可靠性高且设备价格低。但是随着全息在票证、商标、包装等领域的广泛应用，许多厂家都具有了生产全息产品的能力，使得激光全息陷入了信任危机。
[0004]因此，人们迫切地需要寻找满足技术高、成本低、易识别、可仲裁的新一代大众技术。如第四代激光组合全息图技术，将几十甚至几百个不同的二维图像通过几十甚至几百次曝光所记录的全息图，将三维目标的各个侧面及随时间的变化过程记录下来，即该全息图不仅能够记录和再现物体的三维空间(x，Y，z)特性，还能记录和再现该三维物体随时间(T)的变化。制作这种全息图对拍摄对象没有限制，需要对几十甚至几百帧二维图像进行记录，从而曝光次数是普通全息的几十甚至几百倍，这需要专用的仪器设备及更加精巧的工艺过程才能实现。还有如澳大利亚SecurencyPTY公司的G_switch技术,通过制作特殊的光学层，实现从一个方向观察是某颜色，从与之正交方向上观察是该颜色的补色，无须特殊培训和仪器。仅仅在一秒至几秒内，用简便的方法就可以鉴别。另外，人们还发明了安全线及其开窗技术，进一步提高技术门槛，安全线是起作用的薄膜材料制成的线状标志。
[0005]还有一类引人注目的新一代技术是将微透镜阵列(Microlens array, MLA)与微图形阵列(Micropattern array, MPA)结合实现的莫尔放大技术。莫尔放大涉及一种现象，从具有大致相同周期维度的微透镜阵列观察由相同微图形组成的阵列时可以产生这种现象，即以微图形的放大或者旋转形式出现。莫尔放大现象基本原理在M.C.Hutley, R.Hunt, R.F.Stevens and P.Savander, Pure App1.0pt.3 (1994), pp.133 ?142 中有所描述。Drinkwater等在美国专利N0.5，712，731中率先提出了将半球形微凸透镜阵列与微图形阵列结合的安全器件。微图形在微凸透镜的后焦面附近，人眼在微透镜凸面侧观察可看到微图形的莫尔放大像，其中微凸透镜口径在50?250微米，微图形阵列通过凹版印刷的方式得到，最小分辨率为5微米。为了克服上述专利不利于制作超薄型(厚度小于50微米)器件的弊端，美国专利 N0.2005/0180020A1 及后续专利 N0.2008/0037131A1 中，R.A.Steenblik等进一步扩展了依据上述微光学原理制作的安全器件范围，如微凸透镜口径减小至20?30微米，焦距小于50微米，间隔层厚度小于50微米，微图形层具有多变的复杂排布，可以是透明、半透明、荧光、磷光、染、光变颜料等，并提出了若干基于反射工作模式的结构等等。在中国专利安全元件(申请号200680048634.8)中提出了一种预定弯曲的布拉维点阵结构。通过设计微透镜阵列与微图形阵列及其排列组合，能够实现多种视觉效果:1)微图形放大:即原本看不见的微图形被放大至可由肉眼直接观察；2)正交移动:即沿某方向晃动时，观察到的宏观图像沿与之垂直的方向移动；3)立体感:观察到的宏观图像具有浮出或者沉陷于纸面的立体效果；4)运动变形:观察到的宏观图像在移动过程中还可能发生大小、形状等的变化。莫尔放大技术既可以单独实现对微图形的上述几种视觉效果，还可以同时实现上述几种视觉效果的组合，作为一种极易为肉眼辨视的一线技术，其不能为数字成像、扫描、复印、印刷设备等复制。
[0006]美国专利和专利申请US5712731、US2005/0180020A1 以及 US2008/0037131A1 中提出将微凸透镜阵列与微图形阵列结合应用于安全器件，其中的微图形阵列是通过凹版印刷的方式得到，最小分辨率为5微米。主要制作方法是，在PET等柔性薄膜上涂布光刻胶，用带有微图文的凸版在光刻胶表面压印深度为数微米深的凹槽，通过刮涂方式将油墨填入凹槽，使得微图文显示相应的颜色。在这种微图文制作方法中，图像的色彩是通过在凹槽中填充颜色油墨获得的，微图文颜色单一，不能形成彩色化显示；微图文特征尺寸为数微米，一般印刷油墨颗粒为几十个微米，因此，需特殊制作的纳米级油墨才能作为填充颜色油墨；为了使得足够多的油墨被填入凹槽，提高微图文与背景之间的对比度，凹槽深度将大于3微米。需要制作大深宽比金属压印模板，在大幅面动态图像制作时，提高了其工艺难度。
[0007]因此，针对上述技术问题，有必要提供一种基于微印刷的彩色动态立体莫尔图像薄膜及其制备方法。
【发明内容】
[0008]有鉴于此，为了解决所述现有技术中的问题，本发明提供了一种基于微印刷的彩色动态立体莫尔图像薄膜及其制备方法。
[0009]为了实现上述目的，本发明实施例提供的技术方案如下:
[0010]一种基于微印刷的彩色动态立体莫尔图像薄膜，所述莫尔图像薄膜包括透明基材层、位于透明基材层一侧的微透镜阵列层、以及位于透明基材层另一侧的微图形阵列层，所述微透镜阵列层包括若干阵列排布的微透镜，所述微图形阵列层包括若干套阵列排布且具有不同颜色的微图形，所述微透镜的阵列排布与微图形的阵列排布相匹配。
[0011]作为本发明的进一步改进，所述微透镜阵列层和微图形阵列层为正方形阵列排列方式或六角形阵列排列方式。
[0012]作为本发明的进一步改进，所述微图形阵列层中微图形的整体尺寸为ΙΟμπι?100 μ m,线宽为 I μ m ?20 μ m。
[0013]作为本发明的进一步改进，所述莫尔图像薄膜的放大率为:
「 ^ M(r, O) =---Γ
[0014]/ ,、丄
(l H 1- — IrcoaOy-，
[0015]其中，微透镜阵列与微图形阵列的周期比为r，相互之间的夹角为Θ。
[0016]作为本发明的进一步改进，所述微透镜阵列与微图形阵列的周期比!■为I时，所述莫尔图像薄膜的放大率为:
_7] M = idp)。
[0018]作为本发明的进一步改进，所述莫尔图像薄膜形成的莫尔图像移动的周期为:
h tan Φ
[0019]K =-:-
b ,
[0020]其中，微透镜阵列的周期为a，微图形阵列的周期为b，微透镜阵列和微图形之间的距离为h，偏离垂直方向的观察角度为Φ。
[0021]相应地，一种基于微印刷的彩色动态立体莫尔图像薄膜的制备方法，所述方法包括:
[0022]S1、提供一透明基材层；
[0023]S2、在透明基材层一侧制备微透镜阵列层，所述微透镜阵列层包括若干阵列排布的微透镜；
[0024]S3、在透明基材层另一侧制备微图形阵列层，所述微图形阵列层包括若干套阵列排布且具有不同颜色的微图形，所述微透镜的阵列排布与微图形的阵列排布相匹配。
[0025]作为本发明的进一步改进，所述步骤S3具体为:
[0026]将金属掩膜版放置于透明基材层上，并进行对准，金属掩膜版上包括若干阵列排布的镂空微图形结构；
[0027]在金属掩膜版的一端倒入油墨，用刮板在金属掩膜版的油墨部位施加一定压力，同时朝金属掩膜版另一端移动，油墨在移动中被刮板从镂空微图形结构挤压到透明基材层上，形成阵列排布的微图形；
[0028]重复上述步骤，在透明基材层上形成若干套阵列排布且具有不同颜色的微图形。
[0029]作为本发明的进一步改进，所述金属掩膜版的制备方法具体为:
[0030]在金属衬底上均匀涂敷光刻胶或光刻干膜；
[0031]通过激光直写或光掩膜曝光，经过显影后形成浮雕型微图形结构；
[0032]通过金属电铸工艺，在金属衬底露底导电部分的表面形成金属沉积层；
[0033]去除光刻胶，并将金属沉积层从金属衬底上分离，形成具有镂空微图形结构的金属掩膜版。
[0034]作为本发明的进一步改进,所述金属掩膜版的厚度为5um?lOOum。
[0035]作为本发明的进一步改进，所述金属掩膜版的材料为N1、Cu、Ni_Co合金、或Fe-Ni
I=1-Wl O
[0036]作为本发明的进一步改进，所述金属掩膜版上设置有对位标志，透明基材层和金属掩膜版采用CCD或者机械套位对准。
[0037]本发明具有以下有益效果:
[0038]莫尔图像薄膜所形成的莫尔图像具有彩色、动态、和立体的特性，同时保留了水平视差和垂直视差，可以显示出清晰的彩色三维动态图像，不仅提供识别的效果，同时也将进一步增加防伪产品的制造难度，使得观察者在任何光环境下，不需要特殊的观察技巧就可以观察到彩色三维动态图形。
[0039]莫尔图像薄膜制备方便，微图形印刷成本低且分辨率高；金属掩膜版制作方便。
【专利附图】
【附图说明】
[0040]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0041]图1为本发明中一【具体实施方式】中莫尔图像薄膜的结构示意图；
[0042]图2a、2b分别为本发明一【具体实施方式】中微图形阵列层和微透镜阵列的结构示意图；
[0043]图3a?3f为本发明一【具体实施方式】中莫尔图像薄膜的制备方法工艺流程图；
[0044]图4a、4b分别为本发明一【具体实施方式】中第一金属掩膜版和第二金属掩膜版的结构示意图；
[0045]图5a?5d为本发明一【具体实施方式】中金属掩膜版的制备方法工艺流程图。
【具体实施方式】
[0046]以下将结合附图所示的【具体实施方式】对本发明进行详细描述。但这些实施方式并不限制本发明，本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本发明的保护范围内。
[0047]本发明公开了一种基于微印刷的彩色动态立体莫尔图像薄膜，包括透明基材层、位于透明基材层一侧的微透镜阵列层、以及位于透明基材层另一侧的微图形阵列层，微透镜阵列层包括若干阵列排布的微透镜，微图形阵列层包括若干套阵列排布且具有不同颜色的微图形，微透镜的阵列排布与微图形的阵列排布相匹配。
[0048]如图1所示，在本发明的一【具体实施方式】中，莫尔图像薄膜包括透明基材层1、微透镜阵列层2及微图形阵列层3，其中，微透镜阵列层包括若干阵列排布的微透镜21，微图形阵列层包括若干阵列排布的第一微图形31及第二微图形32，第一微图形31和第二微图形32具有不同的颜色。
[0049]本实施方式中莫尔图像薄膜所形成的莫尔图像不但具有立体、动态的效果，还能实现彩色化，以下对莫尔图像薄膜进行详细说明。
[0050]微透镜微图形组合的莫尔图像薄膜同时保留了水平视差和垂直视差，保证观察角大，使得观察者在任何光环境下，不需要特殊的观察技巧就可以观察到三维彩色图形。要显示清晰的三维图像，微透镜与微图形必须要严格匹配和密合，在其他实施方式中微图形的颜色不限于两套。
[0051]本实施方式中微图形的结构与微透镜的结构相匹配。微透镜列阵层的排列方式有两种，即正方形排列方式、或六角形排列方式。微图形的阵列排布与相应的微透镜阵列排布相对应。
[0052]本实施方式中莫尔图像薄膜的放大率为:
「 ^ M{r,0) =---Γ
[0053]/ ,J丄
(I H r - 2/.cos ^j2，
[0054]其中，微透镜阵列与微图形阵列的周期比为r，相互之间的夹角为Θ。
[0055]微图形阵列层中微图形的整体尺寸为10 μ m?100 μ m,线宽为I μ m?20 μ m。根据上述公式，微图形阵列经过微透镜阵列放大，图形放大率M为20?⑴。当r= I时，图形放大率的计算公式为
[0056]M - 2 +/2)。
[0057]当Θ = 0.1°时，根据上述公式图形放大率M为573倍。优选地，微图形高度为5μηι?100 μ m,如果微图形高20um,贝U莫尔放大后的图形大小为11.45mm,人们裸眼即可识别。
[0058]当微透镜阵列与微图形阵列之间有一定距离时，由于观察角度变化会造成微图形阵列的移动。假设微透镜阵列周期为a，微图形阵列周期为b，微透镜阵列和微图形之间的距离为h(透明基材层的厚度)，莫尔放大图像的周期为L，以偏离垂直方向Φ为观察角度时，莫尔图像薄膜形成的莫尔图像移动的周期为:
, h tan Φ
[0059]= ^~
O
[0060]莫尔图像的动态效果，当图像周期越大，微透镜和微图形的间距h越大，微图形阵列的周期越小，动态效果越好。莫尔图像具有两种动态效果:
[0061]I)若微图形阵列和微透镜阵列的排列方向相同，排列周期不同，观察者变化视角，则会看到莫尔放大图像动感方向与观察者移动的方向相同或相反。
[0062]2)若微图形阵列和微透镜周期相同，但之间有一个小的夹角Θ，当眼睛纵向移动时，莫尔图像横向移动，当眼睛横向移动时，莫尔图像纵向移动。
[0063]立体效应是由于观察时的双眼视差形成。当微图形周期小于微透镜周期时，产生图形下沉的效果，当微图形周期大于微透镜周期时，产生图形上浮的效果，这些上浮下沉的莫尔放大图像即形成三维效果。
[0064]参图2a、2b所示分别为本发明一【具体实施方式】中微图形阵列层和微透镜阵列的结构示意图。微图形阵列层中第一微图形31为具有第一颜色且阵列排布的太阳微图形，第二微图形32为具有第二颜色且阵列排布的月牙微图形，微透镜阵列层2包括若干具有相应阵列排布的微透镜21。
[0065]具有第一颜色的太阳微图形、和具有第二颜色的月牙微图形整体尺寸为ΙΟμπι?ΙΟΟμπι，线宽为Ιμπι?20μπι。根据上述公式，微图形阵列经过微透镜阵列放大，可以用裸眼观察。
[0066]本发明中莫尔图像薄膜的制备方法具体包括:
[0067]S1、提供一透明基材层；
[0068]S2、在透明基材层一侧制备微透镜阵列层，所述微透镜阵列层包括若干阵列排布的微透镜；
[0069]S3、在透明基材层另一侧制备微图形阵列层，所述微图形阵列层包括若干套阵列排布且具有不同颜色的微图形，所述微透镜的阵列排布与微图形的阵列排布相匹配。
[0070]其中步骤S3具体为:
[0071]将金属掩膜版放置于透明基材层上，并进行对准，金属掩膜版上包括若干阵列排布的镂空微图形结构；
[0072]在金属掩膜版的一端倒入油墨，用刮板在金属掩膜版的油墨部位施加一定压力，同时朝金属掩膜版另一端移动，油墨在移动中被刮板从镂空微图形结构挤压到透明基材层上，形成阵列排布的微图形；
[0073]重复上述步骤，在透明基材层上形成若干套阵列排布且具有不同颜色的微图形。
[0074]以下结合图3a?3f所示，对本发明【具体实施方式】中莫尔图像薄膜的制备方法进行详细说明。
[0075]首先，提供一透明基材层1，在透明基材层一侧制备阵列排布的微透镜21，形成微透镜阵列层。
[0076]利用金属掩膜版微图形部分透油墨，非微图形部分不透墨的基本原理进行印刷。
[0077]参图3a所示，将第一金属掩膜版41放置于透明基材层I上，并进行对准，第一金属掩膜版41上包括若干阵列排布的第一镂空微图形结构；
[0078]参图3a、3b所示，在第一金属掩膜版41的一端倒入具有第一颜色的第一油墨51，用刮板6在第一金属掩膜版的第一油墨部位施加一定压力，同时朝第一金属掩膜版41另一端移动，第一油墨51在移动中被刮板6从第一镂空微图形结构挤压到透明基材层I上。由于油墨的粘性作用而使印迹固着在一定范围之内，印刷过程中刮板6始终与第一金属掩膜版41和透明基材层I呈线接触。
[0079]当刮板6刮过整个版面后抬起，同时第一金属掩膜版也抬起，并将第一油墨51轻刮回初始位置，即可形成图3c所示的阵列排布的第一微图形31。
[0080]同样地，参图3d?3f所示，通过第二金属掩膜版42、具有第二颜色的第二油墨52和刮板6同样可以形成阵列排布的第二微图形32，其印刷原理与第一微图形的印刷原理相同，在此不再进行赘述。与第一微图形不同的是，第一金属掩膜版41为紧贴着透明基材层I放置，而第二金属掩膜版42为紧贴着第一微图形放置，距离透明基材层I有一定的距离。
[0081]参图4a、4b所示为本发明一【具体实施方式】中具有太阳微图形的第一金属掩膜版41和具有月牙微图形的第二金属掩膜版42的结构示意图。在其他实施方式中微图形也可以为其他图形或文字或其组合。
[0082]图4a、4b中黑色部分为遮挡层，微图形为镂空部分。镂空部分的整体尺寸为5um?lOOum，线宽为0.5 μ m?20 μ m。金属掩膜版的厚度5 μ m?100 μ m，且金属掩膜版上具有十字对位标记，用于在后期制作中实现精密对位。
[0083]印刷微图形时，通过第一金属掩膜版和第二金属掩膜版上的十字对位标记，采用CCD或者机械套位对准，从而实现具有较高对比度的彩色微图形阵列。
[0084]本发明中的金属掩膜版采用金属沉积生长法，具体步骤为:
[0085]参图5a所示，在金属衬底401上均匀涂敷光刻胶或光刻干膜402，光刻胶可以为负性或者正性，厚度为5um?10um ；
[0086]通过激光直写或光掩膜曝光，经过显影后形成图5b所示的浮雕型微图形结构；
[0087]参图5c所不,通过金属电铸工艺,在金属衬底401露底导电部分的表面形成金属沉积层403 ；
[0088]去除光刻胶或光刻干膜，并将金属沉积层403从金属衬底401上分离，即可形成图5d所示的具有镂空微图形结构的金属掩膜版。
[0089]激光直写光刻系统的图形分辨率可达0.2um-0.5um,因此，本发明可以实现Ium以上线宽的微图形曝光。因此，上述金属掩模板的微图形线宽可达I微米，整体尺寸能够达到10微米。优选地，在本实施方式中金属掩模板的厚度5um-100um，材料为N1、Cu、N1-Co合金、或Fe-Ni合金。
[0090]本发明能够应用于防伪技术中，新型的防伪技术在视觉上要求:彩色、动感、多维、多通道和分层效果。
[0091]若以传统的印刷方式制作彩色微图形，以Luscher公司的大幅面丝网和胶印版的顶级成像系统JetScreen2000为例，其具有256个喷嘴构成的喷墨印刷头，可提供700dpi分辨率图像的输出；Autoprint Srl.公司的子公司Amanda推出新型的热敏喷墨打印机DigitAll，可实现720X720dpi的分辨率图像输出；在数字丝网印刷方面，Scitex的新型超宽幅面Grandjet印刷机分辨率为370X370dpi ；Nur公司的Fresco印刷机可达到720dpi的分辨率。因此，以目前打印或印刷的技术水平，不能实现高精度(位置误差小于1% )和高分辨率(1ym)的微图形制作，从而不具有实现莫尔放大的精度，而且低效的打印方式也很难实现微图形的批量化、低成本制作。
[0092]与现有技术相比，本发明具有以下有益效果:
[0093]莫尔图像薄膜所形成的莫尔图像具有彩色、动态、和立体的特性，同时保留了水平视差和垂直视差，可以显示出清晰的彩色三维动态图像，不仅提供识别的效果，同时也将进一步增加防伪产品的制造难度，使得观察者在任何光环境下，不需要特殊的观察技巧就可以观察到彩色三维动态图形。
[0094]莫尔图像薄膜制备方便，微图形印刷成本低且分辨率高(微图形整体尺寸5um?10um,线宽0.5 μ m?20 μ m);金属掩膜版制作方便。
[0095]对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
[0096]此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
【权利要求】
1.一种基于微印刷的彩色动态立体莫尔图像薄膜，其特征在于，所述莫尔图像薄膜包括透明基材层、位于透明基材层一侧的微透镜阵列层、以及位于透明基材层另一侧的微图形阵列层，所述微透镜阵列层包括若干阵列排布的微透镜，所述微图形阵列层包括若干套阵列排布且具有不同颜色的微图形，所述微透镜的阵列排布与微图形的阵列排布相匹配。
2.根据权利要求1所述的莫尔图像薄膜，其特征在于，所述微透镜阵列层和微图形阵列层为正方形阵列排列方式或六角形阵列排列方式。
3.根据权利要求1所述的莫尔图像薄膜，其特征在于，所述微图形阵列层中微图形的整体尺寸为10 μ m?100 μ m,线宽为I μ m?20 μ m。
4.根据权利要求1所述的莫尔图像薄膜，其特征在于，所述莫尔图像薄膜的放大率为: M (r J))=----
(I H 厂2 - 2/.cos 其中，微透镜阵列与微图形阵列的周期比为r，相互之间的夹角为Θ。
5.根据权利要求4所述的莫尔图像薄膜，其特征在于，所述微透镜阵列与微图形阵列的周期比r为I时，所述莫尔图像薄膜的放大率为: M = -/ , \
2sin(0/2)。
6.根据权利要求1所述的莫尔图像薄膜，其特征在于，所述莫尔图像薄膜形成的莫尔图像移动的周期为:.h tan Φ I φ = 7
b , 其中，微透镜阵列的周期为a，微图形阵列的周期为b，微透镜阵列和微图形之间的距离为h，偏离垂直方向的观察角度为Φ。
7.—种如权利要求1所述的基于微印刷的彩色动态立体莫尔图像薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括: 51、提供一透明基材层； 52、在透明基材层一侧制备微透镜阵列层，所述微透镜阵列层包括若干阵列排布的微透镜； 53、在透明基材层另一侧制备微图形阵列层，所述微图形阵列层包括若干套阵列排布且具有不同颜色的微图形，所述微透镜的阵列排布与微图形的阵列排布相匹配。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤S3具体为: 将金属掩膜版放置于透明基材层上，并进行对准，金属掩膜版上包括若干阵列排布的镂空微图形结构； 在金属掩膜版的一端倒入油墨，用刮板在金属掩膜版的油墨部位施加一定压力，同时朝金属掩膜版另一端移动，油墨在移动中被刮板从镂空微图形结构挤压到透明基材层上，形成阵列排布的微图形； 重复上述步骤，在透明基材层上形成若干套阵列排布且具有不同颜色的微图形。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述金属掩膜版的制备方法具体为: 在金属衬底上均匀涂敷光刻胶或光刻干膜； 通过激光直写或光掩膜曝光，经过显影后形成浮雕型微图形结构； 通过金属电铸工艺，在金属衬底露底导电部分的表面形成金属沉积层； 去除光刻胶，并将金属沉积层从金属衬底上分离，形成具有镂空微图形结构的金属掩膜版。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述金属掩膜版的厚度为5um?10um0
11.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述金属掩膜版的材料为N1、Cu、N1-Co合金、或Fe-Ni合金。
12.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述金属掩膜版上设置有对位标志，透明基材层和金属掩膜版采用CXD或者机械套位对准。
【文档编号】B42D25/40GK104191860SQ201410428043
【公开日】2014年12月10日 申请日期:2014年8月27日 优先权日:2014年8月27日
【发明者】申溯, 朱昊枢, 朱鹏飞, 陈林森, 沈悦 申请人:苏州大学, 苏州苏大维格光电科技股份有限公司